触控模块及触控显示模块

技术领域

本发明涉及触控技术领域，具体涉及具有高阻水性的触控模块及触控显示模块。

背景技术

近年来，随着触控技术的不断发展，由于透明导体可同时让光穿过并提供适当的导电性，因此常应用于许多显示或触控相关的装置中。一般而言，透明导体可以是各种金属氧化物，例如氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)、氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)、氧化镉锡(Cadmium Tin Oxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-doped Zinc Oxide，AZO)。然而，这些金属氧化物所制成的薄膜并无法满足显示设备的可挠性需求。因此，现今发展出多种可挠性的透明导体，例如使用金属纳米线等材料所制作的透明导体。

然而，以金属纳米线制成的显示或触控装置尚有许多需要解决的问题。举例而言，使用金属纳米线制作触控电极，可能选择高分子膜层与金属纳米线搭配使用，但高分子膜层常是以有机材料制成，且其常延伸到装置的周边区导致外露，故环境中的水气/湿气容易从高分子膜层入侵，导致金属纳米线的可靠性不足。

发明内容

为了克服水气入侵速度过快造成金属纳米线发生电致迁移的问题，本发明提供一种具有水气阻绝层及/或合适材料的光学透明胶层的触控模块及触控显示模块，所述水气阻绝层及合适材料的光学透明胶层可减少水气入侵，以避免金属纳米线发生电致迁移或减缓金属纳米线发生电致迁移的时间，从而达到改善产品信赖性测试的规格要求。

本发明所采用的技术方案是：一种触控模块，包括基板、透明导电层以及水气阻绝层。透明导电层设置于基板上。水气阻绝层横向地延伸于透明导电层上，并覆盖透明导电层，且水气阻绝层包括无机材料。

在一些实施方式中，无机材料包括硅氮化合物(SiN

在一些实施方式中，水气阻绝层的厚度介于30nm至110nm之间。

在一些实施方式中，水气阻绝层沿着透明导电层的侧壁延伸至基板的内表面。

在一些实施方式中，透明导电层包括基质及分布于基质中的金属纳米结构。

在一些实施方式中，触控模块还包括涂层，设置于水气阻绝层与透明导电层之间。

在一些实施方式中，水气阻绝层沿着涂层的侧壁延伸以覆盖涂层。

在一些实施方式中，触控模块还包括光遮蔽层，设置于透明导电层与基板之间。

在一些实施方式中，水气阻绝层沿着光遮蔽层的侧壁延伸以覆盖光遮蔽层。

在一些实施方式中，触控模块还包括光学透明胶层，设置于水气阻绝层与透明导电层之间，光学透明胶层的饱和吸水率介于0.08％至0.40％之间。

本发明所采用的另一技术方案是：一种触控模块，包括基板、透明导电层以及光学透明胶层。透明导电层设置于基板上。光学透明胶层横向地延伸于透明导电层上，光学透明胶层的饱和吸水率介于0.08％至0.40％之间，且水气透水率介于37g/(m2*day)至1650g/(m2*day)之间。

在一些实施方式中，光学透明胶层的介电常数值介于2.24至4.30之间。

在一些实施方式中，光学透明胶层的厚度介于150μm至200μm之间。

在一些实施方式中，光学透明胶层沿着透明导电层的侧壁延伸至基板的内表面。

在一些实施方式中，触控模块还包括涂层，设置于光学透明胶层与透明导电层之间。

在一些实施方式中，光学透明胶层沿着涂层的侧壁延伸以覆盖涂层。

在一些实施方式中，触控模块还包括光遮蔽层，设置于透明导电层与基板之间。

在一些实施方式中，光学透明胶层沿着光遮蔽层的侧壁延伸以覆盖光遮蔽层。

在一些实施方式中，光学透明胶层沿着透明导电层的侧壁延伸至光遮蔽层的内表面。

在一些实施方式中，触控模块还包括水气阻绝层，设置于光学透明胶层与透明导电层之间，其中水气阻绝层包括无机材料。

本发明所采用的另一技术方案是：一种触控显示模块，包括基板、透明导电层、水气阻绝层以及显示面板。透明导电层设置于基板上。水气阻绝层横向地延伸于透明导电层上，并覆盖透明导电层，且水气阻绝层包括无机材料。显示面板设置于水气阻绝层上。

本发明提供一种具有水气阻绝层及/或合适材料的光学透明胶层的触控模块。水气阻绝层及/或合适材料的光学透明胶层可减少水气入侵，且合适材料的光学透明胶层还可降低水气传递的速度以及金属纳米线所产生的金属离子的迁移速度，以避免金属纳米线发生电致迁移或减缓金属纳米线发生电致迁移的时间，从而达到改善产品信赖性测试的规格要求。

附图说明

本发明内容的各方面，可由以下的详细描述，并与所附附图一起阅读，而得到最佳的理解。值得注意的是，根据产业界的普遍惯例，各个特征并未按比例绘制。事实上，为了清楚地说明和讨论，各个特征的尺寸可能任意地增加或减小。

图1是根据本发明内容一些实施方式的触控模块的侧视示意图；

图2是根据本发明内容另一些实施方式的触控模块的侧视示意图；

图3是根据本发明内容另一些实施方式的触控模块的侧视示意图；

图4是根据本发明内容另一些实施方式的触控模块的侧视示意图；

图5是根据本发明内容另一些实施方式的触控模块的侧视示意图；

图6是根据本发明内容另一些实施方式的触控模块的侧视示意图；

图7是根据本发明内容另一些实施方式的触控模块的侧视示意图；

图8是根据表1的各实施例所绘制的介电常数值─信赖性测试结果的曲线图；

图9是根据表1的各实施例所绘制的饱和吸水率─信赖性测试结果的曲线图；

图10是根据本发明内容另一些实施方式的触控模块的侧视示意图。

【符号说明】

100，200，300，400，500，600，700，800：触控模块

101，201，301，401，501，601，701，801：侧面

110，210，310，410，510，610，710，810：基板

120，220，320，420，520，620，720，820：第一透明导电层

130，230，330，430，530，630，730，830：第二透明导电层

140，240，340，440，540，640，740，840：水气阻绝层

150，250，350，450，550，650，750，850：显示面板

160，260，360，460，560，660，760，860：涂层

160a，260a，360a，460a，560a，660a，760a，860a：底涂层

160b，260b，360b，460b，560b，660b，760b，860b：中涂层

160c，260c，360c，460c，760c，860c：上涂层

161c，261c，761c：侧壁

170，270，370，470，570，670，770，870：光遮蔽层

171，271，371，471，571，671，771，871：内表面

273，473，673：侧壁

180，280，380，480，580，680，780，880：金属走线

190，290，390，490，590，690，790，890：光学透明胶层

211，411，611，811：内表面

DR：显示区

PR：周边区

H1-H3：厚度

具体实施方式

以下将以附图揭示本发明的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本发明。也就是说，在本发明部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的，因此不应用以限制本发明。此外，为简化附图起见，一些已知惯用的结构与组件在附图中将以简单示意的方式绘示。另外，为了便于读者观看，附图中各组件的尺寸并非依实际比例绘示。

此外，诸如“下”或“底部”和“上”或“顶部”的相对术语可在本文中用于描述一个组件与另一组件的关系，如图所示。应当理解，相对术语旨在包括除了图中所示的方位之外的装置的不同方位。例如，如果一个附图中的装置翻转，则被描述为在其他组件的“下”侧的组件将被定向在其他组件的“上”侧。因此，示例性术语“下”可以包括“下”和“上”的取向，取决于附图的特定取向。类似地，如果一个附图中的装置翻转，则被描述为在其它组件“下方”或“下方”的组件将被定向为在其它组件“上方”。因此，示例性术语“下面”或“下面”可以包括上方和下方的取向。

请参阅图1，其是根据本发明内容一实施方式的触控模块100的侧视示意图。触控模块100包括基板110、第一透明导电层120、第二透明导电层130以及水气阻绝层140。第一透明导电层120、第二透明导电层130以及水气阻绝层140依序堆叠于基板110上方。触控模块100还包括多个涂层160，涂层160可例如设置于基板100与第一透明导电层120之间以及第一透明导电层120与第二透明导电层130之间。在一些实施方式中，触控模块100还可包括显示面板150，堆叠于水气阻绝层140上方，使得触控模块100可进一步作为触控显示模块。在一些实施方式中，涂层160还可例如设置于第二透明导电层130与显示面板150之间。另外，当触控模块100配置以作为触控显示模块时，触控模块100具有显示区DR以及周边区PR，且周边区PR可设置有用于遮光的光遮蔽层170，其可例如是由深色的光阻材料或其他不透光的金属材料所形成。触控模块100的周边区PR具有至少一个侧面101为水气入侵面。本发明通过水气阻绝层140的设置来达到延长水气入侵的路径与时间的效果，以实现保护触控模块100中各种电极(例如，第一透明导电层120以及第二透明导电层130)的目的，从而达到改善产品信赖性测试的规格要求。在以下叙述中，将进行更详细的说明。

在一些实施方式中，第一透明导电层120可沿着第一轴向(例如，x轴向)设置，以将触控模块100在第一轴向上的触控感应信号传递至周边区PR以进行后续处理。换句话说，第一透明导电层120可作为水平触控感应电极。在一些实施方式中，第一透明导电层120可例如是氧化铟锡导电层。在其他实施方式中，第一透明导电层120亦可例如是氧化铟锌、氧化镉锡或掺铝氧化锌导电层。由于上述材料皆具有极佳的透光率，因此当触控模块100配置以作为触控显示模块时，上述材料不会影响触控显示模块100的光学性质(例如，光学透光度以及清晰度)。

在一些实施方式中，第二透明导电层130可沿着第二轴向(例如，y轴向)设置，以将触控模块100在第二轴向上的触控感应信号传递至周边区PR以进行后续处理。换句话说，第二透明导电层120可作为垂直触控感应电极。在一些实施方式中，第二透明导电层130可包括基质以及分布于基质中的多个金属纳米线(亦可称为金属纳米结构)。基质可包括聚合物或其混合物，从而赋予第二透明导电层130特定的化学、机械以及光学特性。举例而言，基质可提供第二透明导电层130与其他层别之间良好的粘着性。举另一例而言，基质亦可提供第二透明导电层130良好的机械强度。在一些实施方式中，基质可包括特定的聚合物，以使第二透明导电层130具有额外的抗刮擦/磨损的表面保护，从而提升第二透明导电层130的表面强度。上述特定的聚合物可例如是聚丙烯酸酯、环氧树脂、聚胺基甲酸酯、聚硅氧、聚硅烷、聚(硅-丙烯酸)或上述任意的组合。在一些实施方式中，基质还可包括界面活性剂、交联剂、稳定剂(例如包括但不限于抗氧化剂或紫外光稳定剂)、聚合抑制剂或上述任意的组合，从而提升第二透明导电层130的抗紫外线性能并延长其使用寿命。

在一些实施方式中，金属纳米线可包括但不限于纳米银线(silver nanowires)、纳米金线(gold nanowires)、纳米铜线(copper nanowires)、纳米镍线(nickelnanowires)或上述任意的组合。更详细而言，本文中的“金属纳米线”是一集合名词，其是指包括多个金属元素、金属合金或金属化合物(包括金属氧化物)的金属线的集合。此外，第二透明导电层130中所包括的金属纳米线的数量并不用以限制本发明。由本发明的于金属纳米线具有极佳的透光率，因此当触控模块100配置以作为触控显示模块时，金属纳米线可在不影响触控显示模块100的光学性质的前提下提供第二透明导电层130良好的导电性。

在一些实施方式中，单一金属纳米线的截面尺寸(即截面的直径)可小于500nm，较佳可小于100nm，且更佳可小于50nm，从而使得第二透明导电层130具有较低的雾度(亦可称为霾(haze))。详细而言，当单一金属纳米线的截面尺寸大于500nm时，将使得单一金属纳米线过粗，导致第二透明导电层130的雾度过高，从而影响显示区DR在视觉上的清晰度。在一些实施方式中，单一金属纳米线的纵横比可介于10至100000之间，使得第二透明导电层130可具有较低的电阻率、较高的透光率以及较低的雾度。详细而言，当单一金属纳米线的纵横比小于10时，可能使得导电网络无法良好地形成，导致第二透明导电层130具有过高的电阻率，也因此使得金属纳米线须以更大的排列密度(即单位体积的第二透明导电层130中所包括的金属纳米线的数量)分布于基质中方能提升第二透明导电层130的导电性，从而导致第二透明导电层130的透光率过低且雾度过高。应了解到，其他用语例如丝(silk)、纤维(fiber)或管(tube)等同样可具有上述截面尺寸以及纵横比，亦为本发明所涵盖的范畴。

如前所述，涂层160可设置于基板110与第一透明导电层120之间、第一透明导电层120与第二透明导电层130之间以及第二透明导电层130与显示面板150之间，以达到保护、绝缘或粘着的效果。在一些实施方式中，设置于基板110与第一透明导电层120之间的涂层160亦可称为底涂层160a，且设置于第一透明导电层120与第二透明导电层130之间的涂层160亦可称为中涂层160b，而设置于第二透明导电层130与显示面板150之间的涂层160亦可称为上涂层160c。在一些实施方式中，底涂层160a及上涂层160c可进一步延伸至位于周边区PR的光遮蔽层170的内表面171(即光遮蔽层170背对于基板110的表面)。在一些实施方式中，上涂层160c可横向地延伸并覆盖整个第二透明导电层130。在一些实施方式中，上涂层160c可为两层以上(例如，两层)，但本发明不以此为限。在一些实施方式中，位于最顶部的上涂层160c可进一步沿着各层别的侧壁(例如，上涂层160c及底涂层160a的侧壁)延伸至光遮蔽层170的内表面171，从而由触控模块100的侧面保护触控模块100。在一些实施方式中，触控模块100还可包括位于周边区PR并位于上涂层160c与底涂层160a之间的金属走线180，其可电性连接第二透明导电层130与软性电路板(未绘示)，以进一步将由第二透明导电层130产生的触控感应信号传递至外部集成电路以进行后续处理，而位于最顶部的上涂层160c可进一步沿着金属走线180的侧壁延伸至光遮蔽层170的内表面171。在一些实施方式中，涂层160的厚度H1可介于20nm至10μm之间、50nm至200nm之间、或30nm至100nm之间，从而达到良好的保护、绝缘或粘着的效果，并避免触控模块100整体的厚度过大。详细而言，当涂层160的厚度H1小于上述下限值时，可能导致涂层160无法提供良好的保护、绝缘或粘着功能；而当涂层160的厚度H1大于上述上限值时，则可能导致触控模块100整体的厚度过大，不利于制程且严重影响美观。

在一些实施方式中，上涂层160c可与第二透明导电层130形成复合结构而具有某些特定的化学、机械及光学特性。举例而言，上涂层160c可提供所述复合结构与其他层别之间良好的粘着性。举另一例而言，上涂层160c可提供所述复合结构良好的机械强度。在一些实施方式中，上涂层160c可包括特定的聚合物，以使所述复合结构具有额外的抗刮擦及抗磨损的表面保护，从而提升所述复合结构的表面强度。上述特定的聚合物可例如是聚丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯、环氧树脂、聚硅烷、聚硅氧、聚(硅-丙烯酸)或上述任意的组合。值得说明的是，本文的附图将上涂层160c与第二透明导电层130绘示为不同层，但在一些实施方式中，用于制作上涂层160c的材料在未固化前或在预固化的状态下可以渗入第二透明导电层130的金属纳米线之间而形成填充物，因此当上涂层160c固化后，金属纳米线亦可嵌入至上涂层160c中。

在一些实施方式中，涂层160的材料可例如是绝缘(非导电)的树脂或其他有机材料。举例而言，涂层160可包括聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚碳酸酯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物、聚(3,4-伸乙二氧基噻吩)、聚(苯乙烯磺酸)、陶瓷或上述任意的组合。在一些实施方式中，涂层160亦可包括但不限于以下任意聚合物：聚丙烯酸系树脂(例如，聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸酯及聚丙烯腈)；聚乙烯醇；聚酯(例如，聚对苯二甲酸乙二酯、聚酯萘二甲酸酯及聚碳酸酯)；具有高芳香度的聚合物(例如，酚醛树脂或甲酚-甲醛、聚乙烯基甲苯、聚乙烯基二甲苯、聚砜、聚硫化物、聚苯乙烯、聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚伸苯基及聚苯基醚)；聚胺基甲酸酯；环氧树脂；聚烯烃(例如，聚丙烯、聚甲基戊烯及环烯烃)；聚硅氧及其他含硅聚合物(例如，聚倍半氧硅烷及聚硅烷)；合成橡胶(例如，三元乙丙橡胶、乙丙橡胶及丁苯橡胶；含氟聚合物(例如，聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯及聚六氟丙烯)；纤维素；聚氯乙烯；聚乙酸酯；聚降冰片烯；以及氟-烯烃与烃烯烃的共聚物。

如前所述，由于涂层160的材料是亲水性佳的树脂或有机材料，且涂层160又延伸至周边区PR，因此使得触控模块100的周边区PR具有至少一个侧面101为水气入侵面。详细而言，图1所绘示的触控模块100的水气入侵面为最顶部的上涂层160c的侧壁161c。在其他实施方式中，当最顶部的上涂层160c并未沿着各层别的侧壁延伸至光遮蔽层170的内表面171时，水气入侵面则可为上涂层160c、金属走线180以及底涂层160a的侧壁。

在一些实施方式中，水气阻绝层140横向地延伸于最顶部的上涂层160c上，并覆盖整个最顶部的上涂层160c。另外，水气阻绝层140进一步沿着最顶部的上涂层160c的侧壁161c延伸至光遮蔽层170的内表面171，以覆盖最顶部的上涂层160c的侧壁161c，从而避免环境中的水气从水气入侵面入侵并攻击电极(例如，第二透明导电层130)。借此，可避免第二透明导电层130中的金属纳米线聚集或甚至析出，并防止金属走线180的短路，从而提升第二透明导电层130的在电性方面的灵敏度。在一些实施方式中，水气阻绝层140可例如是共形地(conformally)形成于最顶部的上涂层160c的表面及侧壁161c。在一些实施方式中，水气阻绝层140可例如包括硅氮化合物(SiN

在一些实施方式中，水气阻绝层140的厚度H2可介于30nm至110nm之间，以达到良好的阻水效果，并避免触控模块100整体的厚度过大。详细而言，当水气阻绝层140的厚度H2小于30nm时，可能导致环境中的水气无法有效地被隔绝；而当水气阻绝层140的厚度H2大于110nm时，则可能导致触控模块100整体的厚度过大，不利于制程且严重影响美观。另外，通过水气阻绝层140的无机材料的选择与水气阻绝层140的厚度H2的搭配，可使得水气阻绝层140达到较佳的阻水效果。举例而言，当单独使用硅氮化合物作为水气阻绝层140的无机材料时，水气阻绝层140的厚度H2可设置为约30nm。举另一例而言，当同时使用硅氮化合物以及硅氧化合物作为水气阻绝层140的无机材料时，水气阻绝层140的厚度H2可设置为介于40nm至110nm之间，其中硅氮化合物与硅氧化合物可为叠层设置，且硅氮化合物层的厚度可介于10nm至30nm之间，而硅氧化合物层的厚度可介于30nm至80nm之间。

在一些实施方式中，触控模块100还可包括设置于显示面板150与水气阻绝层140之间的光学透明胶(optically clear adhesive,OCA)层190，其可将显示面板150贴附至水气阻绝层140上，使得显示面板150与基板110可共同地将触控模块100的各功能层(例如，第一透明导电层120、第二透明导电层130、水气阻绝层140、涂层160、光遮蔽层170、金属走线180以及光学透明胶层190)夹置于两者之间。在一些实施方式中，光学透明胶层190可包括例如是橡胶、压克力或聚酯的绝缘材料。

在一些实施方式中，光学透明胶层190可延伸至周边区PR并于周边区PR形成至少一个水气入侵面。在一些实施方式中，光学透明胶层190的厚度H3可介于150μm至200μm之间。由于光学透明胶层190的厚度H3可影响环境中的水气通过光学透明胶层190时所行经的路径，因此通过将光学透明胶层190的厚度H3设置为介于150μm至200μm之间，可增加环境中的水气通过光学透明胶层190的路径及时间，以有效地减缓环境中的水气入侵并攻击电极，从而降低金属纳米线发生电致迁移的可能性，并可避免触控模块100整体的厚度过大。详细而言，当光学透明胶层190的厚度H3小于150μm时，可能导致环境中的水气通过光学透明胶层190的时间过短，使得环境中的水气可轻易地入侵并攻击电极；而当光学透明胶层190的厚度H3大于150μm时，则可能导致触控模块100整体的厚度过大，不利于制程且严重影响美观。

综上所述，本发明的触控模块100可达到良好的阻水气效果，从而达到改善产品信赖性测试的规格要求。在一些实施方式中，触控模块100在经过特定的测试条件(例如，温度为65℃、相对湿度为90％、通入11伏特的电压)下，可通过历时约504小时的电性测试，显示本发明的触控模块100可具有良好的信赖性测试结果。

请参阅图2，其是根据本发明内容一实施方式的触控模块200的侧视示意图。图2的触控模块200与图1的触控模块100的至少一差异在于：触控模块200的水气阻绝层240进一步沿着光遮蔽层270的侧壁273延伸至基板210的内表面211，并覆盖光遮蔽层270的侧壁273。在一些实施方式中，水气阻绝层240还可进一步横向地延伸于基板210的内表面211，并覆盖部分的基板210的内表面211。在一些实施方式中，水气阻绝层240可例如是共形地形成于各层(例如，涂层260、光遮蔽层270及基板210)的表面及侧壁。借此，水气阻绝层240可更加完整地由触控模块200的侧面保护触控模块200，从而较佳地避免或减缓环境中的水气入侵并攻击电极。在一些实施方式中，触控模块200在经过特定的测试条件(例如，温度为65℃、相对湿度为90％、通入11伏特的电压)下，可通过历时约504小时的电性测试，显示本发明的触控模块200可具有良好的信赖性测试结果。

请参阅图3，其是根据本发明内容一实施方式的触控模块300的侧视示意图。图3的触控模块300与图1的触控模块100的至少一差异在于：触控模块300中的水气阻绝层340取代了如图1所示的最顶部的上涂层160c。换句话说，图3的触控模块300中仅具有一层上涂层360c，且所述上涂层360c即为触控模块300的最顶部的上涂层360c，而水气阻绝层340直接覆盖于所述最顶部的上涂层360c的表面。另外，水气阻绝层340进一步沿着上涂层360c、金属走线380及底涂层360a的侧壁延伸至光遮蔽层370的内表面371，并覆盖上涂层360c、金属走线380及底涂层360a的侧壁。借此，水气阻绝层340可由触控模块300的侧面保护触控模块300，从而有效地避免或减缓环境中的水气入侵并攻击电极。另外，由于图3的触控模块300相较于图1的触控模块100省去了一层上涂层160c，因此图3的触控模块300相较于图1的触控模块100可具有较小的厚度，从而达到产品薄型化的需求。在一些实施方式中，触控模块300在经过特定的测试条件(例如，温度为65℃、相对湿度为90％、通入11伏特的电压)下，可通过历时约504小时的电性测试，显示本发明的触控模块300可具有良好的信赖性测试结果。

请参阅图4，其是根据本发明内容一实施方式的触控模块400的侧视示意图。图4的触控模块400与图3的触控模块300的至少一差异在于：触控模块400的水气阻绝层440进一步沿着光遮蔽层470的侧壁473延伸至基板410的内表面411，并覆盖光遮蔽层470的侧壁473。在一些实施方式中，水气阻绝层440还可进一步横向地延伸于基板410的内表面411，并覆盖部分的基板410的内表面411。在一些实施方式中，水气阻绝层440可例如是共形地形成于各层(例如，涂层460、金属走线480、光遮蔽层470及基板410)的表面及侧壁。借此，水气阻绝层440可更完整地由触控模块400的侧面保护触控模块400，以较佳地避免或减缓环境中的水气入侵并攻击电极。在一些实施方式中，触控模块400在经过特定的测试条件(例如，温度为65℃、相对湿度为90％、通入11伏特的电压)下，可通过历时约504小时的电性测试，显示本发明的触控模块400可具有良好的信赖性测试结果。

请参阅图5，其是根据本发明内容一实施方式的触控模块500的侧视示意图。图5的触控模块500与图3的触控模块300的至少一差异在于：触控模块500中的水气阻绝层540取代了如图3所示的最顶部的上涂层360c。换句话说，图5的触控模块500中不具有任何的上涂层，且水气阻绝层540直接横向地延伸于第二透明导电层530及金属走线580的表面，并覆盖第二透明导电层530及金属走线580。另外，水气阻绝层540进一步沿着金属走线580及底涂层560a的侧壁延伸至光遮蔽层570的内表面571，并覆盖金属走线580及底涂层560a的侧壁。借此，水气阻绝层540可由触控模块500的侧面保护触控模块500，从而有效地避免或减缓环境中的水气入侵并攻击电极。另外，由于图5的触控模块500不具有任何的上涂层，因此图5的触控模块500相较于图3的触控模块300可具有较小的厚度，从而达到产品薄型化的需求。在一些实施方式中，触控模块500在经过特定的测试条件(例如，温度为65℃、相对湿度为90％、通入11伏特的电压)下，可通过历时约504小时的电性测试，显示本发明的触控模块500可具有良好的信赖性测试结果。

请参阅图6，其是根据本发明内容一实施方式的触控模块600的侧视示意图。图6的触控模块600与图5的触控模块500的至少一差异在于：触控模块600的水气阻绝层640进一步沿着光遮蔽层670的侧壁673延伸至基板610的内表面611，并覆盖光遮蔽层670的侧壁673。在一些实施方式中，水气阻绝层640还可进一步横向地延伸于基板610的内表面611，并覆盖部分的基板610的内表面611。在一些实施方式中，水气阻绝层640可例如是共形地形成于各层(例如，涂层660、金属走线680、光遮蔽层670及基板610)的表面及侧壁。借此，水气阻绝层640可更完整地由触控模块600的侧面保护触控模块600，以较佳地避免或减缓环境中的水气入侵并攻击电极。在一些实施方式中，触控模块600在经过特定的测试条件(例如，温度为65℃、相对湿度为90％、通入11伏特的电压)下，可通过历时约504小时的电性测试，显示本发明的触控模块600具有良好的信赖性测试结果。

除了通过水气阻绝层的设置来避免或减缓环境中的水气入侵并攻击电极之外，在一些实施方式中，亦可通过光学透明胶层的材料特性的选择以及其厚度H3的设置，来避免金属纳米线发生电致迁移或减缓金属纳米线发生电致迁移的时间，从而达到改善产品信赖性测试的规格要求。详细而言，请参阅图7，其是根据本发明内容一实施方式的触控模块700的侧视示意图。图7的触控模块700与图1的触控模块100的至少一差异在于：图7的触控模块700不具有水气阻绝层140，且触控模块700的光学透明胶层790直接横向地延伸于最顶部的上涂层760c上，并覆盖最顶部的上涂层760c。另外，光学透明胶层790还可进一步沿着最顶部的上涂层760c的侧壁761c延伸至光遮蔽层770的内表面771，以覆盖最顶部的上涂层760c的侧壁761c。具体而言，可通过调整本发明的光学透明胶层790的介电常数值、饱和吸水率与水气透水率等特性以及光学透明胶层790的厚度H3，来达到上述功效。在以下叙述中，将进行更详细的说明。

在一些实施方式中，光学透明胶层790可包括例如是橡胶、压克力或聚酯的绝缘材料。在一些实施方式中，光学透明胶层790的介电常数值可介于2.24至4.30之间。由于当第二透明导电层730中的金属纳米线所产生的金属离子(例如，银离子)迁移至光学透明胶层790中时，光学透明胶层790的介电常数值可影响所述金属离子的迁移速率，因此通过选择介电常数值介于2.24至4.30之间的材料来制作光学透明胶层790，可降低金属离子于光学透明胶层790中的迁移率，从而降低金属纳米线发生电致迁移的可能性。详细而言，当光学透明胶层790的介电常数值小于2.24时，可能导致金属纳米线有较大的倾向迁移至光学透明胶层790中，使得金属纳米线发生电致迁移的可能性大幅地提升。

在一些实施方式中，光学透明胶层790的饱和吸水率可介于0.08％至0.40％之间。由于光学透明胶层790的饱和吸水率可影响光学透明胶层790吸收环境中的水气的速率，因此通过选择饱和吸水率介于0.08％至0.40％之间的材料来制作光学透明胶层790，可有效地降低环境中的水气进入光学透明胶层790的速率，以避免或减缓环境中的水气入侵并攻击电极，从而降低金属纳米线发生电致迁移的可能性。详细而言，当光学透明胶层790的饱和吸水率大于0.40％时，可能导致环境中的水气以过大的速率进入至光学透明胶层790中，使得金属纳米线发生电致迁移的可能性大幅地提升。在一些实施方式中，光学透明胶层790的饱和吸水率的测量方式可例如是将干燥的光学透明胶层790于称重后置入水中浸泡，并每隔24小时将光学透明胶层790取出以秤重，重复上述步骤直至光学透明胶层190的重量不再改变，此时光学透明胶层790的吸水率即为所述饱和吸水率。

在一些实施方式中，光学透明胶层790的水气透水率可介于37g/(m

在一些实施方式中，光学透明胶层790的厚度H3可介于150μm至200μm之间。由于光学透明胶层790的厚度H3可影响环境中的水气通过光学透明胶层790时所行经的路径，因此通过将光学透明胶层790的厚度H3设置为介于150μm至200μm之间，可增加环境中的水气通过光学透明胶层790的时间，以有效地减缓环境中的水气入侵并攻击电极，从而降低金属纳米线发生电致迁移的可能性，并可避免触控模块700整体的厚度过大。详细而言，当光学透明胶层790的厚度H3小于150μm时，可能导致环境中的水气通过光学透明胶层790的时间过短，使得环境中的水气可轻易地入侵并攻击电极；而当光学透明胶层790的厚度H3大于150μm时，则可能导致触控模块700整体的厚度过大，不利于制程且严重影响美观。

详细而言，针对上述光学透明胶层790的材料特性的选择以及其厚度H3的设置，请参阅表1，其具体列举出本发明的光学透明胶层790的各实施例以及以其所制作的产品(例如，触控模块700)的信赖性测试结果。

首先，请同时参阅表1及图8，图8是根据表1的各实施例所绘制的介电常数值─信赖性测试结果的曲线图。从图8可以看出，当光学透明胶层790的介电常数值较大时，以其所制作的触控模块700的信赖性测试结果显示为较佳。以实施例3为例，当光学透明胶层790的介电常数值为约2.30时，以其所制作的触控模块700在经过特定的测试条件(例如，温度为65℃、相对湿度为90％、通入11伏特的电压)下，可通过历时约504小时的电性测试，显示具有良好的信赖性测试结果。

接着，请同时参阅表1及图9，图9是根据表1的各实施例所绘制的饱和吸水率─信赖性测试结果的曲线图。从图9可以看出，当光学透明胶层790的饱和吸水率较小时，以其所制作的触控模块700的信赖性测试结果显示为较佳。以实施例3为例，当光学透明胶层790的饱和吸水率为约0.08％时，以其所制作的触控模块700在经过特定的测试条件(例如，温度为65℃、相对湿度为90％、通入11伏特的电压)下，可通过历时约504小时的电性测试，显示具有良好的信赖性测试结果。

请参阅图10，其是根据本发明内容一实施方式的触控模块800的侧视示意图。图10的触控模块800与图7的触控模块700的至少一差异在于：图10的触控模块800的光学透明胶层890进一步沿着光遮蔽层870的侧壁延伸至基板810的内表面811，并覆盖光遮蔽层870的侧壁。在一些实施方式中，光学透明胶层890还可进一步横向地延伸于基板810的内表面811，并覆盖部分的基板810的内表面811。在一些实施方式中，光学透明胶层890可共形地形成于各层(例如，涂层860以及光遮蔽层870)的表面及侧壁。借此，光学透明胶层890可更完整地由触控模块800的侧面保护触控模块800，从而较佳地避免或减缓环境中的水气入侵并攻击电极。在一些实施方式中，触控模块800在经过特定的测试条件(例如，温度为65℃、相对湿度为90％、通入11伏特的电压)下，其可通过历时约504小时的电性测试，显示本发明的触控模块800具有良好的信赖性测试结果。

应了解到，前述图1至图6所绘示的触控模块100至600亦可使用如图7或图10所绘示的光学透明胶层790至890，以使图1至图6的触控模块100至600除了受到水气阻绝层140至640的保护之外，还可受到具有特定材料特性的光学透明胶层的保护，从而达到较佳的阻水效果。

另一方面，本发明的触控模块可例如是具有改善的柔性并且能够在弯曲时减少裂纹的触控模块，也就是说，应用于本发明的触控模块的基板及光学透明胶层可具有一定程度的可挠性。基板的可挠性可通过基板的拉伸模量的调整来达成，且光学透明胶层的可挠性可通过光学透明胶层的储能模量的调整来达成。在以下叙述中，将以图1所绘示的触控模块100为例，以进行更详细的说明。

在一些实施方式中，基板110的拉伸模量可介于2000MPa至7500MPa之间，且当基板110与光学透明胶层190一起使用时还可获得改善的柔性。详细而言，当所述拉伸模量小于2000MPa时，可能导致触控模块100于弯曲后无法回复；而当所述拉伸模量大于7500MPa，则可能导致光学透明胶层190无法充分地减轻触控模块100所承受的过大的强度，从而使得触控模块100于弯曲后产生裂纹。在一些实施方式中，基板110的拉伸模量可通过控制基板110的树脂种类、厚度、固化度以及分子量来进行调节。

基板110可包括具有上述范围的拉伸模量的材料。举例而言，基板可包括例如是聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯及聚对苯二甲酸丁二醇酯的聚酯系膜；例如是二乙酰纤维素及三乙酰纤维素的纤维素系膜；聚碳酸酯系膜；例如是聚(甲基)丙烯酸甲酯及聚(甲基)丙烯酸乙酯的丙烯酸系膜；例如是聚苯乙烯及丙烯腈-苯乙烯共聚物的苯乙烯系膜；例如是聚乙烯、聚丙烯、环烯烃、环烯烃共聚物、聚降冰片烯及乙烯-丙烯共聚物的聚烯烃系膜；聚氯乙烯系膜；例如是尼龙及芳族聚酰胺的聚酰胺系膜；酰亚胺系膜；砜系膜；聚醚酮系膜；聚苯硫醚系膜；乙烯醇系膜；偏氯乙烯系膜；乙烯醇缩丁醛系膜；烯丙基化物系膜；聚甲醛系膜；氨基甲酸酯系膜；环氧系膜；以及硅系膜。另外，可在上述拉伸模量的范围内适当地调节基板110的厚度。举例而言，基板100的厚度可介于10μm至约200μm之间。

在一些实施方式中，光学透明胶层190在温度为约25℃时的储能模量可小于100kPa，且当光学透明胶层190与具有上述拉伸模量范围的基板110一起使用时，可使弯曲时的应力减轻以减少裂纹。在较佳的实施方式中，光学透明胶层190在温度为约25℃时的储能模量可介于10kPa至100kPa之间。另外，由于触控模块100可在各种环境中使用，因此其在较低温环境下的柔性亦是需要被改善的。在一些实施方式中，光学透明胶层190在温度为约-20℃时的储能模量可小于或等于其在温度为约25℃时的储能模量的3倍，使得光学透明胶层190在低温下亦可具有改善的柔性。在一些实施方式中，光学透明胶层190可例如是(甲基)丙烯酸系透明胶层、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物透明胶层、硅系透明胶层(例如，硅系树脂及硅树脂的共聚物)、聚氨酯系透明胶层、天然橡胶系透明胶层以及苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物系透明胶层。在一些实施方式中，可通过增加光学透明胶层190的材料中的全部单体中具有低玻璃化转变温度(例如，-40℃以下)的单体的比例，或者通过增加全部树脂中低官能度树脂(例如，3以下)的比例，来使光学透明胶层190在温度为约25℃及约-20℃时的储能模量介于上述范围内。

应了解到，已叙述过的组件连接关系、材料与功效将不再重复赘述，合先叙明。在以下叙述中，将以图1所绘示的触控模块100为例，以进一步说明触控模块100的制造方法。

首先，提供具有事先定义的显示区DR与周边区PR的基板110，并在基板110的周边区PR形成光遮蔽层170，以遮蔽于后续所形成的周边导线(例如，金属走线180)。随后，形成底涂层160a于基板110上，并使得底涂层160a进一步延伸至光遮蔽层170的内表面171以覆盖部分的光遮蔽层170。在一实施方式中，底涂层160a可用于调整基板110的表面特性，以利于后续金属纳米线层(例如，第二透明导电层130)的涂布制程，并可有助于提高金属纳米线层与基板110之间的附着力。接着，将透明导电材料(例如，氧化铟锡、氧化铟锌、氧化镉锡或掺铝氧化锌)形成于底涂层160a上，以于图案化后得到位于显示区DR并用于做为导电电极的第一透明导电层120。随后，形成中涂层160b以覆盖第一透明导电层120，使得第一透明导电层120可与后续所形成的第二透明导电层130彼此绝缘。

接着，将金属材料形成于底涂层160a上，并于图案化后得到位于周边区PR的金属走线180。在一些实施方式中，金属材料可直接选择性地形成于周边区PR而不成形于显示区DR。在其他实施方式中，金属材料可先整面地形成于周边区PR与显示区DR，再通过微影蚀刻等步骤移除位于显示区DR的金属材料。在一些实施方式中，可使用化学镀的方式将金属材料沉积于基板110的周边区PR，化学镀是在无外加电流的情况下借助合适的还原剂，使镀液中的金属离子在金属触媒的催化下还原成金属，并镀覆于欲执行化学镀的表面，此过程亦可称为无电镀或自身催化镀。在一些实施方式中，可先将催化材料形成于基板110的周边区PR而不形成于基板110的显示区DR，由于显示区DR中并不具有催化材料，故金属材料仅沉积于周边区PR而不成形于显示区DR。在进行无电镀的反应时，金属材料可在具有催化/活化能力的催化材料上成核，而后通过金属材料的自我催化继续成长为金属膜。本发明的金属走线180可由导电性较佳的金属材料所构成，较佳为单层金属结构，例如银层、铜层等；或亦可为多层金属结构，例如钼/铝/钼层、钛/铝/钛层、铜/镍层或钼/铬层，但并不以此为限。上述金属结构较佳为不透光，例如可见光(如波长介于400nm至700nm之间)的光穿透率小于约90％。

随后，将用于做为导电电极的第二透明导电层130形成于底涂层160a、中涂层160b以及金属走线180上。具体而言，第二透明导电层130的第一部分位于显示区DA，并附着于底涂层160a以及中涂层160b的表面，而第二透明导电层130的第二部分位于周边区PR，并附着于底涂层160a以及金属走线180的表面。在一些实施方式中，第二透明导电层130可通过使用包括有金属纳米线的分散液或浆料经涂布、固化、干燥成型以及微影蚀刻等步骤所形成。在一些实施方式中，分散液可包括溶剂，从而将金属纳米线均匀地分散于其中。具体而言，溶剂可例如是水、醇类、酮类、醚类、烃类、芳香类溶剂(苯、甲苯或二甲苯)或上述任意的组合。在一些实施方式中，分散液还可包括添加剂、界面活性剂及/或粘合剂，以提升金属纳米线与溶剂之间的兼容性及金属纳米线于溶剂中的稳定性。具体而言，添加剂、界面活性剂及/或粘合剂可例如是二磺酸盐、羧甲基纤维素、羟乙基纤维素、羟丙甲纤维素、磺酸酯、硫酸酯、磷酸酯、磺基琥珀酸酯、含氟界面活性剂或上述任意的组合。

在一些实施方式中，涂布步骤可例如包括但不限于网版印刷、喷头涂布或滚轮涂布等制程。在一些实施方式中，可采用卷对卷(roll to roll)制程将包括金属纳米线的分散液均匀地涂布至连续供应的底涂层160a、中涂层160b以及金属走线180的表面。在一些实施方式中，固化及干燥成型步骤可使得溶剂挥发，并使得金属纳米线随机地分布于底涂层160a、中涂层160b以及金属走线180的表面。在较佳的实施方式中，金属纳米线可固着于底涂层160a、中涂层160b以及金属走线180的表面而不脱落，且金属纳米线可彼此接触以提供连续的电流路径，从而形成一导电网络(conductive network)。

在一些实施方式中，可进一步对金属纳米线进行后处理，从而提高其导电度，此后处理例如包括但不限于加热、电浆、电晕放电、紫外线、臭氧或压力等步骤。在一些实施方式中，可使用一或多个滚轮对金属纳米线施加压力。在一些实施方式中，所施加的压力可介于50psi至3400psi之间。在一些实施方式中，可同时对金属纳米线进行加热及加压的后处理。在一些实施方式中，滚轮的温度可被加热至介于70℃与200℃之间。在较佳的实施方式中，金属纳米线可暴露于还原剂中以进行后处理。举例而言，当金属纳米线为纳米银线时，其可暴露于银还原剂中进行后处理。在一些实施方式中，银还原剂可包括例如硼氢化钠的硼氢化物、例如二甲基胺基硼烷的硼氮化合物或例如氢气的气体还原剂。在一些实施方式中，暴露时间可介于10秒至30分钟之间。

接着，形成至少一上涂层160c以覆盖第二透明导电层130。在一些实施方式中，可使用涂布的方式将上涂层160c的材料形成于第二透明导电层130的表面。在一些实施方式中，上涂层160c的材料可进一步渗入至第二透明导电层130的金属纳米线之间以形成填充物，并随后经固化而与金属纳米线形成一复合结构层。在一些实施方式中，可使用加热烘烤的方式使上涂层160c的材料干燥并固化。在一些实施方式中，加热烘烤的温度可介于60℃至150℃之间。应了解到，上涂层160c与第二透明导电层130之间的实体结构不用以限制本发明。具体而言，上涂层160c与第二透明导电层130可为两层结构的堆叠，或两者相互混合以形成复合结构层。在较佳的实施方式中，第二透明导电层130中的金属纳米线嵌入至上涂层160c中以形成复合结构层。

随后，将包括有基板110、第一透明导电层120、第二透明导电层130以及涂层160的结构(半产品)放置于一真空镀膜设备中，以进行真空镀膜，从而将水气阻绝层140形成于上涂层160c的表面及侧壁161c。由于水气阻绝层140是在真空的环境下镀于上涂层160c的表面及侧壁161c，因此水气阻绝层140与上涂层160c的表面及侧壁161c之间的搭接可更为紧密，从而确保水气阻绝层140与上涂层160c之间不存在任何缝隙，以提升产品的良率。另外，在真空环境下形成的水气阻绝层140还可具有较为紧实的结构，从而较佳地避免环境中的水气入侵并攻击电极。另一方面，将包括有有基板110、第一透明导电层120、第二透明导电层130以及涂层160的结构放置于真空镀膜设备中，亦可使得上述各层之间更紧密地堆叠，从而降低各层之间的阻抗。详细而言，请参阅表2，其具体列举出本发明的各实施例的触控模块100于进行真空镀膜前、后所测得的阻抗值。

从表2可以看出，本发明的各实施例的触控模块100于进行真空镀膜后所测得的阻抗值皆明显小于其进行真空镀膜前所测得的阻抗值，且以实施例1为例，进行真空镀膜前、后的阻抗值的变化率最大可为约19.39％，显示上述真空镀膜的方法确实可有效地降低触控模块100的阻抗值。

接着，将光学透明胶层190形成于水气阻绝层140上，从而通过光学透明胶层190来固定显示面板150。在一些实施方式中，可使用涂布的方式将光学透明胶层190的材料形成于水气阻绝层140的表面。在其他实施方式中，亦可使用前述真空镀膜的方式将光学透明胶层190的材料形成于水气阻绝层140的表面，从而使得光学透明胶层190与水气阻绝层140之间的搭接更为紧密，以提升产品的良率。

综上所述，本发明提供一种具有水气阻绝层及/或合适材料的光学透明胶层的触控模块。水气阻绝层及/或合适材料的光学透明胶层可减少环境中的水气入侵，且合适材料的光学透明胶层还可降低水气传递的速度以及金属纳米线所产生的金属离子的迁移速度，以避免金属纳米线发生电致迁移或减缓金属纳米线发生电致迁移的时间，从而达到改善产品信赖性测试的规格要求。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明保护的范围之内。