体素模型贴图方法和体素模型贴图装置

技术领域

本发明涉及一种体素模型贴图方法和体素模型贴图装置。

背景技术

随着硬件技术的发展，3D建模和3D渲染广泛用于工业设计、医学诊断、游戏等领域。3D建模主要技术有体素建模和多边形建模等方法。多边形建模是将物体表面划分为多边形而进行建模，该方法的缺点是只有空洞的外形，与现实真实的物体差距很大。体素建模优点是体素建模是由三维的小体积单元组成，具有一定的厚度、体积，因而更能体现真实的三维结构和性质。体素建模的缺点是渲染时，对引擎内存的占用较高，特别是颗粒划分越细占用越多，对渲染引擎的算力有较高占用。

在体素建模中，对物体进行体素化建模后，得到3D物体建模数据，可以使用材质数据对体素单元表面进行贴图，得到3D的体素单元贴图数据。贴图就是根据体素单元需要贴图的像素位置对应的坐标映射到UV坐标系中得到UV坐标的过程。在渲染引擎进行渲染时会使用上述信息进行体素渲染。

在计算机图形学中，上述贴图是使用图像、函数或其他数据源来改变物体表面外观的技术。通过将可能的光学模型作为投影函数运用于空间中的点 ，得到一组参数空间坐标，再使用一个或者多个映射函数将参数空间坐标转换到UV空间。上述的光学模型越复杂，效果越好，但对引擎的资源占用就越高。

在相关技术中，通常使用虚幻引擎的材质系统单独的渲染Shader，将一个贴图沿一个方向投影到三维空间中，形成一种贴花材质。主要原理就是将三维空间的位置，转换到二维UV空间，然后按UV空间位置，取贴图上对应点的颜色。但它只有一个投影轴，其它轴方向材质图案会拉伸，容易出现图像失真，如图9所示。

另一种相关技术中，在体素渲染场景中，一个体素模型是由多个大小相同材质相同的立方体组成的。由于每个方块都是同种材质，导致整块大模型材质不是平铺的，而是以多个重复图案组成的。使体素模型表现效果不好，由其是观察距离越远重复效果越明显。出现图像失真、图像质量差的问题。

在另一种相关技术中，体素渲染采用神经网络模型等复杂的模型，能获得较好的效果，但是这种方法计算过程复杂，特别当体素颗粒越小时，渲染场景复杂时，对渲染引擎的算力要求过高，从而限制了其更广泛的应用，一般用于医学、工业设计，而在视频直播、在线游戏等需要实时进行大量渲染的场景下很难推广使用。

例如，专利文献CN103927395A公开了一种游戏场景的转换方法，其特征在于，包括以下步骤：自所述游戏场景中导出若干种不同的场景元素的原始数据；设定期望的单元体素的边长，结合所述单元体素的边长，分别将若干种所述场景元素的原始数据转换为体素数据，所述体素数据在所述体素场景中表现为体素模块；根据所有所述场景元素的体素模块在所述游戏场景中的相对位置，拼接所有所述场景元素的体素模块，获得体素场景；在所述体素场景内裁剪获取目标对象的目标空间范围内的体素区域，将所述体素区域以三维张量的形式作为神经网络的输入，以获取所述目标对象的空间特征。

上述相关技术中使用的方法，由于体素建模本身占用虚幻引擎的资源较多，又采用了复杂的算法模型，因此会造成计算量过大，输出卡顿等情况。

发明内容

本发明要解决的是相关技术中体素模型贴图出现的贴图时材质图案拉伸、材质图案重复，从而导致输出图像质量不佳的问题，同时避免过于复杂的算法对引擎资源的过量占用，提出一种能解决上述图像质量问题并且同时能节省渲染引擎资源的体素模型贴图方法。

针对上述存在的局限性，本发明提出了一种体素模型贴图方法，包括以下步骤：

步骤S103：获得体素模型上像素位置的世界空间坐标在X轴、Y轴、Z轴方向的投影UV坐标值；

步骤S105：求出世界空间中像素位置的顶点法线向量与X轴、Y轴、Z轴的相似度；

步骤S107：根据所述投影UV坐标值和所述相似度进行判断，获得输出的UV坐标值；

步骤S109：对体素模型上所有像素位置重复上述步骤S103-S107。

进一步地：所述获得像素位置的世界空间坐标在X轴、Y轴、Z轴方向的投影UV坐标值的方法为：

步骤S200：创建参数：XDistance、YDistance、ZDistance，为所述XDistance、所述YDistance、所述ZDistance设立初始值；

步骤S201：计算X轴投影UV坐标值：

将像素位置的世界空间坐标与所述XDistance相乘，取G通道值作为U坐标值，B通道值作为V坐标值；

步骤S203：计算Y轴投影UV坐标值：

将像素位置的世界空间坐标与所述YDistance相乘，取R通道值作为U坐标值，B通道值作为V坐标值；

步骤S205：计算Z轴投影UV坐标值：

将像素位置的世界空间坐标与所述ZDistance相乘，取R通道值作为U坐标值，G通道值作为V坐标值。

进一步地： 所述获得世界空间中像素位置的顶点法线向量与X轴、Y轴、Z轴的相似度的方法为：

步骤S301：获取世界空间中像素位置的顶点法线向量的坐标，将其进行归一化得到单位法线向量；

步骤S303：将单位法线向量与X轴向量 (1, 0, 0)计算点积，取其绝对值，获得所述顶点法线向量与X轴相似度；

步骤S305：将单位法线向量与Y轴向量 (0, 1, 0)计算点积，取其绝对值，获得所述顶点法线向量与Y轴相似度；

步骤S307：将单位法线向量与Z轴向量 (0, 0, 1)计算点积，取其绝对值，获得所述顶点法线向量与Z轴相似度。

进一步地：根据所述投影UV坐标值和所述相似度进行判断，获得输出的UV坐标值的方法为：

步骤S400：创建参数：相似度阈值，为所述相似度阈值设立初始值；

步骤S401：如果所述顶点法线向量与Z轴相似度≥相似度阈值，取Z轴投影UV坐标值作为结果一；否则，取UV坐标默认值作为结果一；

步骤S403：如果所述顶点法线向量与Y轴相似度≥相似度阈值，取Y轴投影UV坐标值作为结果二；否则，取结果一作为结果二；

步骤S405：如果所述顶点法线向量与X轴相似度≥相似度阈值 取X轴投影UV坐标值作为结果三；否则，取结果二作为结果三；

步骤S407：输出结果三。

进一步地：根据所述投影UV坐标值和所述相似度进行判断，获得输出的UV坐标值的方法为：

步骤S500：创建参数：X轴相似度阈值、Y轴相似度阈值、Z轴相似度阈值，为所述X轴相似度阈值、所述Y轴相似度阈值、所述Z轴相似度阈值设立初始值；

步骤S501：如果所述顶点法线向量与Z轴相似度≥Z轴相似度阈值，取Z轴投影UV坐标值作为结果一；否则，取UV坐标默认值作为结果一 ；

步骤S503：如果所述顶点法线向量与Y轴相似度≥Y轴相似度阈值，取Y轴投影UV坐标值作为结果二；否则，取结果一作为结果二；

步骤S505：如果所述顶点法线向量与X轴相似度≥X轴相似度阈值，取X轴投影UV坐标值作为结果三；否则，取结果二作为结果三；

步骤S507：输出结果三。

一种体素模型贴图装置，包括：

UV坐标值获取模块601：获得体素模型上像素位置的世界空间坐标在X轴、Y轴、Z轴方向的投影UV坐标值；

相似度获取模块602：获得世界空间中所述像素位置顶点法线向量与X轴、Y轴、Z轴的相似度；

判断模块603：基于所述投影UV坐标值和所述相似度进行判断，获得输出的UV坐标值；

像素位置遍历模块604：对体素模型上所有像素位置进行遍历获取所有像素位置对应的UV坐标值。

进一步地：所述获得体素模型上像素位置的世界空间坐标在X轴、Y轴、Z轴方向的投影UV坐标值的方法基于所述步骤S200-步骤S205。

进一步地：所述获得世界空间中所述像素位置顶点法线向量与X轴、Y轴、Z轴的相似度的方法基于所述步骤S301-步骤S307。

进一步地：所述基于所述投影UV坐标值和所述相似度进行判断，获得输出的UV坐标值的方法基于所述步骤S400-步骤S407。

进一步地：所述基于所述投影UV坐标值和所述相似度进行判断，获得输出的UV坐标值的方法基于所述步骤S500-步骤S507。

与相关技术相对比，本发明具有以下优点：

通过引入像素位置顶点法线向量与各投影轴之间的相似度，从而考虑了各个像素位置的所在表面的实际朝向对贴图的影响，并且生成UV坐标时考虑了像素位置的在世界空间中的分布，从而避免了相关技术中存在的体素渲染时，每个体素单元材质图案重复，导致图像质量差的问题。从而实现了在进行体素渲染时，图像更加真实、质感更细腻，实现了更高的图像输出质量。本发明的方法计算量小，对引擎资源占用小，可以快速的运用于大型场景的渲染，且渲染效果好。

附图说明

图1为本发明一个实施例的世界空间坐标示意图。

图2本发明一个实施例的体素模型贴图方法的流程图。

图3为本发明一个实施例的计算各投影轴UV坐标值的流程图。

图4为本发明一个实施例的获取法线向量与投影轴相似度的流程图。

图5为本发明一个实施例的利用相似度获取UV坐标值的流程图。

图6为本发明一个实施例的利用相似度获取UV坐标值的流程图。

图7为本发明一个实施例的贴图时体素单元为立方体的示意图。

图8为相关技术中贴图时体素单元贴图重复平铺的示意图。

图9是相关技术中贴图时体素单元贴图出现拉伸失真的示意图。

图10本发明一个实施例的体素模型贴图装置的结构图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面对本发明进行进一步详细说明。但是应该理解，此处所描述仅仅用以解释本发明，并不用于限制本发明的范围。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术术语和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同，本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在限制本发明。本文中所涉及的表征手段均可参阅现有技术中的相关描述，本文中不再赘述。

为了进一步了解本发明，下面结合最佳实施例对本发明作进一步的详细说明。

实施例1

图1为本发明一个实施例的世界空间坐标示意图，图2是本发明一个实施例的体素模型贴图方法的流程图。如图1、图2所示，一种体素模型贴图方法，包括以下步骤：

步骤S103：获得体素单元上像素位置的世界空间坐标在X轴、Y轴、Z轴方向的投影UV坐标值；

步骤S105：求出世界空间中像素位置的顶点法线向量与X轴、Y轴、Z轴的相似度；

步骤S107：根据所述投影UV坐标值和所述相似度进行判断，获得输出的UV坐标值；

步骤S109：对体素模型上所有像素位置重复上述步骤S103-S107。

世界空间坐标是图像建模所在的在全局空间中的坐标。如图1所示，像素位置在世界空间坐标中可以表示为（a，b，c）。a为在x轴的坐标值，b为在y轴坐标值，c为在z轴方向的坐标值。材质系统是建模时对材质信息进行建模的系统。在材质系统中，将世界空间位置信息表示为R、G、B三个通道的数值。因此，所述像素位置在材质系统中RGB坐标也等于（a，b，c）。在贴图过程中将材质贴在物体表面上，表面上的每一个点对应一个像素位置。像素位置坐标就是上述表面上的点，在世界空间的坐标。材质贴在物体表面上的点的过程，就相当于将像素位置在世界空间的坐标映射到材质系统中UV坐标的过程。像素位置代表的点的法线方向表征了该点表面的朝向。

投影UV坐标值：

在材质系统中，求向某个坐标值的投影UV值定义如下：由于在材质系统中用XYZ值作为RGB通道的值，因此，

求X轴方向投影的UV坐标值，即取G通道值为U坐标值、取B通道值为V坐标值。

求Y轴方向投影的UV坐标值，即取R通道值为U坐标值、取B通道值为V坐标值。

求Z轴方向投影的UV坐标值，即取R通道值为U坐标值、取G通道值为V坐标值。

所述相似度定义：

（1）将向量进行归一化；

（2）求两个向量坐标的点积；

（3）求上述步骤（2）中点积的绝对值。

例如，对两个向量T

Dot（T

所述Dot（T

其中x

在步骤（1）中进行向量归一化的作用是把数变为（-1，1）之间的小数，把向量长度映射到-1～1范围之内，取绝对值的作用是保证上述相似度的值在0~1之间（包括端点0、1），从而可以简单与阈值相比较。

所述相似度的计算体现了像素位置的法线方向与各坐标轴X、Y、Z的关系，用于进一步计算和输出UV坐标值使用。

向量的归一化公式为：

T

世界空间中像素位置的顶点法线向量即世界空间中，像素位置对应的点上垂直于该点所在处表面的向量。当体素单元为正方体或长方体时，在建模的世界空间中，该法线方向可以简单通过体素模型的体素单元自身物体空间坐标轴，相对于世界空间坐标轴的位置关系来计算。如图1所示。由于在建模时，建立体素单元时即具有体素单元物体空间坐标和世界空间坐标的关系，即使发生旋转等操作（即一种空间映射），由于旋转前后的坐标关系是可知的，因此上述物体空间坐标轴，相对于世界空间坐标轴的位置的关系始终是可知的，因此法线向量也是可以获取的。例如以在某建模软件中，可以使用VertexNormalWS方法获取该向量，但不限于上述方法，在其他建模工具中有不同的函数可以获取该向量，但是只要根据上述原理而获得法线向量的坐标的方式均可。

因此，上述获取法线向量计算相似度的方法在建模引擎中消耗的算力较少。

上述实施例中，体素单位为正方体，当体素单位为其他形状时，也可以根据其表面微分方程求解其法线分布函数，从而应用本发明的方法，实现对不同材质的真实模拟，如表面微观结构为球形、圆柱形、圆锥形等，但不限于上述形状。

步骤109为对构成体素模型的所有体素单元的所有表面的像素进行遍历计算。根据需要可以只计算裸露在外表面的正方形像素，例如在物体为不透明时；也可以对所有体素单元的所有表面的正方形像素进行计算，例如物体为半透明等情况时。还可以根据光源方向对某些朝向进行计算。可以根据需要任意设定，不限于以上形式。为了节省算力的情况下，可以将多个立方体之间重合的四边面剔除，以得到组成所述体素模型外表面的目标四边面，从而优化渲染时的计算量，但不限于上述优化形式。

通过引入像素位置顶点法线向量与各投影轴之间的相似度，从而考虑了各个像素位置的所在表面的实际朝向对贴图的影响，并且生成UV坐标时考虑了像素位置的在世界空间中的分布，从而避免了相关技术中存在的体素渲染时，每个体素单元材质图案重复，导致图像质量差的问题。从而实现了在进行体素渲染时，图像更加真实、质感更细腻，实现了更高的图像输出质量。本发明的方法计算量小，对引擎资源占用小，可以快速的运用于大型场景的渲染，且渲染效果好。

实施例2

在实施例1的方法的基础上，进一步地：所述获得像素位置的世界空间坐标在X轴、Y轴、Z轴方向的投影UV坐标值的方法为：

步骤S200：创建参数：XDistance、YDistance、ZDistance，为所述XDistance、所述YDistance、所述ZDistance设立初始值；

步骤S201：计算X轴投影UV坐标值：

将像素位置的世界空间坐标与所述XDistance相乘，取G通道值作为U坐标值，B通道值作为V坐标值；

步骤S203：计算Y轴投影UV坐标值：

将像素位置的世界空间坐标与所述YDistance相乘，取R通道值作为U坐标值，B通道值作为V坐标值；

步骤S205：计算Z轴投影UV坐标值：

将像素位置的世界空间坐标与所述ZDistance相乘，取R通道值作为U坐标值，G通道值作为V坐标值。

向某个坐标轴方向投影，即忽略该坐标轴的对应坐标值，只考虑其他两个轴方向坐标值。由于在上述材质系统中，将XYZ坐标值表示为RGB通道的值。以向X轴方向投影为例，按上述原理，应取Y、Z坐标值，由于在材质系统中Y坐标值=G通道值，Z坐标值=B通道值，因此取G通道值作为U坐标值，B通道值作为V坐标值；其他坐标值同理不再赘述。

所述参数XDistance、YDistance、ZDistance设为浮点数。

上述参数主要作用为，在世界中空中所述像素的坐标值往往是很大的数值。如果不将世界中空中所述像素的坐标值进行适当转换，UV空间中只会截取其小数范围的值，忽略了整数部分的值，从而造成图案重复，材质贴图效果不好的问题。因此通过设置合理的XDistance、YDistance、ZDistance数值，将像素的坐标值映射到合理范围，从而避免了上述问题，提高输出图像的质量。而且该参数可以根据具体的应用场景，如场景的实际尺寸来进行调整，从而可以简单的适配各种应用场景。

例如，向z轴投影时，假设像素位置x坐标为500 ，设置XDistance=0.001，获取U值就是0.5，否则获取的U值为0。

以上只是举例说明，实际应用时本发明不限于上述应用。上述XDistance、YDistance、ZDistance数值可以根据实际建模需要、材质质量等进行设定，只要满足将世界空间坐标能够合理的映射到UV坐标上即可。可以调整上述参数XDistance、YDistance、ZDistance的数值使图案不重复，也可以调整该数值使图案在允许次数内重复，从而节省算力。

进一步地： 所述获得世界空间中像素位置的顶点法线向量与X轴、Y轴、Z轴的相似度的方法为：

步骤S301：获取世界空间中像素位置的顶点法线向量的坐标，将其进行归一化得到单位法线向量；

步骤S303：将单位法线向量与X轴向量 (1, 0, 0)计算点积，取其绝对值，获得所述顶点法线向量与X轴相似度；

步骤S305：将单位法线向量与Y轴向量 (0, 1, 0)计算点积，取其绝对值，获得所述顶点法线向量与Y轴相似度；

步骤S307：将单位法线向量与Z轴向量 (0, 0, 1)计算点积，取其绝对值，获得所述顶点法线向量与Z轴相似度。

进一步地：根据所述投影UV坐标值和所述相似度进行判断，获得输出的UV坐标值的方法为：

步骤S400：创建参数：相似度阈值，为所述相似度阈值设立初始值；

步骤S401：如果所述顶点法线向量与Z轴相似度≥相似度阈值，取Z轴投影UV坐标值作为结果一；否则，取UV坐标默认值作为结果一；

步骤S403：如果所述顶点法线向量与Y轴相似度≥相似度阈值，取Y轴投影UV坐标值作为结果二；否则，取结果一作为结果二；

步骤S405：如果所述顶点法线向量与X轴相似度≥相似度阈值 取X轴投影UV坐标值作为结果三；否则，取结果二作为结果三；

步骤S407：输出结果三。

所述UV坐标默认值为预设值。

通过设立合适的相似度阈值，可以快速方便的调整对各坐标轴投影时相似度的要求。进一步地：上述方法还可以分别为不同坐标轴设立独立的相似度阈值：X轴相似度阈值、Y轴相似度阈值、Z轴相似度阈值带入上述步骤，可以根据不同坐标轴的投影权重，调整UV坐标的取值，从而适配更多的应用场景。

进一步地：根据所述投影UV坐标值和所述相似度进行判断，获得输出的UV坐标值的方法为：

步骤S500：创建参数：X轴相似度阈值、Y轴相似度阈值、Z轴相似度阈值，为所述X轴相似度阈值、所述Y轴相似度阈值、所述Z轴相似度阈值设立初始值；

步骤S501：如果所述顶点法线向量与Z轴相似度≥Z轴相似度阈值，取Z轴投影UV坐标值作为结果一；否则，取UV坐标默认值作为结果一 ；

步骤S503：如果所述顶点法线向量与Y轴相似度≥Y轴相似度阈值，取Y轴投影UV坐标值作为结果二；否则，取结果一作为结果二；

步骤S505：如果所述顶点法线向量与X轴相似度≥X轴相似度阈值，取X轴投影UV坐标值作为结果三；否则，取结果二作为结果三；

步骤S507：输出结果三。

另外，还可以根据实际应用场景，例如光源方向等，调整上述步骤S400-步骤S407或步骤S500-步骤S507中，轮询的坐标轴的顺序，例如可以以X、Z、Y顺序，Y、X、Z顺序等，不限于上述顺序，只要是三个坐标轴的排列组合均可。

与相关技术相对比，本发明具有以下优点：

通过引入像素位置顶点法线向量与各投影轴之间的相似度，从而考虑了各个像素位置的所在表面的实际朝向对贴图的影响，并且生成UV坐标时考虑了像素位置的在世界空间中的分布，从而避免了相关技术中存在的体素渲染时，每个体素单元材质图案重复，导致图像质量差的问题。从而实现了在进行体素渲染时，图像更加真实、质感更细腻，实现了更高的图像输出质量。本发明的方法计算量小，对引擎资源占用小，可以快速的运用于大型场景的渲染，且渲染效果好。

参数的设置，能将像素位置的坐标值映射到合理范围，从而避免了在贴图过程中，材质图案重复的问题，进一步提高输出图像的质量。而且该参数可以根据具体的应用场景来进行快速调整，从而可以简单的进行调整以适配各种应用场景。

在不同的应用场景下，可以通过更改相似度阈值，设置投影时对与该坐标轴相似度的要求，从而适用于不同的应用场景和不同的效果需求。在设立各坐标轴相似度阈值时，还可以简单通过调整上述参数，从而调整贴图过程中对各坐标轴投影的权重，从而实现更精确的贴图效果。

实施例3

图10为本发明一个实施例的体素模型贴图装置的结构图，一种体素模型贴图装置，包括：

UV坐标值获取模块601：获得体素模型上像素位置的世界空间坐标在X轴、Y轴、Z轴方向的投影UV坐标值；

相似度获取模块602：获得世界空间中所述像素位置顶点法线向量与X轴、Y轴、Z轴的相似度；

判断模块603：基于所述投影UV坐标值和所述相似度进行判断，获得输出的UV坐标值；

像素位置遍历模块604：对体素模型上所有像素位置进行遍历获取所有像素位置对应的UV坐标值。

进一步地：其他具体方法基于实施例1或2。

本发明所的体素模型贴图装置，通过引入像素位置顶点法线向量与各投影轴之间的相似度，从而考虑了各个像素位置的所在表面的实际朝向对贴图的影响，并且生成UV坐标时考虑了像素位置的在世界空间中的分布，从而避免了相关技术中存在的体素渲染时，每个体素单元材质图案重复，导致图像质量差的问题。从而实现了在进行体素渲染时，图像更加真实、质感更细腻，实现了更高的图像输出质量。该装置造成的计算量小，对引擎资源占用小，可以快速的运用于大型场景的渲染，且渲染效果好。

实施例4

在实施例3的装置的基础上，进一步地：所述获得体素模型上像素位置的世界空间坐标在X轴、Y轴、Z轴方向的投影UV坐标值的方法基于所述步骤S200-步骤S205。

进一步地：所述获得世界空间中所述像素位置的顶点法线向量与X轴、Y轴、Z轴的相似度的方法基于所述步骤S301-步骤S307。

进一步地：所述基于所述投影UV坐标值和所述相似度进行判断，获得输出的UV坐标值的方法基于所述步骤S400-步骤S407。

进一步地：所述基于所述投影UV坐标值和所述相似度进行判断，获得输出的UV坐标值的方法基于所述步骤S500-步骤S507。

进一步地：其他具体方法基于实施例1或2。

与相关技术相对比，本发明的装置具有以下优点：

通过引入像素位置顶点法线向量与各投影轴之间的相似度，从而考虑了各个像素位置的所在表面的实际朝向对贴图的影响，并且生成UV坐标时考虑了像素位置在世界空间中的分布，从而避免了相关技术中存在的体素渲染时，每个体素单元材质图案重复，导致图像质量差的问题。从而实现了在进行体素渲染时，图像更加真实、质感更细腻，实现了更高的图像输出质量。本发明的方法计算量小，对引擎资源占用小，可以快速的运用于大型场景的渲染，且渲染效果好。

参数的设置，能将像素位置的坐标值映射到合理范围，从而避免了在贴图过程中，材质图案重复的问题，进一步提高输出图像的质量。而且该参数可以根据具体的应用场景来进行快速调整，从而可以简单的进行调整以适配各种应用场景。

在不同的应用场景下，可以通过更改相似度阈值，设置投影时对与该坐标轴相似度的要求，从而适用于不同的应用场景和不同的效果需求。在设立各坐标轴相似度阈值时，还可以简单通过调整上述参数，从而调整贴图过程中对各坐标轴投影时的权重，从而实现更精确的贴图效果。

在本发明的实施例中，本发明的体素模型贴图方法可以用于体素渲染场景，可以理解，所述体素贴图方法不限于上述应用，只要是能够使用本发明的方法的发明构思的建模、渲染场景均可。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。