摄影术、电影术、利用了光波以外其他波的类似技术、电记录术、全息摄影术

  • 用于改进光刻胶图案化的方法和组合物
    用于改进光刻胶图案化的方法和组合物

    所公开的方法在下层中采用酸产生剂组分。由酸产生剂组分产生的酸扩散到上覆层,例如,光刻胶层,并提供酸,使光刻胶发生化学变化,例如,改变光刻胶在显影剂溶液中的溶解度。扩散到上覆的光刻胶层中的酸增加了酸在光刻胶下部的浓度和浓度的均匀性。光刻胶内酸浓度增加的区域可以增加光刻胶在显影剂溶液中的溶解度,从而减少光刻胶的不充分显影。减少光刻胶的不充分显影可以减少显影完成后残留的光刻胶残留物或浮渣的量。

    2024-03-07
  • 投影设备及其光源的驱动方法
    投影设备及其光源的驱动方法

    本申请公开了一种投影设备及其光源的驱动方法,涉及投影技术领域。投影设备的显示控制电路能够根据待投影的画面的亮度确定目标光源的第一亮度,并从目标光源的第一对应关系中确定该第一亮度对应的第一功率。然后,该显示控制电路能够基于该第一功率和目标光源的当前温度,从目标光源的第二对应关系中确定目标光源的第一驱动电流。由此可见,本申请提供的方法在确定目标光源的第一驱动电流的过程中,考虑了目标光源的当前温度,因此可以确保在该当前温度下采用该第一驱动电流驱动该目标光源,能够使得目标光源的亮度等于该第一亮度,从而可以避免投影得到的画面出现偏色现象。

    2024-03-07
  • 一种紫外光刻投影物镜
    一种紫外光刻投影物镜

    本发明属于无掩模光刻技术领域,具体涉及用于高密度PCB、LCD和MEMS设计及制造的一种紫外光刻投影物镜。应用于混合或单色紫外光刻光源的投影,包括自物面至像面光轴一致的第一透镜组G1、孔径光阑、第二透镜组G2、第三透镜组G3和第四透镜组G4;第一透镜组G1具有正的光焦度;所述第二透镜组G2具有正的光焦度;所述第三透镜组G3具有负的光焦度;第四透镜组G4具有正的光焦度;其中,所述紫外光刻投影物镜为物、像方双远心结构且不包括非球面。本发明提出一种结构简单、性能良好的可用于紫外SLM光刻的紫外光刻投影物镜,该物镜可以工作在365nm~405nm的混合或单色光源中,其具有结构简单、透镜加工成本低、像差良好、不含有非球面等优势。

    2024-03-07
  • 一种用于打印机硒鼓的改良零配件
    一种用于打印机硒鼓的改良零配件

    本发明公开了一种用于打印机硒鼓的改良零配件,包括鼓芯,所述鼓芯的表面安装有套筒机构,所述套筒机构的前端安装有第一端环,所述套筒机构的后端安装有第二端环,所述第一端环和第二端环远离套筒机构的一端均安装有扣环板件,通过存粉筒、内存腔、窗条槽口和斜引板之间的相互配合,有效解决了对废粉的引导收集问题,通过将存粉筒整体套设安装在鼓芯的表面,使得位于打印机硒鼓内侧的废粉,可通过窗条槽口进入内存腔内侧,经由斜引板对废粉进行反回流封堵,实现对废粉的集中收集。

    2024-03-06
  • 一种激光直写系统及其扫描方法
    一种激光直写系统及其扫描方法

    一种激光直写系统及其扫描方法,所述激光直写系统包括图形发生器和控制系统,所述控制系统包括模式获取单元,通过所述模式获取单元获取不同的模式参数,根据不同的模式参数对矢量图形进行栅格化操作获得栅格化图像数据,并依据不同的模式参数,选择是否对栅格化图像数据进行数据扩展,对于需要进行栅格化图像数据扩展的模式,先进行栅格化扩展再进行栅格化数据的转换存储,对于无需进行栅格化图像数据扩展的模式,直接进行栅格化数据的转换存储,基于转换存储的栅格化数据进行帧化处理,能够适应多种模式参数的工件的需求。

    2024-03-06
  • 一种数字媒体用课自动调节镜头方向的投影设备
    一种数字媒体用课自动调节镜头方向的投影设备

    本发明涉及一种数字媒体用课自动调节镜头方向的投影设备,包括,转动装置,用于控制投影仪横向转动;升降装置,用于改变所述投影仪的相对高度;位移装置,用于改变所述投影仪与投影屏幕的水平距离;中控装置,与所述转动装置、所述升降装置以及所述位移装置相连接,中控装置将获取的预投影仪位置与预设投影位置相比较,对所述投影仪的位置进行调节,中控装置将获取的清晰度与预设清晰度相比较,对投影仪位置进一步调节,中控装置将获取的舒适度与预设清晰度相比较,对所述投影仪与幕布的水平距离进行调节。

    2024-03-06
  • 掩模版、光刻装置和用于制造掩模版的方法
    掩模版、光刻装置和用于制造掩模版的方法

    本公开涉及一种掩模版、光刻装置和用于制造掩模版的方法,掩模版包括:电解反应层,电解反应层包括电致变色材料;第一控制电路层,第一控制电路层设于电解反应层的第一侧上,且第一控制电路层包括多个第一控制电极;以及第二控制电路层,第二控制电路层设于电解反应层的与第一侧相对的第二侧上,且第二控制电路层包括多个第二控制电极;其中,掩模版中的像素区域的透光状态被配置为由像素区域中包含的第一控制电极的至少一部分和第二控制电极的至少一部分之间的控制电压决定,控制电压通过控制电解反应层中的电致变色材料的离子结合状态来控制像素区域的透光状态。

    2024-03-05
  • 红外探测器拼接基板制备方法
    红外探测器拼接基板制备方法

    本发明公开了一种红外探测器拼接基板制备方法,红外探测器拼接基板制备方法包括:清洗基板;在清洗后的基板的第一表面制备至少一个定位标记,定位标记为厚度为h的金属图案;在制备完定位标记的第一表面制备至少一个金属引线,金属引线的厚度为H,且满足:H>h。采用本发明,通过对拼接基板上的定位标记图形和金属引线图形分别制备,并设计不同的膜层厚度,在满足电学引线结构的电流承载能力的同时,提高了拼接对准标记的图形加工精度,降低了拼接基板的加工难度,有利于提升探测器子模块的拼接精度。

    2024-03-05
  • 一种使用由有机-无机混合涂层组成的量子点光刻胶的量子点光刻方法
    一种使用由有机-无机混合涂层组成的量子点光刻胶的量子点光刻方法

    一种使用由有机‑无机混合涂层组成的量子点光刻胶的量子点光刻方法,所述处理方法包括如下步骤:S1、在调试模块中配制涂层混合物,并在50℃下搅拌;S2、调试模块内置入量子点与涂层混合物充分混合,形成量子点光刻胶;S3、对目标基板进行等离子体处理,为形成光滑的薄膜做准备;S4、通过旋涂法在目标基板上涂上量子点光刻胶;S5、通过光掩模将量子点光刻胶膜暴露在紫外线下以转移几何图案;S6、曝光后进行显影以完成量子点微图案,完成后冲洗并吹干。该种使用由有机‑无机混合涂层组成的量子点光刻胶的量子点光刻方法,利用量子点和可光固化的涂层混合物合成量子点光刻胶,通过量子点光刻技术产生微米级图案,在满足与标准半导体工艺的兼容性的同时,为提高显示器分辨率提供关键基础。

    2024-03-05
  • 一种直写曝光光刻系统
    一种直写曝光光刻系统

    本申请提供的直写曝光光刻系统,包括:计算机、控制器、光源、光功率调制器、激光匀光准直器、第一偏振调制器、第一偏振分光镜、激光扩束器、第一反射镜、空间光调制器、第一中继透镜、第二偏振分光镜、第二偏振调制器、第二反射镜、第三偏振分光镜、第三偏振调制器及第四偏振调制器、运动轮盘、第一光刻聚焦物镜、第二光刻聚焦物镜、感光材料、多维运动台、第二中继透镜及CCD探测器,本申请提供的直写曝光光刻系统,综合高效率大幅面图形化投影直写与高分辨无缝激光束直写两种直写技术,将两种直写技术混合光刻可提高光刻效率和降低生产制造成本。

    2024-03-05
  • 直写光刻系统
    直写光刻系统

    本申请提供的直写光刻系统,包括:计算机、控制器、光源、光功率调制器、激光匀光准直器、第一偏振调制器、第一偏振分光镜、激光扩束器、第一反射镜、空间光调制器、第一中继透镜、第二偏振分光镜、第二偏振调制器、第二反射镜、第三偏振分光镜、第三偏振调制器及第四偏振调制器、运动轮盘、第一光刻聚焦物镜、第二光刻聚焦物镜、感光材料、多维运动台、第二中继透镜及CCD探测器,本申请提供的直写光刻系统,综合高效率大幅面图形化投影直写与高分辨无缝激光束直写两种直写技术,将两种直写技术混合光刻可提高光刻效率和降低生产制造成本。

    2024-03-05
  • 压盖式雨滴检测自动加热摄像模组
    压盖式雨滴检测自动加热摄像模组

    本申请是申请号为202010361907.6的分案申请。本发明实施例公开了一种压盖式雨滴检测自动加热摄像模组,至少包括镜筒、设于镜筒前端的第一透镜、以及与镜筒前端配合以将第一透镜锁紧在镜筒上的压盖,压盖前端面与第一透镜之间还设有一玻璃基片,该玻璃基片的外表面设有雨滴检测元件,玻璃基片的内表面设有可对其进行加热的发热片。本发明实施例之压盖式雨滴检测自动加热摄像模组,通过在第一透镜前的玻璃基片上设置雨滴检测元件,从而在寒冷、潮湿、或下雨等雨雾天气下实现雨滴或水汽自动检测,为后续自动去雨滴除水汽的控制提供精准的检测控制信号。

    2024-03-03
  • 一种高效定位半导体晶圆加工用显影装置
    一种高效定位半导体晶圆加工用显影装置

    本申请公开了一种高效定位半导体晶圆加工用显影装置,包括外壳,所述外壳包括部件安装箱、前挡板、底板以及两个相对的侧板,底板处安装有旋转驱动单元,旋转驱动单元驱动转轴转动,转轴处安装有真空载台,侧板处固定有滑轨,前挡板安装有第一轴承,部件安装箱内安装有第一电机,第一轴承和第一电机之间连接有第一丝杆,滑轨处安装有滑块,两个滑块之间连接有活动导杆,活动导杆处安装有滑座;滑座处安装有第一喷嘴安装块和旋转气缸,旋转气缸处安装有第二喷嘴安装块,第一喷嘴安装块处安装有显影液喷嘴,第二喷嘴安装块处安装有清洗液喷嘴和气体喷嘴。本申请的显影装置能够实现对晶圆的显影并且保持装置内部空间的洁净。

    2024-03-02
  • 阴图型印刷版材用感光胶和印刷平版版材
    阴图型印刷版材用感光胶和印刷平版版材

    本发明公开了一种阴图型印刷版材用感光胶和印刷平版版材,该感光胶包括:(a)带有活性基团的基础树脂;(b)可与基础树脂在酸催化作用下进行交联反应的交联剂;和(c)可于曝光后分解产生酸性物质的光致产酸剂。本发明感光胶在曝光后光致产酸剂分解产生一定的强酸,曝光后的感光胶膜由于形成交联,图案已经通过烘烤加热固化;而未曝光的版材部分可以暴露于可见光或紫外光,同时由于后期没有加热不再形成交联,因此对图案没有影响;且该感光胶通过曝光烘烤工艺后,无论普通显影或无显影利用油墨都可以再现图案,图案本身抗醇性能优越,适合于光固化油墨的印刷,并可使得版材的耐溶剂、耐油墨特性以及耐印率得到较大改善。

    2024-03-02
  • 一种光刻板及其应用与芯片
    一种光刻板及其应用与芯片

    本发明涉及芯片制造技术领域,尤其涉及一种光刻板及其应用与芯片,本发明的光刻板,包括第一子板、第二子板和第三子板,第一子板、第二子板和第三子板上均设置有若干阵列排列的光刻版图,光刻版图包括多个相互独立的透光区域,多个所述透光区域均匀排列在同一圆周上,第一子板上的透光区域和第二子板上的透光区域的尺寸相同,且交错设置,第三子板上的透光区域和第一子板上的透光区域的位置相对应,且第三子板上的透光区域的尺寸小于第一子板上透光区域的尺寸。本发明的一种光刻板,通过对光刻板的版图进行设计,在不影响光电性能以及原有的芯片设计尺寸的前提下,能够得到规则的圆形的氧化图形,在一定程度上保证了后续制备得到的芯片的性能。

    2024-03-01
  • 一种使用含有少量氧化自由基的氢自由基去除ArF光刻胶的聚合物的方法
    一种使用含有少量氧化自由基的氢自由基去除ArF光刻胶的聚合物的方法

    一种使用含有少量氧化自由基的氢自由基去除ArF光刻胶的聚合物的方法,所述处理方法包括如下步骤:S1、使用电阻加热的钨丝用作热丝催化剂,将钨丝绕成线圈状,放置于圆柱形腔室中;S2、使用油封旋转真空泵将腔室抽空至10‑2 Pa,再使用质量流量控制器固定氢气和氧气的流速,氧气与氢气的流量比为1.5~2.0:100,且操作总压力为20 Pa;S3、将催化剂与基材之间的距离保持为20 mm,使用直流电源加热催化剂;S4、使用基板台加热器加热基板,基板温度维持在75~100℃;S5、去除完成并冷却后,冲洗基板并吹干。该种使用含有少量氧化自由基的氢自由基去除ArF光刻胶的聚合物的方法,利用在线圈形钨热丝催化剂上产生氢自由基,并向气体中添加少量氧气产生氧化自由基,不含化学物质和等离子体,减少了环境负担并避免了等离子体对设备的损坏的同时,提高了对ArF光刻胶的聚合物的去除均匀性和去除率。

    2024-03-01
  • 一种全息显示智能终端系统及显示介质系统
    一种全息显示智能终端系统及显示介质系统

    本发明提供一种全息显示智能终端系统及显示介质系统,属于显示技术领域。本申请包括相互连接的干冰气化喷气系统、干冰安全存储罐、投影系统、智能终端控制系统以及交互识别模块。本申请通过干冰气化喷气系统将干冰气化并均匀喷出,最后形成由干冰气体覆盖的规则显示气体介质的投影气墙,通过所述交互识别模块准确地对用户的手势控制识别交互及语音识别交互,并将识别的控制信号发送给所述智能终端控制系统,所述智能终端控制系统根据所述控制信息控制所述投影系统在所述干冰气体形成的投影气墙介质上进行相应的投影显示,从而形成视觉悬空的全息投影效果,就像科幻片中的人手在空气中操作科技显示界面的场景,极具科技感。

    2024-02-28
  • 一种影视制作用摄影自适应背景布
    一种影视制作用摄影自适应背景布

    本发明属于背景布技术领域,尤其是一种影视制作用摄影自适应背景布,针对现有的一些摄影背景布,在使用时不可避免的会沾染上一些污渍,由于背景布不能快速的更换清洗,会导致背景布上污渍的堆积,从而影响使用效果,且背景布的角度不方便进行调节,在使用不能适应不同的拍摄角度的问题,现提出如下方案,其包括两个底板,所述底板的顶部固定安装有支撑杆,两个支撑杆的顶端固定安装有过滤箱,所述过滤箱的底部固定安装有多个导风管,所述导风管内设有导风机构。本发明操作简单,使用方便,能够便于对背景布进行抖灰,同时还能对灰尘进行吸收过滤,且还能对背景布进行角度调节,便于人们使用。

    2024-02-28
  • 一种无刮刀结构硒鼓
    一种无刮刀结构硒鼓

    本发明涉及打印设备技术领域,具体为一种无刮刀结构硒鼓,包括下外壳和上外壳,下外壳和上外壳内壁设置有用于打印中感光的打印组件;上外壳内壁设置有用于收集碳粉的回收组件;打印组件包括用于显像的鼓芯、用于对鼓芯进行充电的充电辊、用于吸附碳粉的显影辊、用于输送碳粉的送粉辊;本发明通过取消清洁刮刀,利用碳粉静电特性和易耗件之间的电场力,将鼓芯表面残留碳粉回收到粉仓中,简化了硒鼓结构,降低了材料成本,提升了生产效率,取消清洁刮刀也避免了清洁刮刀对鼓芯表面残余的碳粉造成剪切力与摩擦力,防止分离残余碳粉进入废粉仓导致粉盒扭矩增大,硒鼓使用时扭矩下降、使用寿命增加、漏粉比例减少,使硒鼓品质稳定性得到进一步提升。

    2024-02-26
  • 摄像模组及电子设备
    摄像模组及电子设备

    本申请公开了一种摄像模组及电子设备,该摄像模组包括:镜头,滤光单元和成像芯片;滤光单元包括:第一透光介质,第二透光介质和亲水封装层;亲水封装层的一侧与第一透光介质连接,另一侧与第二透光介质连接,亲水封装层与第一透光介质和第二透光介质构成腔室;腔室内设有驱动电极和液体;镜头,第一透光介质,第二透光介质,及成像芯片依次沿镜头的光轴方向设置;其中,在驱动电极向液体施加预设电压的情况下,液体铺展在第一透光介质与第二透光介质之间,以截止非可见光;在驱动电极断电状态的情况下,液体收缩于亲水封装层处。

    2024-02-26
  • 光照设备及其使用方法以及半导体处理设备
    光照设备及其使用方法以及半导体处理设备

    本申请公开一种光照设备及其使用方法以及半导体处理设备,能够减小因灯泡灼烧(Bulb burning)导致的UVLS发出的光源强度衰减,优化光刻效果。本申请中的光照设备包括:光源,用于输出第一功率的光信号,且所述光信号至少能够沿预设光路出射;放大灯罩,所述光信号出射时经过所述放大灯罩,所述放大灯罩表面设置有至少两个预设区域,各个所述预设区域的透光率相同;驱动部,通过传动器件连接到所述放大灯罩,用于驱动所述放大灯罩转动,所述放大灯罩转动过程中,始终以所述预设区域经过所述预设光路。

    2024-02-25
  • 一种改善掩模版光刻图形离焦的方法
    一种改善掩模版光刻图形离焦的方法

    本发明提供一种改善掩模版光刻图形离焦的方法,提供未沉积任何遮光材料的掩模版玻璃基板;根据产品的图形设计布局,对具有不同聚焦值的光刻图形对应在掩模版上的区域的玻璃基板进行刻蚀,各区域间刻蚀深度的差值与对应光刻图形间的聚焦值差值保持一致;对刻蚀后的掩膜版玻璃基板进行遮光材料沉积;根据产品的图形设计布局对掩膜版进行曝光和刻蚀,将图形转移到掩模版上,得到制备的掩膜版;使用制备的掩模版对晶圆进行曝光,将制备的掩模版上图形转移至晶圆上;通过线宽测量扫描电子显微镜对所述光刻图形的关键尺寸进行测量,检测晶圆表面不同光刻胶厚度区域的光刻图形是否均在最佳曝光位置,若某些光刻图形的最佳聚焦值有差,则需根据测量结果对掩膜版玻璃基板的刻蚀深度进行调整。

    2024-02-24
  • 一种便于使用的大学教学投影装置
    一种便于使用的大学教学投影装置

    本发明公开了一种便于使用的大学教学投影装置,本发明涉及教学投影技术领域,包括投影盒壳体,所述投影盒壳体的上表面固定连接有清理机构,所述投影盒壳体的外表面固定连接调控台,所述投影盒壳体的外表面开设有横向槽,所述投影盒壳体的外表面固定连接有镜头,所述投影盒壳体内腔的底部固定连接有液晶屏。该便于使用的大学教学投影装置,在投影盒壳体不慎摔落过程中,冷凝液向一侧倾斜,乳胶囊受力挤压带动弹性块通过横向槽向外移动,同时伸缩软管将拉伸绷直,非牛顿流体在投影盒壳体在触地瞬间变硬,达到支撑乳胶囊和弹性块的作用,减少碰撞带来的损害,增强其防撞性能,提高装置的使用寿命,节省资源。

    2024-02-23
  • 一种烟叶固定托盘
    一种烟叶固定托盘

    本发明公开了一种烟叶固定托盘,包括:长方体状的避光盘(5),其上表面设有若干长条状的透明哑光板(11);所述长条状的透明哑光板(11)沿前后方向布置且能沿所述避光盘(5)表面左右水平滑动,用于展开和固定烟叶。本发明的烟叶固定托盘的透明哑光板(11)能够直接压制在烟叶的叶尖、叶梗以及叶中的位置,对烟叶蜷缩的位置进行展开压平,便于拍摄装置进行拍摄。

    2024-02-23
  • 一种应用于晶圆的智能化匀胶装置及匀胶工艺
    一种应用于晶圆的智能化匀胶装置及匀胶工艺

    本发明公开了一种应用于晶圆的智能化匀胶装置及匀胶工艺,属于半导体技术领域,包括机体、设置于机体上的控制组件、载台以及用于吸附并驱动载台旋转的吸附驱动组件,所述机体顶面中心开设有安装槽,所述吸附驱动组件安装于所述安装槽内部中心,所述载台安装于所述吸附驱动组件顶端,所述安装槽内部转动安装有承载托盘,所述承载托盘中心设置有中心套筒,所述中心套筒套接于所述吸附驱动组件外表面,所述机体四角设置有用于对晶圆片进行位置调整的限位机构以及用于对晶圆片边缘和承载托盘内壁进行清理的供液机构;它可以实现使得形成的光刻涂胶层更加均匀,可对晶圆片的侧面边缘以及承载容器内壁进行清理,使得晶圆片产出质量更高。

    2024-02-23
  • 放射线敏感性树脂组合物、固化膜、图案形成方法、固体摄像元件及图像显示装置
    放射线敏感性树脂组合物、固化膜、图案形成方法、固体摄像元件及图像显示装置

    本发明提供一种灵敏度良好且灵敏度的经时稳定性优异的放射线敏感性树脂组合物、固化膜、图案形成方法、固体摄像元件及图像显示装置。本发明的放射线敏感性树脂组合物包含树脂、具有烯属不饱和键的聚合性化合物、光聚合引发剂、有机溶剂及水,所述放射线敏感性树脂组合物中,光聚合引发剂包含具有选自支链烷基及环状烷基中的至少1种基团的肟酯化合物,相对于放射线敏感性树脂组合物的质量,水的含量为0.1~2质量%。

    2024-02-22
  • 一种免处理CTP版用光敏树脂及其制备方法
    一种免处理CTP版用光敏树脂及其制备方法

    本发明涉及一种免处理CTP版用光敏树脂及其制备方法,属于印刷技术领域,该树脂包括如下重量份原料:成膜树脂3.1‑3.5份、聚合单体2.2‑2.4份、光聚合引发剂0.3‑0.4份、阻聚剂0.03‑0.04份、水溶性染料0.02‑0.04份、溶剂40‑50份,本发明中将鎓盐阳离子和二茂铁衍生物作为阳离子聚合光引发剂,赋予二茂铁衍生物上浮的特性,保持稳定的高感度。同时,保护感光层免受制版机内部耀斑散射等因素对制版质量的影响,用于对抗氧阻聚效应。聚合单体包括二官能团单体和三官能团单体,三官能团单体官能团数多,则其活性位点就多,可加快反应速度,根据生产对产品感光值的要求,提高产品的感度。

    2024-02-22
  • 一种提升单片液晶屏性能的投影仪
    一种提升单片液晶屏性能的投影仪

    本申请涉及一种提升单片液晶屏性能的投影仪,沿着光线发出的方向依次包括LED光源、光斗、后菲涅尔透镜、光线增益模组、LCD模组、偏光模组、前菲涅尔透镜以及镜头。LED光源发出的光依次经过光斗、后菲涅尔透镜、光线增益模组、LCD模组、偏光模组以及前菲涅尔透镜后从镜头照出,平行偏振光P能够通过光线增益模组,而非平行偏振光S将被光线增益模组反射回光斗内。非平行偏振光S在光斗内经过若干次反射之后转换为平行偏振光P并从光线增益模组中通过,从而达到提高该投影仪亮度的效果。另一方面,LCD模组并不包含偏光膜,光线增益模组对非平行偏振光S进行反射而不进行吸收,从而在提高该投影仪亮度的基础上减小了光线增益模组发热的问题,提高了投影仪的显示特性。

    2024-02-22
  • 一种金融分析用投影装置
    一种金融分析用投影装置

    本发明涉及投影设备技术领域,尤其是一种金融分析用投影装置,包括机箱,用于容纳投影仪;风扇,风扇设置在所述机箱一侧上,以将所述机箱内的气体抽出;过滤装置,过滤装置设置在所述机箱的另一侧上,以对进入所述机箱内的空气进行过滤;在实际使用过程中,只需利用管道将抽气设备与除尘装置连接,在清理粉尘时,只需启动抽气设备即可,无需工作人员登高攀爬,降低出现意外的概率。

    2024-02-22
  • 一种视觉沉浸式立体投影设备
    一种视觉沉浸式立体投影设备

    本发明提供一种视觉沉浸式立体投影设备,包括清洗湿润组件、清理卡座、L形连接板、固定支撑板、电动推杆、固定转轴以及柔性海绵除尘刷,固定支撑板安装于投影设备主体上端面,固定支撑板前侧安装有L形连接板,L形连接板下侧安装有清理卡座,清理卡座左端嵌装有柔性海绵除尘刷,电动推杆设置于投影设备主体上端面右侧,电动推杆左端与L形连接板连接处安装有双头转动铰链,固定支撑板左侧设置有清洗湿润组件,该设计解决了原有视觉沉浸式立体投影设备不具有除尘结构,需要手动擦拭,除尘操作不便捷的问题,本发明结构合理,便于对视觉沉浸式立体投影设备进行除尘处理,能够将镜头表面的灰尘清理下来,除尘效果好,实用性强。

    2024-02-22
  • 一种可水显影的热敏版及其制备方法
    一种可水显影的热敏版及其制备方法

    本发明涉及一种可水显影的热敏版及其制备方法,属于平板印刷技术领域,包括基材、热敏层和保护层,其中热敏层包括以下重量份原料:成膜树脂70‑80份、多官能团单体15‑20份、抗静电组分3‑5份、阳离子引发剂5‑15份、热敏染料5‑15份和溶剂800‑900份;制备方法包括以下步骤:将热敏层原料混合后涂布于基材表面,然后于100℃下干燥1min,然后将保护层原料混合后涂布热敏层表面,在110℃下干燥1min,得到该热敏版,热敏层涂布干重为10‑15mg/dm2,保护层涂布干重为5‑10mg/dm2,本发明制备的热敏版不仅具有良好的水显影性、耐印力,还无静电白点产生,具有较高的应用价值。

    2024-02-21
  • 低配水显影冲版机
    低配水显影冲版机

    本发明公开了一种低配水显影冲版机,涉及丝印设备技术,旨在解决废水的量极大,而其中所含显影液的比例很低,最终导致人们进行回收处理时,进行提纯的难度会较大,还会造成一定程度的浪费,其技术方案要点是:包括底座、固定连接在底座上方的两个机架、以及固定连接在两个机架之间的工作台,所述工作台上设置有传送机构,所述机架内设置有升降器,两侧所述升降器的活动端之间共同固定连接有一个罩体。本发明能够使用少量且多次的清水来对滞留有显影液的PS版进行清洗,并且充分回收浓度相对较高的废水,能够保护节省资源的同时,也能够避免水资源被污染。

    2024-02-21
  • 一种双面阻焊自动曝光机
    一种双面阻焊自动曝光机

    本发明公开了一种双面阻焊自动曝光机,属于PCB制造技术领域,包括主机架以及导向槽,检测相机组件装配于主机架上,载体基板两端滑动装配于导向槽中,下基座定位滑动装配于载体基板一侧,下基座中装配有下菲林片,盖板件转动装配于载体基板一端,盖板件中装配有上菲林片,固定框板弹性滑动装配于载体基板和下基座之间,固定框板中布设有承托板,真空阀头阵列布设于承托板一侧,本发明通过滑动布设于导向槽中的载体基板以及活动装配于载体基板一侧的调位机架,能够对双面阻焊的基板进行快速对位以及菲林片吸附,避免了常规曝光设备对PCB基板的挤压定位,防止因板材翘曲造成的曝光漏印,提升了曝光上料的效率,提高了PCB板的产能。

    2024-01-15
  • 用于全方位实时检测光刻特性的系统和方法
    用于全方位实时检测光刻特性的系统和方法

    本公开总体涉及用于全方位实时检测光刻特性的系统和方法。一种极紫外(EUV)光刻系统通过用激光照射液滴来生成EUV光。该系统包括收集器以及耦合到收集器的多个振动传感器。振动传感器生成指示来自激光脉冲的冲击波和来自碎片的撞击的传感器信号。该系统利用传感器信号来提高EUV光生成的质量。

    2024-01-14
  • 一种光机板以及投影光机
    一种光机板以及投影光机

    本申请公开了一种光机板以及投影光机。所述光机板应用于投影光机,所述光机板包括:金属板,所述金属板具有相背设置的第一表面和第二表面;挡板部,所述挡板部设置在所述第一表面,所述挡板部设置在投影光机处于暗态时的光路上;导热片,在所述第一表面和/或所述第二表面上设置有所述导热片。本申请在金属板的第一表面和/或第二表面上设置有导热片,导热片降低了光机内部温度及挡板部的温度。

    2024-01-13
  • 一种光机板以及投影光机
    一种光机板以及投影光机

    本申请公开了一种光机板以及投影光机。所述光机板应用于投影光机,所述光机板包括:金属板,所述金属板具有相背设置的第一表面和第二表面;挡板部,所述挡板部设置在所述第一表面,所述挡板部设置在投影光机处于暗态时的光路上;导热片,在所述第一表面和/或第二表面上设置有所述导热片,并且所述导热片延伸至挡板部并覆盖所述挡板部的表面。

    2024-01-13
  • 一种易于维护的极紫外光源液滴锡靶供应装置
    一种易于维护的极紫外光源液滴锡靶供应装置

    本发明提供一种易于维护的极紫外光源液滴锡靶供应装置。本发明包括阀体和设置于所述阀体内的声学产生及传播装置,阀体的两端分别设有第一端盖板和第二端盖板,所述声学产生及传播装置的输出端连接靶材腔室,所述第一端盖板上设有与该腔室相连的小孔,所述阀体的外部可拆卸地套接有温度调节装置,所述第二端盖板上连接有能够伸入阀体的加压管路,所述加压管路用于向靶材腔室加压,得到连续的锡喷射流,所述温度调节装置用于为阀体加热温度,所述声学产生及传播装置用于将连续的锡喷射流变为稳定的锡液滴流,所述声学产生及传播装置配套有用于为其制冷温的主动制冷装置。本发明在阀体的后期维护上,更加方便,可以大大缩短生产过程中的维护时间。

    2024-01-12
  • 掩模坯料、转印用掩模及半导体器件的制造方法
    掩模坯料、转印用掩模及半导体器件的制造方法

    本发明提供一种掩模坯料、转印用掩模及半导体器件的制造方法。掩模坯料(100)在透光性基板(1)上具备遮光膜(2),其特征在于,遮光膜具有从透光性基板侧起下层和上层依次叠层的结构,下层由含有硅和氮的材料形成,上层由含有硅和氧的材料形成,对ArF曝光光的光学密度为2.5以上,表面反射率为30%以下,背面反射率为40%以下,对900nm波长的光的透过率为50%以下,下层对900nm波长的光的消光系数为0.04以上,厚度为60nm以下。

    2024-01-11
  • 极紫外光产生方法和系统
    极紫外光产生方法和系统

    本申请涉及一种极紫外光产生方法及系统,包括:光纤激光光源装置根据激光参数产生激光脉冲;液滴靶生成装置在真空环境中根据液滴靶参数生成两路以上交替喷出的液滴靶流,在预设打靶位置形成重复频率与激光脉冲的重复频率匹配的液滴靶;激光脉冲在预设打靶位置轰击对应的液滴靶,产生极紫外光。通过采用能产生高重复频率激光脉冲满足系统要求的光纤激光光源装置,并搭配液滴靶生成装置生成多路交替喷出的液滴靶流,在预设打靶位置形成重复频率与所述激光脉冲的重复频率匹配的液滴靶,实现多路液滴靶流的液滴靶都能在预设打靶位置完全被激光脉冲轰击得到极紫外光,以较高的轰击频率达到提升极紫外光转换效率的目的。

    2024-01-11
  • 曝光装置及刻蚀方法
    曝光装置及刻蚀方法

    本申请涉及一种曝光装置及刻蚀方法,曝光装置包括光源、相控组件以及驱动电路,光源用于发射光束;相控组件设于光源的出光侧,相控组件包括多个用于供光束穿过的相控单元;驱动电路分别与每个相控单元电连接,驱动电路用于对相控单元施加电压,相控单元被配置为能够响应于不同的电压而使穿过其的光束产生不同的相位延迟,以使穿过相邻两个相控单元的光束之间产生相位差。本申请的曝光装置可以通过控制相控组件的电压来调节曝光的光强,曝光操作的灵活性强,可对应各种图形化,降低了掩模版制作成本、减少了掩模版的制作周期。

    2024-01-11
  • 投影对焦的控制方法、装置、设备及可读存储介质
    投影对焦的控制方法、装置、设备及可读存储介质

    本发明公开了一种投影对焦的控制方法、装置、设备及可读存储介质,该方法应用于遥控设备,所述遥控设备中设置有一对焦按键,所述方法包括:获取来自所述对焦按键的第一信号和第二信号;根据第一信号与第二信号之间的触发时间关系发送自动对焦指令或手动对焦指令给投影设备,以供所述投影设备根据所述自动对焦指令或手动对焦指令执行对应的对焦操作,自动对焦指令和手动对焦指令分别对应不同的触发时间关系。本申请通过设置自动对焦指令和手动对焦指令分别对应不同的触发时间关系,从而达到通过一个对焦按键实现投影设备对焦控制功能,提高了投影设备对焦控制的智能性。

    2024-01-11
  • 一种显影盒和处理盒
    一种显影盒和处理盒

    本发明提供一种显影盒和处理盒,该显影盒包括盒体和设置在盒体纵向两端的安装柱,安装柱均凸起于盒体的端面,显影盒还包括至少一个固定构件,固定构件设置在盒体纵向的端部上,且固定构件靠近地设置在安装柱的一侧,固定构件在远离安装柱的一侧设置有抵接部,抵接部的反弹力朝向安装柱所在一侧。该处理盒包括鼓架和上述的显影盒,鼓架纵向的两端均设置有安装槽,安装柱可拆卸地设置在安装槽横向的第一端内,固定构件设置在安装槽横向的第二端内,安装槽的第二端对固定构件的抵接部产生向安装柱方向的作用力。本发明具有方便安装且稳定性好的优点。

    2024-01-10
  • 一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备
    一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备

    本公开实施例提供一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备。方法包括:根据待曝光基板的多个待曝光版图,确定目标扫描速度和各待曝光版图分别对应的预设曝光剂量;根据各待曝光版图和各预设曝光剂量,确定各预设曝光剂量在待曝光基板上对应的各曝光区域;根据各预设曝光剂量,确定参考曝光剂量;基于目标扫描速度对待曝光基板进行扫描,在扫描至各曝光区域的情况下,调节数字曝光机的数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量;其中,根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式,确定对应的目标曝光剂量。本公开的技术方案,可以实现一次扫描过程中的多剂量曝光,节约了曝光时间。

    2024-01-09
  • 一种智能化的多功能视觉传达设计设备
    一种智能化的多功能视觉传达设计设备

    本发明涉及视觉传达设备领域,具体涉及一种智能化的多功能视觉传达设计设备;包括箱体,箱体内一侧安装水平的多级电动伸缩杆,多级电动伸缩杆的活动端安装投影设备,箱体内另一侧开设水平的第一通孔,箱体内设有两块支架,支架一端通过滑动连接组件连接箱体对应侧,滑动连接组件能够使得对应的支架水平移动且沿其轴线翻转,支架远离第一转轴一侧均开设数个上下通透的第一滑槽,第一滑槽内均通过驱动连接部件转动安装有与之同轴的卷轴;本发明通过投影设备作为视觉传达的主体,将数块画布上的设计图进行叠加,每一块画布上展示的设计图均可调整,然后再通过第一通孔作为展示窗口将设计图的整体叠加效果进行传达展示。

    2024-01-09
  • 一种套刻精度的监控方法
    一种套刻精度的监控方法

    本发明提供一种套刻精度的监控方法,收集光刻机台上多个批次中已完成某层光刻且套刻精度稳定正常的多片晶圆光刻时的对准参数;将对准参数的均值设置为该层光刻的套刻精度的基准值;提供晶圆进行该层光刻并实时收集所述晶圆上多点或全点的套刻精度的量测值;将量测值与基准值作差分得到减差值;根据所述减差值确定套刻误差;将套刻误差与预设阈值进行比较,实现对套刻精度的监控。本发明通过预先制定基准,在后续批次晶圆光刻时将套刻精度的量测值与基准值做差分,然后对差分结果进行卡控,能够有效地监控到由于位置变化导致的套刻精度异常,实现了对套刻精度的有效监控。

    2024-01-06
  • 一种基于光频梳的全息显示系统及方法
    一种基于光频梳的全息显示系统及方法

    本发明公开了一种基于光频梳的全息显示系统及方法,本发明通过光频梳将单一频率的相干光光源进行展宽,作为全息显示系统的光源。同时选用多种全息图计算方法计算全息图,并通过全息图生成单元输出光波,经过与所选用全息图计算方法对应的中继光学系统,最终在预设的成像平面接收到重建目标图像。本发明利用光频梳对单一频率的相干光源进行展开,展宽的频带中的各个波长之间存在频率差,从而减弱重建目标图像中因相干光源带来的散斑噪声,同时展开频带宽度的有限性也令重建目标图像的清晰度保持与单一波长的相干光源基本一致。

    2024-01-05
  • 一种数控三维地图模型系统及其搭建方法
    一种数控三维地图模型系统及其搭建方法

    本发明提供的一种数控三维地图模型系统及其搭建方法,包括机架,机架上设有框架板,框架板上设有若干供升降杆穿过的通孔,通孔内设有防滑套,升降杆上端与可变形投影膜连接,机架上设有纵向直线导轨和横向直线导轨,横向直线导轨与纵向直线导轨的滑块连接,横向直线导轨的滑块上设有安装架,安装架上设有对升降杆进行上下驱动的驱动系统,可变形投影膜上方设有投影仪。该三维地图模型系统及其搭建方法可反复生成不同的三维地形图模型,能节约资源和有效降低费用。

    2024-01-05
  • 一种可具有防护机构的补光灯
    一种可具有防护机构的补光灯

    本发明提供了一种可具有防护机构的补光灯,包括:防护组件,前后两个支撑架的远离防水罩的一纵侧外表面右端位置等邻分列固定安装有两个可以防止支撑架空腔内结冰的防护组件,防护组件包括有:外壳、可以在低温条件下启动预先反应的预处理组件和可以升高支撑架空腔内温度的升温组件;外壳的内部上端位置活动安装有预处理组件,预处理组件包括有:固定板、气囊一、气囊二、限位板和密封块。该种可具有防护机构的补光灯,可以起到使防水罩外的支撑架空腔在冬季低温条件下不容易结冰使转杆及支撑板粘连其上,能及时对空腔内的冰块进行化解,保证了工作人员正常调节补光灯的高度和角度的作用。

    2024-01-05
  • 邻近效应修正方法、描绘方法及描绘装置
    邻近效应修正方法、描绘方法及描绘装置

    实施方式提供一种不管衬底的表面形状如何均能够适当修正邻近效应的邻近效应修正方法、描绘方法及描绘装置。实施方式的邻近效应修正方法中,根据从外部输入的描绘信息及从外部输入的衬底的表面形状信息,算出因电子束在衬底中背向散射而产生的背向散射束的能量分布,并根据所算出的能量分布来算出电子束的所需能量。描绘信息是用以通过照射电子束而在衬底上的抗蚀膜形成图案的信息,表面形状信息是关于相对于电子束的照射方向而具有不同高度的衬底的高度的信息。

    2024-01-04
  • 一种全自动曝光机
    一种全自动曝光机

    一种全自动曝光机,其包括第一台面、第二台面、曝光系统以及至少两个抓料机械手和至少一个暂存机械手,第一台面和第二台面位于曝光系统的两端,并且可以分别移动至所述曝光系统处,第一台面和第二台面均用于放置待曝光基件;至少一个暂存机械手从第一或第二台面上抓取基件,待与其最接近的抓料机械手空置后进行交接,随后抓料机械手将该基件转移到下一工位。本发明的全自动曝光机基件的转移更高效曝光产能更高,并且整机系统的结构紧凑,无论是占地面积还是占用的高度空间都会明显减小,特别占地面积减小尤为明显。

    2024-01-04
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