摄影术、电影术、利用了光波以外其他波的类似技术、电记录术、全息摄影术

  • 一种鼓单元及处理盒
    一种鼓单元及处理盒

    本发明公开一种鼓单元,包括鼓保持框架、感光鼓和鼓联轴器,感光鼓由鼓保持框架可旋转地支撑,用于接收显影剂生成静电潜像;鼓联轴器设置在感光鼓的一端,能够与感光鼓传动连接;其中,鼓联轴器设有抓合部,抓合部设置成,当处理盒安装到电子成像装置时,抓合部夹紧电子成像装置的驱动力传递构件,进而与驱动力传递构件形成驱动连接。一种处理盒,包括上述的鼓单元。本发明的鼓单元和处理盒,通过鼓联轴器上设置抓合部,抓合驱动力传递构件进行传递驱动力,达到了驱动连接稳定,驱动力传递顺畅的效果,提高了处理盒的品质;并且处理盒不接收制动力可设置更多的旋转部件或与感光鼓接触的清洁装置,不会存在动力不足等缺陷。

    2024-04-22
  • 光罩组件及显示面板
    光罩组件及显示面板

    本发明公开了一种光罩组件及显示面板,光罩组件包括:第一图案层,第一图案层包括第二图案部,以及围绕第二图案部的第一图案部,第一图案部具有第一边缘,第一边缘与第一图案层的边缘至少部分重合,至少部分第一图案部的第一边缘设有向第二图案部凹陷的第一凹槽部;静电防护部,在垂直第一图案层所在平面的方向上,静电防护部与第一凹槽部投影至少部分交叠。通过静电防护部以将光罩组件在生产、运输、曝光使用等过程中所产生的静电从第一边缘处导走、释放,避免光罩组件的边缘出现静电击伤,有效提高了产品生产良率,降低了成本。

    2024-04-22
  • 一种驱动装置及摄像模组
    一种驱动装置及摄像模组

    本申请公开了一种驱动装置及摄像模组,其中,驱动装置包括:底座;防抖框架,防抖框架被可活动地连接于底座;对焦载体,对焦载体被可活动地连接于防抖框架;磁石部,磁石部被设置于防抖框架,磁石部包括第一磁石、第二磁石和第三磁石,第二磁石与第三磁石相对地设置于第一磁石的两侧;防抖线圈部,防抖线圈部被设置于底座并与磁石部相对;对焦线圈部,对焦线圈部被设置于对焦载体并与磁石部相对,其中,对焦线圈部具有与第一磁石的长度方向相互平行的直边段,以及连接于直边段并与第一磁石的长度方向呈一定夹角的斜边段。

    2024-04-22
  • 一种长寿命氙气爆闪补光装置
    一种长寿命氙气爆闪补光装置

    本发明涉及补光设备技术领域,公开了一种长寿命氙气爆闪补光装置,安装有发光件切换组件,该发光件切换组件包括活动板,设有至少两个发光件和弧型槽;电路板,设有第一驱动结构、第二驱动结构和滑移结构,该第一驱动结构驱动活动板运动,且第一驱动结构的输出端设有限位件,该第二驱动结构驱动活动板旋转,并带动限位件移动;当两个发光件进行切换时,该第一驱动结构驱动发光件移至预设位置,后第二驱动结构发光件旋转,并使限位件由弧型槽的第一位置移至第二位置,后第一驱动结构驱动发光件移至初始位置,实现发光件的切换。本发明提供的一种长寿命氙气爆闪补光装置,具有至少两个可自动切换的发光件,可满足市场全周期应用的要求。

    2024-04-22
  • 显影剂供给装置和成像设备
    显影剂供给装置和成像设备

    一种显影剂供给装置用于将容纳在显影剂容器中的显影剂朝向成像设备的设备主体中的显影装置供给,所述显影剂供给装置包括输送通道、显影剂接收部、副料斗和输送管。所述输送通道输送从所述显影剂容器排出的显影剂。显影剂接收部相对于所述显影剂容器可卸下和可安装。副料斗相对于所述显影装置可卸下和可安装,存储朝向所述显影装置排出的所述显影剂。具有柔性的输送管具有连接到所述显影剂接收部的第一端部和连接到所述副料斗的第二端部,将所述显影剂从所述显影剂接收部输送到所述副料斗。所述显影剂供给装置相对于所述成像设备的所述设备主体可卸下和可安装,并保持所述显影剂接收部、所述副料斗和所述输送管之间的连接。

    2024-04-21
  • 基板搬送机构、光刻装置以及物品的制造方法
    基板搬送机构、光刻装置以及物品的制造方法

    本发明提供有利于装置简化的基板搬送机构、光刻装置以及物品的制造方法。基板搬送机构具有包括保持基板的面的保持部、使上述保持部移动的移动部以及对上述移动部的移动进行引导的导向件,上述导向件的形状是通过上述移动部沿着上述导向件移动而使得上述面的角度变化那样的形状,上述保持部一边在上述面倾斜的状态下保持上述基板一边由上述移动部移动。

    2024-04-21
  • 药液的供给方法、图案形成方法
    药液的供给方法、图案形成方法

    本发明的课题在于提供一种能够进一步减少药液中的杂质含量的药液的供给方法。并且,本发明的课题还在于提供一种图案形成方法。本发明的药液的供给方法为通过半导体器件用装置所具备的管路内供给含有有机溶剂的药液的药液的供给方法,该药液的供给方法具有:气体压送工序,通过使用气体进行加压而送出上述药液,上述气体中含有的水分量相对于上述气体的总质量为0.00001~1质量ppm。

    2024-04-21
  • 描绘装置以及描绘方法
    描绘装置以及描绘方法

    本发明提供一种对基板照射光来进行图案的描绘的描绘装置以及描绘方法,在描绘装置(1)的载物台(21)设置有保持基板(9)的基板保持部(25)。描绘头部(41)向基板(9)照射调制后的光。刻度部(52)在载物台21上与基板保持部(25)在主扫描方向上相邻地设置。在刻度部(52)位于描绘头部(41)的下方的校准位置的状态下,校准照相机(53)对从描绘头部(41)向刻度部(52)照射的规定的校准图案进行拍摄。在描绘装置(1)中,在载物台(21)位于进行基板(9)相对于基板保持部(25)的搬入搬出的搬入搬出位置的状态下,刻度部(52)位于校准位置。由此,能够抑制周期时间的增大并进行描绘头部(41)的校准。

    2024-04-20
  • 极紫外光板上的接合层
    极紫外光板上的接合层

    一种设备包含光罩盒。所述光罩盒包含具有第一表面的基座板、具有第二表面的盖及至少一个层。所述第一表面包含第一配合表面。所述第二表面包含第二配合表面。所述至少一个层经接合到所述第一配合表面的至少一部分及所述第二配合表面的至少一部分中的一或多者。当所述盖经附接到所述基座板时,所述第一表面及所述第二表面在所述第一配合表面及所述第二配合表面处重叠。

    2024-04-20
  • 曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法
    曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法

    本发明提供曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。曝光装置具有:快门,其对来自光源的光的遮断与通过进行切换;移动部,其保持基板并使基板移动;以及控制部,其进行控制使得由移动部使基板移动,以在第一曝光期间中使第一区域进行曝光,在第一曝光期间之后的中断期间中在快门使来自光源的光通过的状态下使光源的照度低于第一曝光期间中光源的照度,由此使第一区域的曝光中断,在中断期间之后的第二曝光期间中在快门使来自光源的光通过的状态下使光源的照度高于中断期间中光源的照度,由此使第一区域进行曝光,在第二曝光期间之后的移动期间中在快门将来自光源的光遮断的状态下使在第一区域之后要曝光的第二区域进行曝光。

    2024-04-20
  • 可变光圈控制方法、可变光圈、摄像模组和电子设备
    可变光圈控制方法、可变光圈、摄像模组和电子设备

    本申请涉及电子设备技术领域,提供一种可变光圈控制方法、可变光圈、摄像模组和电子设备,包括:当接收到用户对可变光圈的档位调节操作后,响应该档位调节操作,给可变光圈的光圈马达通电流,控制光圈马达将可变光圈的光圈叶片驱动到档位调节操作对应光圈档位的目标位置。之后,根据图像传感器的曝光状态对可变光圈进行间断供电。其中,图像传感器的曝光状态包括曝光阶段和非曝光阶段。在曝光阶段对可变光圈供电,在非曝光阶段停止可变光圈的供电。由此可见,该方法相比持续性提供稳定电流来说,通过在曝光阶段供电、非曝光阶段断电的间断供电方式,能够在不影响成像的同时减少一定的电流消耗,降低功耗。

    2024-04-20
  • 一种处理盒
    一种处理盒

    本发明提供一种处理盒,可拆卸地安装到电子照相图像形成装置的主组件中,电子照相图像形成装置设置有分离控制部件,处理盒包括:第一单元,包括感光部件;第二单元,第二单元包括显影部件,可在显影位置和间隔位置之间移动;处理盒还包括:保持部分,与第二单元或所述第一单元固定连接;支撑部,与第一单元或第二单元连接,支撑部分用于支撑保持部分,使得第二单元保持在间隔位置;力接收部件,用于接收分离控制部件的作用力,以控制第二单元在显影位置和间隔位置之间移动;此种结构的处理盒,其相对第二单元或第一单元的位置出现错位的概率被大大降低,分离更为精准和稳定,结构更为简单,制造成本更低。

    2024-04-20
  • 照明系统与投影装置
    照明系统与投影装置

    本发明提出的照明系统包括激发光源、波长转换模块、分光模块和光均匀化元件。分光模块具有传递区和分光区,激发光源的激发光束由传递区入射至波长转换模块,激发光束由波长转换模块的至少一波长转换区转换成至少一波长转换光束以及激发光束被波长转换模块的反射区所反射,且来自波长转换模块的激发光束经由分光模块的分光区形成第一子激发光束与第二子激发光束。第一子激发光束与第二子激发光束形成激发合光光束。光均匀化元件用于均匀化激发合光光束与至少一波长转换光束,且激发合光光束入射光均匀化元件的角度大于至少一波长转换光束入射光均匀化元件的角度的0.25倍。借由应用本发明的投影装置所投射出的影像画面可具有良好的画面品质。

    2024-04-19
  • 空间光学相机的镜头盖无源驱动锁紧机构及其装配方法
    空间光学相机的镜头盖无源驱动锁紧机构及其装配方法

    本发明涉及一种空间光学相机的镜头盖无源驱动锁紧机构及其装配方法,包括扭簧支架、扭簧轴、扭簧、固体润滑扭簧轴套、轴套座、第一扭簧压板、第二扭簧压板、柔性固定端和与柔性固定端卡接配合的刚性运动端;扭簧支架固定在镜筒结构件上,扭簧轴同时穿过扭簧支架和扭簧后两端分别与固体润滑扭簧轴套紧密贴合接触,固体润滑扭簧轴套与轴套座紧密贴合接触,每个轴套座与镜头盖固定;预紧后的扭簧插入第一扭簧压板上的凹槽后,第一扭簧压板、第二扭簧压板、镜头盖依次固定连接。本发明采用了无源驱动方案,实现了转动机构的轨迹稳定、固体润滑摩擦;基于无源结构件,无功耗需求;采用固体润滑方式,转动摩擦较小且避免了冷焊情况的发生。

    2024-04-19
  • 耗材容器及其芯片更换方法、打印设备
    耗材容器及其芯片更换方法、打印设备

    本发明提供一种耗材容器及其芯片更换方法、打印设备,该耗材容器包括盒体,盒体的侧壁上设置有主芯片安装位,主芯片安装在主芯片安装位上,主芯片上设置有主触点;其中,盒体的侧壁上还设置有辅助芯片安装位,一辅助芯片可拆卸的安装到辅助芯片安装位上,辅助芯片上设置有辅助触点;主芯片与辅助芯片之间设置有连接件,连接件设置有连接触片,连接触片的第一端与主触点电连接,连接触片的第二端与辅助触点电连接,连接触片使用导电材料制成。该方法是在耗材容器内的打印耗材重新灌注后更换辅助芯片。该打印设备包括机体,机体内可拆卸地安装有上述耗材容器。本发明能方便的让使用者自行更换辅助芯片,实现耗材容器的重复使用。

    2024-04-19
  • 一种模板夹持机构及气压式纳米压印设备
    一种模板夹持机构及气压式纳米压印设备

    本发明公开了一种模板夹持机构及气压式纳米压印设备,包括模板夹持机构、底座,所述底座上设有下腔体和上腔体,所述下腔体与上腔体之间密封连接有所述模板夹持机构,所述模板夹持机构内连接有PET薄膜,所述上腔体与下腔体之间设有真空腔,所述PET薄膜分割所述真空腔,所述PET薄膜朝向所述上腔体一侧为上腔室、朝向所述下腔体一侧为下腔室,所述上腔室、下腔室之间通过压力差对PET薄膜进行固定;所述底座上设有伸缩杆,所述伸缩杆的伸缩端连接有真空吸盘,所述真空吸盘与所述下腔体密封连接,所述真空吸盘朝向所述模板夹持机构的一侧连接有晶圆,所述晶圆正对所述PET薄膜。

    2024-04-18
  • 一种无腐蚀型光阻剥除剂
    一种无腐蚀型光阻剥除剂

    本发明公开了一种无腐蚀型光阻剥除剂,包括如下重量份的组分:有机胺、有机溶剂、有机碱类渗透催化剂和缓释剂组合物;所述的缓释剂组合物包括组分A和组分B;所述的组分A为五元环或六元环的含氮杂环类化合物;所述的组分B为镧系元素的硫酸盐,醋酸盐或硝酸盐。本发明可以有效且快速的剥除与基材结合力强且较厚的抗蚀剂,同时不会在剥除过程中引起铜面的腐蚀或异色及贾凡尼效应。

    2024-04-18
  • 图形修正方法
    图形修正方法

    一种图形修正方法,包括:获得探测版图,所述探测版图包括若干所述第一曝光图形和若干所述第二曝光图形,通过在探测版图内建立粗探测区的方法,且以所述第一曝光图形与所述第二曝光图形相邻的轮廓边为第一轮廓边,以所述第二曝光图形与所述第一曝光图形相邻的轮廓边为第二轮廓边,获取所述第一轮廓边和所述第二轮廓边之间的最小距离值,所述最小距离值用于计算相邻所述第一曝光图形和所述第二曝光图形之间的桥连缺陷的概率,所述最小距离值越小,产生桥连缺陷的概率越大,仅将可能产生桥连缺陷的第一轮廓边和第二轮廓边包括在各精细探测区内进行计算,而不需要对所有的轮廓边的检测点进行计算,极大地减少了计算量,利于缩短数据处理时间。

    2024-04-17
  • 一种辅助图形的优化方法、系统及存储介质
    一种辅助图形的优化方法、系统及存储介质

    本发明涉及光刻技术领域,特别涉及一种辅助图形的优化方法、系统及存储介质,本发明的方法用于对掩模中需要放置散射条的主图形的散射条有序放置与清理,包括:对掩模的主图形进行数据处理以获取主图形周围的预设面积,基于该预设面积确定至少两种不同优先级的散射条;基于同一优先级,放置散射条,并清理所述散射条;基于不同优先级,保留高优先级清理结果中的散射条,放置低优先级的散射条,清理低优先级的散射条;直至所有优先级的散射条放置完毕,输出最末优先级的散射条清理后掩模作为优化掩模。通过对不同优先级的散射条单独放置及清理,并在其它优先级散射条清理时锁定,防止被误清理,进而提升了曝光图形的曝光质量。

    2024-04-17
  • 基于晶圆曲翘变化的照片曝光偏移补偿控制方法及装置
    基于晶圆曲翘变化的照片曝光偏移补偿控制方法及装置

    本发明公开了基于晶圆曲翘变化的照片曝光偏移补偿控制方法及装置,涉及半导体加工技术领域,其技术方案要点是:沉积掩模后测量照片曝光前的晶圆曲翘;结合晶圆曲翘和照片曝光的尺寸参数计算晶圆各处的曝光偏移补偿值;依据曝光偏移补偿值对晶圆照片曝光进行偏移补偿控制。本发明在照片曝光之前,测量沉积掩模后所形成的晶圆翘曲,结合晶圆曲翘和照片曝光的尺寸参数计算晶圆各处的曝光偏移补偿值,并依据曝光偏移补偿值对照片曝光位置和宽度进行预先调整,使得晶圆翘曲恢复后进行晶圆蚀刻时的位置与照片曝光对齐,有效保证了晶圆各处图形能够均匀稳定的形成,同时避免出现晶圆边缘ADI/ACI倾斜越来越大的情况。

    2024-04-17
  • 一种打印机UV固化的碳粉的制备方法
    一种打印机UV固化的碳粉的制备方法

    本发明涉及一种碳粉,具体涉及一种打印机UV固化的碳粉的制备方法。一种打印机UV固化的碳粉的制备方法,包括以下步骤:混炼和挤塑;粉碎和分级;改性和过筛。本发明采用UV固化树脂和光引发剂作为碳粉原料,能够实现碳粉的紫外光固化,且紫外光固化速度比热固化快,进而提升碳粉的固化速度,并选用复合光引发剂使体系吸光能力得到加强,能够扩大吸收波长的区域,增加紫外光辐射量吸收,提高光引发活性,能够在紫外光下快速引发树脂固化,从而碳粉提高固化效率,缩短固化时间。

    2024-04-16
  • 一种提高陶瓷加热条定影效果的工艺方法
    一种提高陶瓷加热条定影效果的工艺方法

    本发明属于陶瓷加热条技术领域,具体涉及一种提高陶瓷加热条定影效果的工艺方法,包括以下步骤:(1)、在氧化铝陶瓷基板上表面的两端印刷电极材料,烘干、烧结形成电极;(2)、在氧化铝陶瓷基板上印刷发热浆料,发热浆料将两端电极连接,烘干、烧结形成发热丝;(3)、在氧化铝陶瓷基本下表面印刷玻璃浆料,烘干、烧结形成背面玻璃层;(4)、在发热浆料上印刷玻璃浆料,烘干、烧结形成正面玻璃层;本发明有效的解决了现有陶瓷加热条,定影效果较差的问题。

    2024-04-16
  • 减反射膜的制备方法、压模和减反射膜
    减反射膜的制备方法、压模和减反射膜

    本申请公开了一种减反射膜的制备方法、压模和减反射膜,该方法如下步骤:提供第一模板,第一模板包括平板状的主体,第一模板还具有多个间隔布置的第一凹陷部;提供第一基板,并在第一基板表面形成材料层,第一基板上的图案转印至材料层,材料层形成第二模板,第二模板包括平板状的主体,第二模板还具有多个间隔设置的第二凹陷部;将第一模板与第二模板对位组装形成压模,组装过程中,第二模板随第一模板的第一凹陷部变形产生第三凹陷部,第二凹陷部在压模上的密度大于第三凹陷部在压模上的密度;提供一基材,将压模上的第二凹陷部和第三凹陷部转印至基材上,形成减反射膜。克服了现有的减反射膜制作过程中压模制造难度高的技术问题。

    2024-04-15
  • 一种芯片光刻胶剥离剂组合物、其制备方法与应用
    一种芯片光刻胶剥离剂组合物、其制备方法与应用

    本发明涉及一种芯片光刻胶剥离剂组合物,按照重量份计算,包括如下组分:羟基功能化离子液体0.1‑6份;糖醇聚酯1‑10份;磺酸类化合物5‑50份;双醚类溶剂5‑50份;去离子水10‑60份。本发明使用羟基功能化离子液体,其可以减少游离的腐蚀性铝离子,生成保护性网络;同时羟基可提高亲水性,抑制电化学腐蚀。糖醇聚酯中的亲水基团和亲油基团可大幅降低液体表面张力,增强液体的渗透性和扩散性。磺酸类化合物与双醚类溶剂作用下,磺酸类化合物提供强劲的裂解驱动力,双醚类移除裂解产物;在特定配比条件下,可显著提高光刻胶的去除速度和效果,增强渗透性,使剥离剂组分充分接触光刻胶,双醚挥发性更低,使用更安全。

    2024-04-14
  • 一种光刻设备晶圆传控方法及光刻设备
    一种光刻设备晶圆传控方法及光刻设备

    本发明提供了一种光刻设备晶圆传控方法及光刻设备,该方法包括:获取光刻设备内的不同工作位,确定工作位之间的传输关系,并设定工作位的作业动作分别对应的手势动作;当晶圆置于光刻设备时,检测用户与光刻设备之间的接触,若接触与手势动作相对应,确定相对应的手势动作对应的作业动作;根据传输关系确定执行对应的作业动作的至少两条传输路径,根据预先设定的传输策略从传输路径中选择出最优传输路径并执行。通过本发明,简化了用户对光刻设备的指令输入,并实现了晶圆耗时最短的传控,以进一步保证光刻设备的产能。

    2024-04-14
  • 打印控制方法及装置、图像形成设备、设备、存储介质
    打印控制方法及装置、图像形成设备、设备、存储介质

    本发明公开打印控制方法及装置、图像形成设备、设备、存储介质,该方法包括设定定影加热目标温度和加热控制功率表,其中,加热控制功率表包括设备预热阶段加热控制功率表、打印预热阶段控制功率表、打印阶段加热功率表中的至少两种,设备预热阶段加热控制功率表、打印预热阶段控制功率表、打印阶段加热功率表分别存储有具有关联关系的温差值与加热功率;获取定影模块当前温度;根据目标温度与当前温度的温差值和图像形成设备当前所处阶段从对应的功率表中得到当前加热功率;控制定影模块采用当前加热功率进行加热。本发明通过在不同场景采用不同加热控制功率表,适应不同的加热速度需求,使定影温度快速稳定到达所需要的目标温度,提升用户体验。

    2024-04-14
  • 一种套刻标记图案的绘制方法、系统及存储介质
    一种套刻标记图案的绘制方法、系统及存储介质

    本发明涉及光刻技术领域,特别涉及一种套刻标记图案的绘制方法、系统及存储介质,本发明的套刻标记图案的绘制方法包括以下步骤:提供一芯片设计版图,基于预设工具获取该芯片设计版图的套刻标记图形的筛选参数及筛选参数表格;基于筛选参数表格形成套刻标记图形并分类;基于筛选参数对分类后的套刻标记图形以预设组合方式进行组合,获取多组标记;调用筛选参数表格,获取每组标记的自定义参数;基于自定义参数将多组标记转换为图形文件并输出。通过该方法将变量参数进行匹配及调整再输出,能提高数据之间的转化效率,套刻误差的测量速率,从而节省运算时间。

    2024-04-14
  • 一种投影装置
    一种投影装置

    本申请提供了一种投影装置,包括混合光源,用于发出混合光,所述混合光包括激光和LED光;第一光阑,设置于所述混合光源的出光光路上;匀光器件,设置于所述第一光阑的出光光路上;第二光阑,设置于所述匀光器件的出光光路上;以及光调制组件,设置于所述第二光阑的出光光路上。本申请可以对混合光进行有效的匀光,匀光效果好,而且使能够减少无效的混合光入射到光调制组件上,提高了光调制组件对混合光的成像质量。

    2024-04-14
  • 驱动切换装置、片材搬送装置以及图像形成装置
    驱动切换装置、片材搬送装置以及图像形成装置

    本发明提供一种驱动切换装置、片材搬送装置以及图像形成装置。本发明的驱动切换装置包括:包覆构件,能够旋转地设于被设在包括驱动部的框体的支撑轴,旋转到覆盖所述框体的内部的闭止位置与露出所述框体的内部的开放位置;输入部,设于所述包覆构件,输入由所述包覆构件的旋转所产生的位移;解除部,包括凸轮,所述凸轮在所述框体的内部设在与所述输入部隔开的方向上,且联动于所述输入部的移动而移动,当所述包覆构件旋转到所述开放位置侧时,通过所述凸轮来切断所述驱动部的驱动传递路径;以及多个连杆,连接于所述输入部与所述凸轮,当所述包覆构件旋转时,使所述凸轮朝与所述输入部移动的方向相反的方向移动。

    2024-04-14
  • 量测装置和光刻装置
    量测装置和光刻装置

    公开了一种并行量测传感器系统,包括参考框架和多个集成光学器件传感器头,每个集成光学器件传感器头被配置为执行独立测量。集成光学器件传感器头中的每个集成光学器件传感器头能够操作以测量其相对于参考框架的位置。

    2024-04-13
  • 一种光源系统和投影装置
    一种光源系统和投影装置

    本申请保护一种光源系统,包括:第一光模块,第一光模块包括第一光源和第二光源,第一光源用于发出第一光,第二光源用于发出第二光。第二光模块,第二光模块包括第三光源,第三光源用于发出第三光。合光模块,合光模块用于将第一光、第二光和第三光进行合光,其中,第一光和第二光的光学扩展量大于第三光的光学扩展量,第三光为红激光,第三光源到合光模块的出光口的光路距离大于第一光源到合光模块的出光口的光路距离,第三光源到合光模块的出光口的光路距离大于第二光源到合光模块的出光口的光路距离。相较于波长合光的方案,降低了对合光模块中光学元件的设计难度和制造难度。

    2024-04-13
  • 用于偏轴照明投影的装置、计算机实现的方法和计算机程序产品以及用途
    用于偏轴照明投影的装置、计算机实现的方法和计算机程序产品以及用途

    本公开的实施方案提供利用偏轴瞄准器对准的瞄准器照明的改善的投影。一些实施方案减少了来自瞄准器照明的光反射率对装置的部件的负面影响,同时在距目标对象更大的范围内增强了瞄准器照明的强度水平。一个示例性实施方案包括集成模制偏轴瞄准器透镜,该集成模制偏轴瞄准器透镜包括:光聚焦透镜,该光聚焦透镜具有输入面和输出面;轴重定向透镜,该轴重定向透镜具有成角度的前表面,其中该轴重定向透镜沿第一轴定向,其中该轴重定向透镜与该光聚焦透镜的该输出面对准;以及瞄准器光源,该瞄准器光源与该光聚焦透镜的该输入面对准,其中该瞄准器光源沿与该第一轴不同的第二轴定向。

    2024-04-13
  • 层叠体、层叠体的制造方法及图案形成方法
    层叠体、层叠体的制造方法及图案形成方法

    本发明涉及一种层叠体,其由半导体基板与形成在所述半导体基板上的光敏性树脂层构成,所述层叠体的特征在于,所述光敏性树脂层包含含有有机硅骨架的树脂或丙烯酸树脂,所述半导体基板在一侧具有段差面,所述段差面的凹部被预湿溶剂填满,并在其之上形成有所述光敏性树脂层。由此,可提供一种层叠体,该层叠体通过使用包含含有有机硅骨架的树脂或丙烯酸树脂的光敏性组合物,段差基板的段差面的凹部被所述树脂充分填埋,从而可提供平坦的光敏性树脂覆膜,本发明还提供材料损耗少的所述层叠体的制造方法及使用了所述层叠体的图案形成方法。

    2024-04-11
  • 一种图形量测方法、装置、电子设备及存储介质
    一种图形量测方法、装置、电子设备及存储介质

    本申请提供了一种图形量测方法、装置、电子设备及存储介质,方法包括:根据版图坐标系与晶圆坐标系之间的偏移量,对目标版图进行平移处理,获得平移后的目标版图;从平移后的目标版图上确定一待量测图形;对待量测图形进行灰度处理,得到待量测图形对应的灰度图;将灰度图作为量测模板并根据待量测图形在晶圆坐标系下的位置信息,生成关键尺寸量测程式;通过目标版图对待处理晶圆进行曝光显影后,利用关键尺寸量测程式完成对待量测图形的量测。本申请通过提前建立关键尺寸的量测程式,节省量测时间,提高量测效率。

    2024-04-11
  • 投影设备
    投影设备

    本发明公开了一种投影设备,包括壳体和风扇组件,所述风扇组件包括散热风扇和减震套,所述散热风扇套合在所述减震套中并通过所述减震套固定于所述壳体内;所述壳体的两相对内侧壁朝所述散热风扇的进风侧延伸。本发明提出的投影设备,在兼顾减振的同时,能够有效提升散热效率。

    2024-04-10
  • 一种空间光调制器、成像光调制方法及投影系统
    一种空间光调制器、成像光调制方法及投影系统

    本申请公开了一种空间光调制器、成像光调制方法及投影系统,该空间光调制器包括:基底;微反射镜阵列设置于基底,基于照明光产生成像光,微反射镜阵列包括多个微反射镜,微反射镜用于反射不同波长的多个照明光;控制器与微反射镜电连接,判断将入射至微反射镜的照明光的波长,并控制微反射镜根据照明光对应的波长,控制微反射镜旋转至对应的预设旋转角度,多个照明光在对应的预设旋转角度下分别产生主级衍射形成成像光并沿同一方向出射。本申请通过控制器控制微反射镜与平行于基底的平面之间的预设旋转角度,使不同波长的照明光均能转化为衍射效率最高的成像光出射,提高投影系统的显示照明效率。

    2024-04-10
  • 定影薄膜及其制造方法、加热定影装置以及电子照相图像形成装置
    定影薄膜及其制造方法、加热定影装置以及电子照相图像形成装置

    本发明涉及定影薄膜及其制造方法、加热定影装置以及电子照相图像形成装置。一种定影薄膜,其为具有环形状的定影薄膜,所述定影薄膜至少依次具有基材、弹性层和脱模层,该脱模层由包含氟树脂的管构成,将该脱模层的、基于反射X射线衍射法的2θ=17~19°的最大X射线衍射强度Ic相对于2θ=39.5~40.5°的最大X射线衍射强度Ia的比值设为X、将该定影薄膜的转动轴方向的长度设为L、将该定影薄膜的转动轴方向的从两端部起到0.15L为止的区域中的该X的平均值设为Xe、将该定影薄膜的存在于从该两端部起到0.15L为止的该区域之间的、作为转动轴方向的中央部的长度0.70L的区域中的该X的平均值设为Xm时,Xe相对于Xm的比值为1.20以上。

    2024-04-10
  • 光学模组及电子设备
    光学模组及电子设备

    本申请公开了一种光学模组及电子设备,属于电子产品技术领域。该光学模组包括:光源发射端和投射镜头,所述投射镜头沿所述光源发射端的光线发射方向设置;所述投射镜头包括投影透镜和液体透镜,且所述投影透镜位于所述光源发射端的发光面和所述液体透镜之间;所述投射镜头包括离焦状态和合焦状态,在所述投射镜头处于所述离焦状态的情况下,所述光源发射端发射的光线经所述投影透镜和液体透镜折射后转换为面阵投射光线;在所述投射镜头处于所述合焦状态的情况下,所述光源发射端发射的光线经所述投影透镜和液体透镜折射后转换为点阵投射光线。

    2024-04-10
  • 一种以扇子为载体的多功能反光板
    一种以扇子为载体的多功能反光板

    本发明公开了一种以扇子为载体的多功能反光板,主要由反光材料和扇体构成,以解决现有的反光材料功能单一、拓展性和应用场景单一的不足,不但外形美观,而且方便使用者收纳和携带,以及方便使用。一种以扇子为载体的多功能反光板,主要由主要由反光材料和扇体构成,使用摄影摄像用的反光材料作为扇子的扇面,组装在扇子上,形成一个完整的扇子,如上所述的扇子,即具备了常规扇子的功能,也具备了反光板的功能,方便收纳和携带,也方便使用者使用,提升摄影摄像效果,拓展性和应用场景也得到广泛提升。需要纳凉的时候,取出扇子,打开扇子,就可以扇风纳凉;需要遮阳、隔热、降温的时候,就可以将带有反光材料的扇面放置在头顶或阳光面,起到反射阳光紫外线,隔绝阳光紫外线,降温解暑防晒的目的;需要摄影摄像的时候,只要将扇子展开,按照光学反射原理,将扇面的反光材料部分放在光源的反光点,就可以作为反光板进行摄影摄像,提升摄影摄像的效果,使用原理非常简单,使用操作起来方便易学。

    2024-04-10
  • 曝光方法、装置、计算机设备、存储介质和计算机程序产品
    曝光方法、装置、计算机设备、存储介质和计算机程序产品

    本申请涉及一种曝光方法、装置、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。所述方法包括:获取对目标层曝光的基准衍射光强,衍射光强为发光器发出的光束经过衍射光学元件衍射后的光强;获取对目标层的预设曝光区块曝光的实际衍射光强,预设曝光区块位于第i+1个曝光区块之前,i为正整数;根据基准衍射光强、实际衍射光强计算得到第i+1个曝光区块的曝光剂量补偿值;根据曝光剂量补偿值,对第i+1个曝光区块的曝光剂量进行补偿。本申请实施例能够有效提高曝光图形的关键尺寸的均匀性。

    2024-04-09
  • 一种驻波检测方法及装置
    一种驻波检测方法及装置

    本申请提供了一种驻波检测方法及装置,其中,该方法包括:获取待测光刻胶的目标侧壁的灰度图,所述待测光刻胶为被敷设在晶圆上、且执行曝光和显影处理后的光刻胶,所述目标侧壁为所述待测光刻胶在深度方向上的一侧表面;在对所述灰度图的像素记录进行傅里叶变换后得到的频谱图中,提取在所述灰度图的竖直方向的频率分量为零时的频谱曲线;依据针对所述待测光刻胶执行曝光和显影处理的光刻机的预设曝光波长以及所述待测光刻胶的预设折射率,确定所述频谱曲线的基波;基于所述基波以及所述频谱曲线中的多个预设谐波分别对应的幅值,识别所述待测光刻胶的驻波状态,所述驻波状态用于表征所述待测光刻胶因曝光处理所形成的驻波效应的程度。

    2024-04-09
  • 成像光学系统
    成像光学系统

    本发明提供一种成像光学系统,搭载手抖校正机构,在整个变焦区域中开放F值小,并实现了小型化。成像光学系统从物体侧依次由具有正屈光力的第1透镜组、具有负屈光力的前侧透镜组以及具有正屈光力的后侧透镜组组成,当从广角端向望远端变倍时,第1透镜组与前侧透镜组的间隔增大,前侧透镜组与后侧透镜组的间隔缩小,第1透镜组向物体侧单调地移动,第1透镜组至少具有一片负透镜,前侧透镜组由一个以上的具有负屈光力的透镜组组成,后侧透镜组具有配置于最靠近像面侧的位置的、相对于像面被固定的、当变倍及对焦时不移动的最终透镜组,最终透镜组具有能够沿包含相对于光轴的垂直方向成分的方向移动的防振透镜组,成像光学系统满足规定的条件式。

    2024-04-09
  • 基于反向光刻技术的全版图亚分辨率辅助图形插入方法
    基于反向光刻技术的全版图亚分辨率辅助图形插入方法

    本发明公开基于反向光刻技术的全版图亚分辨率辅助图形插入方法。本发明采用反向光刻技术对环形亚分辨率辅助图形进行圆拟合对称化处理,便于后续亚分辨率辅助图形插入规则提取,为全版图修正做铺垫。本发明提出利用满足掩膜设计规则检查的矩形亚分辨率辅助图形组合代替环形亚分辨率辅助图形,可实现应用于CT层的孤立图形全版图修正,缩短了开发亚分辨率辅助图形插入规则的时间,增加了孤立图形的工艺窗口,提高生产半导体器件的良率。

    2024-04-08
  • 一种晶圆的光阻涂布方法、装置、电子设备及存储介质
    一种晶圆的光阻涂布方法、装置、电子设备及存储介质

    本申请提供了一种晶圆的光阻涂布方法、装置、电子设备及存储介质,涉及半导体光刻技术领域,该方法包括:在对目标晶圆进行光阻涂布前,将目标晶圆放置在氩气等离子体氛围中,对处于氩气等离子体氛围中的目标晶圆进行表面预处理,目标晶圆包括氮化钛膜层;对经过表面预处理后的目标晶圆进行光阻涂布;对经过光阻涂布后的目标晶圆进行烘烤处理,获得烘烤后的目标晶圆。通过采用上述晶圆的光阻涂布方法、装置、电子设备及存储介质,解决了光刻胶图形的边缘粗糙度高的问题。

    2024-04-08
  • 伸缩镜头和带有伸缩镜头的摄像模组
    伸缩镜头和带有伸缩镜头的摄像模组

    本发明提供一伸缩镜头和带有伸缩镜头的摄像模组,其中所述伸缩镜头包括光学镜头、可变光圈、驱动组件、以及导通单元,其中所述光学镜头包括第一镜头组件和第二镜头组件,所述第一镜头组件位于所述第二镜头组件的物侧,所述光学镜头被设置于所述驱动组件,所述第一镜头组件被可传动地连接于所述驱动组件,由所述驱动组件驱动所述第一镜头组件沿光轴方向移动,其中所述导通单元连接所述可变光圈和所述驱动组件,通过所述导通单元将所述可变光圈可导通地电连接于所述驱动组件。

    2024-04-07
  • 一种液体墨粉
    一种液体墨粉

    本发明属于印刷技术领域,具体涉及一种液体墨粉。本发明提供的液体墨粉,包括分散于载液中的墨粉颗粒和电荷导向剂;所述电荷导向剂由有机铝盐和有机锆盐发生络合反应制备得到;所述有机铝盐为脂肪酸铝和/或芳族酸铝,所述脂肪酸铝中脂肪酸为1~30个碳原子的脂肪酸,所述芳族酸铝中芳族酸为6~20个碳原子的芳族酸;所述有机锆盐为脂肪酸锆和/或芳族酸锆,所述脂肪酸锆中脂肪酸为1~30个碳原子的脂肪酸,所述芳族酸锆中芳族酸为6~20个碳原子的芳族酸。电荷导向剂与墨粉颗粒通过静电作用和π‑π堆叠紧密结合,提高了电荷导向剂与墨粉颗粒复合物在载液中的分散性;利用本发明的液体墨粉进行印刷提高了印刷的彩色密度与分辨率。

    2024-04-07
  • 一种用于超长微米级结构的移动式曝光装置
    一种用于超长微米级结构的移动式曝光装置

    本发明公开了一种用于超长微细结构曝光的移动式光刻装置,包括x轴丝杠导轨运动模块、y轴同步带运动模块、z轴精密调节模块、光源对焦模块、控制机构和支撑机构,支撑机构包括台面、立柱、梁和L型连接板,立柱竖直设置于台面上,立柱与梁固定连接;x轴丝杠导轨运动模块固定设置于台面上,y轴同步带运动模块固定于梁上,与L型连接板的一端连接;L型连接板的另一端与z轴精密调节模块固定连接,z轴精密调节模块与光源对焦模块在竖直方向上滑动连接;x轴丝杠导轨运动模块和y轴同步带运动模块均与控制机构电连接。该装置实现了跨尺度微细结构的精准光刻,提高加工效率且所述移动式曝光装置成本较低,易于实现。

    2024-04-07
  • 包含光学装置的投射物镜
    包含光学装置的投射物镜

    本发明关于包含投射物镜(408,107,200)的投射曝光装置(400,100),投射物镜(408,107,200)包含光学装置(1),光学装置(1)包含具有光学有效表面(2a)的光学元件(2)以及可通过所施加的控制电压产生变形的至少一个电致伸缩致动器(3),其中电致伸缩致动器(3)功能性地连接到光学元件(2)以影响光学有效表面(2a)的表面形状。控制装置(4)设置以提供控制电压给电致伸缩致动器(3),其中提供了测量装置(5),其配置为至少有时在电致伸缩致动器(3)影响光学元件(2)的光学有效表面(2a)时直接地测量和/或间接地决定电致伸缩致动器(3)和/或其周围环境的温度和/或温度变化,以在由控制装置(4)驱动电致伸缩致动器(3)的过程中考虑温度相关影响。

    2024-04-06
  • 一种化学放大型正性I线光刻胶及其制备与使用方法
    一种化学放大型正性I线光刻胶及其制备与使用方法

    本发明涉及一种化学放大型正性I线光刻胶及其制备与使用方法,该光刻胶包括以下质量百分比的各组分:聚对羟基苯乙烯类聚合物树脂15~35%;光致产酸剂0.1~0.6%;酸猝灭剂0.1~0.2%;流平剂0.05~0.1%;溶剂余量。制备方法包括以下步骤:按化学放大型正性I线光刻胶的各组分混合。使用方法包括以下步骤:将化学放大型正性I线光刻胶涂布在硅片上,依次经过前烘、曝光、后烘和显影。本发明解决光刻胶曝光窗口低的问题,尤其正性薄膜(0.8~4μm)光刻胶曝光窗口低的问题,适合集成电路后段钝化层或高能注入工艺,扩大了应用范围。

    2024-04-05
  • 滤镜组件及摄像设备
    滤镜组件及摄像设备

    本公开涉及激光技术领域,提供了一种滤镜组件及摄像设备。该滤镜组件能够与摄像机配合使用,摄像机包括感光器件和滤光片,滤镜组件包括基片和附着在基片上的膜层;膜层能够衰减至少一种波长的激光的透过率至设定的第一数值,第一数值根据感光器件对于三基色激光的感光率和滤光片对三基色激光的透过率和设定的衰减规则计算得到。

    2024-04-05
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