摄影术、电影术、利用了光波以外其他波的类似技术、电记录术、全息摄影术

本发明涉及一种可水显影的热敏版及其制备方法，属于平板印刷技术领域，包括基材、热敏层和保护层，其中热敏层包括以下重量份原料：成膜树脂70‑80份、多官能团单体15‑20份、抗静电组分3‑5份、阳离子引发剂5‑15份、热敏染料5‑15份和溶剂800‑900份；制备方法包括以下步骤：将热敏层原料混合后涂布于基材表面，然后于100℃下干燥1min，然后将保护层原料混合后涂布热敏层表面，在110℃下干燥1min，得到该热敏版，热敏层涂布干重为10‑15mg/dm2，保护层涂布干重为5‑10mg/dm2，本发明制备的热敏版不仅具有良好的水显影性、耐印力，还无静电白点产生，具有较高的应用价值。

本发明公开了一种低配水显影冲版机，涉及丝印设备技术，旨在解决废水的量极大，而其中所含显影液的比例很低，最终导致人们进行回收处理时，进行提纯的难度会较大，还会造成一定程度的浪费，其技术方案要点是：包括底座、固定连接在底座上方的两个机架、以及固定连接在两个机架之间的工作台，所述工作台上设置有传送机构，所述机架内设置有升降器，两侧所述升降器的活动端之间共同固定连接有一个罩体。本发明能够使用少量且多次的清水来对滞留有显影液的PS版进行清洗，并且充分回收浓度相对较高的废水，能够保护节省资源的同时，也能够避免水资源被污染。

本发明公开了一种双面阻焊自动曝光机，属于PCB制造技术领域，包括主机架以及导向槽，检测相机组件装配于主机架上，载体基板两端滑动装配于导向槽中，下基座定位滑动装配于载体基板一侧，下基座中装配有下菲林片，盖板件转动装配于载体基板一端，盖板件中装配有上菲林片，固定框板弹性滑动装配于载体基板和下基座之间，固定框板中布设有承托板，真空阀头阵列布设于承托板一侧，本发明通过滑动布设于导向槽中的载体基板以及活动装配于载体基板一侧的调位机架，能够对双面阻焊的基板进行快速对位以及菲林片吸附，避免了常规曝光设备对PCB基板的挤压定位，防止因板材翘曲造成的曝光漏印，提升了曝光上料的效率，提高了PCB板的产能。

本公开总体涉及用于全方位实时检测光刻特性的系统和方法。一种极紫外(EUV)光刻系统通过用激光照射液滴来生成EUV光。该系统包括收集器以及耦合到收集器的多个振动传感器。振动传感器生成指示来自激光脉冲的冲击波和来自碎片的撞击的传感器信号。该系统利用传感器信号来提高EUV光生成的质量。

本申请公开了一种光机板以及投影光机。所述光机板应用于投影光机，所述光机板包括：金属板，所述金属板具有相背设置的第一表面和第二表面；挡板部，所述挡板部设置在所述第一表面，所述挡板部设置在投影光机处于暗态时的光路上；导热片，在所述第一表面和/或所述第二表面上设置有所述导热片。本申请在金属板的第一表面和/或第二表面上设置有导热片，导热片降低了光机内部温度及挡板部的温度。

本申请公开了一种光机板以及投影光机。所述光机板应用于投影光机，所述光机板包括：金属板，所述金属板具有相背设置的第一表面和第二表面；挡板部，所述挡板部设置在所述第一表面，所述挡板部设置在投影光机处于暗态时的光路上；导热片，在所述第一表面和/或第二表面上设置有所述导热片，并且所述导热片延伸至挡板部并覆盖所述挡板部的表面。

本发明提供一种易于维护的极紫外光源液滴锡靶供应装置。本发明包括阀体和设置于所述阀体内的声学产生及传播装置，阀体的两端分别设有第一端盖板和第二端盖板，所述声学产生及传播装置的输出端连接靶材腔室，所述第一端盖板上设有与该腔室相连的小孔，所述阀体的外部可拆卸地套接有温度调节装置，所述第二端盖板上连接有能够伸入阀体的加压管路，所述加压管路用于向靶材腔室加压，得到连续的锡喷射流，所述温度调节装置用于为阀体加热温度，所述声学产生及传播装置用于将连续的锡喷射流变为稳定的锡液滴流，所述声学产生及传播装置配套有用于为其制冷温的主动制冷装置。本发明在阀体的后期维护上，更加方便，可以大大缩短生产过程中的维护时间。

本发明提供一种掩模坯料、转印用掩模及半导体器件的制造方法。掩模坯料(100)在透光性基板(1)上具备遮光膜(2)，其特征在于，遮光膜具有从透光性基板侧起下层和上层依次叠层的结构，下层由含有硅和氮的材料形成，上层由含有硅和氧的材料形成，对ArF曝光光的光学密度为2.5以上，表面反射率为30％以下，背面反射率为40％以下，对900nm波长的光的透过率为50％以下，下层对900nm波长的光的消光系数为0.04以上，厚度为60nm以下。

本申请涉及一种极紫外光产生方法及系统，包括：光纤激光光源装置根据激光参数产生激光脉冲；液滴靶生成装置在真空环境中根据液滴靶参数生成两路以上交替喷出的液滴靶流，在预设打靶位置形成重复频率与激光脉冲的重复频率匹配的液滴靶；激光脉冲在预设打靶位置轰击对应的液滴靶，产生极紫外光。通过采用能产生高重复频率激光脉冲满足系统要求的光纤激光光源装置，并搭配液滴靶生成装置生成多路交替喷出的液滴靶流，在预设打靶位置形成重复频率与所述激光脉冲的重复频率匹配的液滴靶，实现多路液滴靶流的液滴靶都能在预设打靶位置完全被激光脉冲轰击得到极紫外光，以较高的轰击频率达到提升极紫外光转换效率的目的。

本申请涉及一种曝光装置及刻蚀方法，曝光装置包括光源、相控组件以及驱动电路，光源用于发射光束；相控组件设于光源的出光侧，相控组件包括多个用于供光束穿过的相控单元；驱动电路分别与每个相控单元电连接，驱动电路用于对相控单元施加电压，相控单元被配置为能够响应于不同的电压而使穿过其的光束产生不同的相位延迟，以使穿过相邻两个相控单元的光束之间产生相位差。本申请的曝光装置可以通过控制相控组件的电压来调节曝光的光强，曝光操作的灵活性强，可对应各种图形化，降低了掩模版制作成本、减少了掩模版的制作周期。

本发明公开了一种投影对焦的控制方法、装置、设备及可读存储介质，该方法应用于遥控设备，所述遥控设备中设置有一对焦按键，所述方法包括：获取来自所述对焦按键的第一信号和第二信号；根据第一信号与第二信号之间的触发时间关系发送自动对焦指令或手动对焦指令给投影设备，以供所述投影设备根据所述自动对焦指令或手动对焦指令执行对应的对焦操作，自动对焦指令和手动对焦指令分别对应不同的触发时间关系。本申请通过设置自动对焦指令和手动对焦指令分别对应不同的触发时间关系，从而达到通过一个对焦按键实现投影设备对焦控制功能，提高了投影设备对焦控制的智能性。

本发明提供一种显影盒和处理盒，该显影盒包括盒体和设置在盒体纵向两端的安装柱，安装柱均凸起于盒体的端面，显影盒还包括至少一个固定构件，固定构件设置在盒体纵向的端部上，且固定构件靠近地设置在安装柱的一侧，固定构件在远离安装柱的一侧设置有抵接部，抵接部的反弹力朝向安装柱所在一侧。该处理盒包括鼓架和上述的显影盒，鼓架纵向的两端均设置有安装槽，安装柱可拆卸地设置在安装槽横向的第一端内，固定构件设置在安装槽横向的第二端内，安装槽的第二端对固定构件的抵接部产生向安装柱方向的作用力。本发明具有方便安装且稳定性好的优点。

本公开实施例提供一种扫描曝光方法及装置、扫描曝光设备。方法包括：根据待曝光基板的多个待曝光版图，确定目标扫描速度和各待曝光版图分别对应的预设曝光剂量；根据各待曝光版图和各预设曝光剂量，确定各预设曝光剂量在待曝光基板上对应的各曝光区域；根据各预设曝光剂量，确定参考曝光剂量；基于目标扫描速度对待曝光基板进行扫描，在扫描至各曝光区域的情况下，调节数字曝光机的数字微镜单元在曝光区域的曝光剂量为对应的目标曝光剂量；其中，根据曝光区域对应的预设曝光剂量、参考曝光剂量以及预设的目标剂量关系式，确定对应的目标曝光剂量。本公开的技术方案，可以实现一次扫描过程中的多剂量曝光，节约了曝光时间。

本发明涉及视觉传达设备领域，具体涉及一种智能化的多功能视觉传达设计设备；包括箱体，箱体内一侧安装水平的多级电动伸缩杆，多级电动伸缩杆的活动端安装投影设备，箱体内另一侧开设水平的第一通孔，箱体内设有两块支架，支架一端通过滑动连接组件连接箱体对应侧，滑动连接组件能够使得对应的支架水平移动且沿其轴线翻转，支架远离第一转轴一侧均开设数个上下通透的第一滑槽，第一滑槽内均通过驱动连接部件转动安装有与之同轴的卷轴；本发明通过投影设备作为视觉传达的主体，将数块画布上的设计图进行叠加，每一块画布上展示的设计图均可调整，然后再通过第一通孔作为展示窗口将设计图的整体叠加效果进行传达展示。

本发明提供一种套刻精度的监控方法，收集光刻机台上多个批次中已完成某层光刻且套刻精度稳定正常的多片晶圆光刻时的对准参数；将对准参数的均值设置为该层光刻的套刻精度的基准值；提供晶圆进行该层光刻并实时收集所述晶圆上多点或全点的套刻精度的量测值；将量测值与基准值作差分得到减差值；根据所述减差值确定套刻误差；将套刻误差与预设阈值进行比较，实现对套刻精度的监控。本发明通过预先制定基准，在后续批次晶圆光刻时将套刻精度的量测值与基准值做差分，然后对差分结果进行卡控，能够有效地监控到由于位置变化导致的套刻精度异常，实现了对套刻精度的有效监控。

本发明公开了一种基于光频梳的全息显示系统及方法，本发明通过光频梳将单一频率的相干光光源进行展宽，作为全息显示系统的光源。同时选用多种全息图计算方法计算全息图，并通过全息图生成单元输出光波，经过与所选用全息图计算方法对应的中继光学系统，最终在预设的成像平面接收到重建目标图像。本发明利用光频梳对单一频率的相干光源进行展开，展宽的频带中的各个波长之间存在频率差，从而减弱重建目标图像中因相干光源带来的散斑噪声，同时展开频带宽度的有限性也令重建目标图像的清晰度保持与单一波长的相干光源基本一致。

本发明提供的一种数控三维地图模型系统及其搭建方法，包括机架，机架上设有框架板，框架板上设有若干供升降杆穿过的通孔，通孔内设有防滑套，升降杆上端与可变形投影膜连接，机架上设有纵向直线导轨和横向直线导轨，横向直线导轨与纵向直线导轨的滑块连接，横向直线导轨的滑块上设有安装架，安装架上设有对升降杆进行上下驱动的驱动系统，可变形投影膜上方设有投影仪。该三维地图模型系统及其搭建方法可反复生成不同的三维地形图模型，能节约资源和有效降低费用。

本发明提供了一种可具有防护机构的补光灯，包括：防护组件，前后两个支撑架的远离防水罩的一纵侧外表面右端位置等邻分列固定安装有两个可以防止支撑架空腔内结冰的防护组件，防护组件包括有：外壳、可以在低温条件下启动预先反应的预处理组件和可以升高支撑架空腔内温度的升温组件；外壳的内部上端位置活动安装有预处理组件，预处理组件包括有：固定板、气囊一、气囊二、限位板和密封块。该种可具有防护机构的补光灯，可以起到使防水罩外的支撑架空腔在冬季低温条件下不容易结冰使转杆及支撑板粘连其上，能及时对空腔内的冰块进行化解，保证了工作人员正常调节补光灯的高度和角度的作用。

实施方式提供一种不管衬底的表面形状如何均能够适当修正邻近效应的邻近效应修正方法、描绘方法及描绘装置。实施方式的邻近效应修正方法中，根据从外部输入的描绘信息及从外部输入的衬底的表面形状信息，算出因电子束在衬底中背向散射而产生的背向散射束的能量分布，并根据所算出的能量分布来算出电子束的所需能量。描绘信息是用以通过照射电子束而在衬底上的抗蚀膜形成图案的信息，表面形状信息是关于相对于电子束的照射方向而具有不同高度的衬底的高度的信息。

一种全自动曝光机，其包括第一台面、第二台面、曝光系统以及至少两个抓料机械手和至少一个暂存机械手，第一台面和第二台面位于曝光系统的两端，并且可以分别移动至所述曝光系统处，第一台面和第二台面均用于放置待曝光基件；至少一个暂存机械手从第一或第二台面上抓取基件，待与其最接近的抓料机械手空置后进行交接，随后抓料机械手将该基件转移到下一工位。本发明的全自动曝光机基件的转移更高效曝光产能更高，并且整机系统的结构紧凑，无论是占地面积还是占用的高度空间都会明显减小，特别占地面积减小尤为明显。

本申请公开了一种光学投影系统以及电子设备。所述光学投影系统包括：光源模组和投影模组；所述光源模组具有出光面；所述投影模组包括入射光瞳、光路处理组件和出射光瞳；所述出光面与所述入射光瞳相对设置，并且所述入射光瞳与所述出射光瞳具有共轭关系，所述光路处理组件用于接收从入射光瞳传输的第一光束，所述出射光瞳用于接收从所述光路处理组件传输的第二光束。

本公开涉及一种光刻装置和光刻系统。光刻装置包括：信号生成模块，信号生成模块被配置为根据版图生成一个或多个掩模版图案，并根据一个或多个掩模版图案中的每个掩模版图案分别生成相应的掩模版驱动信号；以及掩模版驱动模块，掩模版驱动模块与信号生成模块通信地连接，且掩模版驱动模块被配置为分别根据一组或多组掩模版驱动信号来控制掩模版上的各个像素区域的透光状态，以在掩模版上形成相应的掩模版图案。

本申请公开了一种投影光源和投影设备，属于光电技术领域。所述投影光源中两个激光器分别向对应的两个聚焦镜发出激光；每个聚焦镜用于将射入的激光会聚向合光镜片中该聚焦镜对应的透射区，透射区用于将射入的激光透射向会聚透镜；会聚透镜上被合光镜片中的两个透射区射出的激光照射的位置关于会聚透镜的光轴对称，会聚透镜用于将射入的激光会聚向荧光轮；在荧光轮的旋转过程中荧光轮中的不同区接受激光的照射；其中第一区用于反射激光，第二区用于在激光的激发下发出荧光；第一区发出的荧光和第二区反射的激光均穿过会聚透镜射向反射区；反射区用于沿目标方向反射射入的光。本申请解决了投影光源的体积较大的问题。本申请用于发光。

本发明公开了一种基于PB相位型准连续超表面的彩色全息图设计方法，首先确定纳米条纹带的初始坐标点以及获取彩色激光照明下该点的相位需求；根据不同波长激光的相位需求计算初始坐标点处全息图对应的相位；计算各种入射激光同时照明时初始坐标点上切线的取向角；沿切线正负方向移动预设步长得到下一个点；重复循环得到一系列的坐标点，然后逐个连接得到一条准连续的纳米条纹线，令其具备一定的宽度获得纳米条纹带，最后根据该方法制作超表面器件。本方法采用点源算法设计纳米条纹带，实现对相位的任意控制，提升彩色全息成像的能量效率。利用准连续型结构，使用红绿蓝三色光照明，实现了高效率的三维彩色全息成像。

本发明是一种基于边缘迭代的电子束光刻剂量形状校正方法，通过判断并存储版图边缘各个点的位置的曝光情况进行迭代的修正，直到符合收敛标准就停止。本发明共分为六个步骤：步骤S1：电子束曝光版图网格划分；步骤S2：判断并存储曝光版图中每个图素边缘各点的位置；步骤S3：模拟电子束曝光版图曝光、显影过程，计算每个图素边缘对应像素的偏移量；步骤S4：根据每个图素边缘对应像素的偏移量，修正每个图素的边缘曝光位置；步骤S5：计算误差并判断迭代是否收敛；步骤S6：获取形状修正后的版图。由于只需要计算版图的边界所以其修正时间较短，且精确校正计算边缘所有点的能量，所以本发明具有高计算效率，高计算精度的特点。

本发明一种光刻方法，包括：根据散焦缺陷图形，确定晶圆表面的散焦缺陷位置是否固定；若散焦缺陷位置固定，则根据所述初始掩模版图和所述散焦缺陷图形，确定散焦缺陷位置对应的分割版图；调整所述散焦缺陷位置对应的所述分割版图的曝光参数；利用所有的分割版图对晶圆依次进行曝光。本申请通过固定散焦缺陷位置，再利用初始掩模版图和散焦缺陷图形确定所述散焦缺陷位置对应的所述分割版图，以此调整所述散焦缺陷位置对应的所述分割版图的曝光参数，从而在光刻工艺中就提前调整转印到晶圆上的掩膜版图形的位置，避免了在化学机械研磨晶圆表面时，晶圆表面产生负荷效应导致晶圆上的部分区域被过研磨或者不充分研磨的问题，提高了器件的良率。

本申请公开了一种投影校正方法、装置及投影系统。其中，投影系统至少包括：支持光学移轴的投影光机和用于调整投影光机的投射方向的旋转机构。该方法包括：获取投影光机的投影信息；获取投影光机的姿态信息；依据投影信息和姿态信息确定将投影光机的投射方向调整至正对目标投影区域所在的平面时，旋转机构需要旋转的第一角度信息，并依据第一角度信息对旋转机构进行旋转；依据第一角度信息确定光学移轴的第一偏移量，并依据第一偏移量对投影光机进行光学移轴。本申请解决了相关技术中对投影画面进行校正时存在画质损失及灰边效果的技术问题。

本发明提供一种调平调焦装置，涉及半导体设备领域。调平调焦装置包括多组一一对应的照明单元和调焦件，调焦件包括预定数量的第一狭缝，多组一一对应的照明单元和调焦件中的每一组中的照明单元射出的检测光线经第一狭缝形成检测光斑，多组一一对应的照明单元和调焦件所分别的检测光斑构成检测光束，调平调焦装置被设置为使得检测光束射向所述硅片，以检测硅片的表面高度。该调平调焦装置通过多组一一对应的照明单元和调焦件形成的检测光束，在硅片表面形成了较大的曝光视场，解决了现有的调平调焦系统在应对具有工艺缺陷的硅片时测量视场较小，导致测量精度较差的问题，提供一种能够对具有工艺缺陷的硅片的表面高度进行精准测量的调平调焦装置。

本发明公开了一种3D打印用SLA韧性光敏树脂，包括以下重量份数的原料：环氧树脂低聚物40～60％，丙烯酸酯低聚物为10～35％，光引发剂7％，改性添加剂5％，助剂3％，以上各组分质量百分比之和为100％，丙烯酸酯低聚物中包括聚碳酸酯丙烯酸酯。该光敏树脂的制备方法为：将环氧树脂低聚物、丙烯酸酯低聚物、光引发剂、改性添加剂、助剂按照一定的重量百分比充分混合；在室温下充分搅拌60～120分钟，得到3D打印用SLA韧性光敏树脂。本发明的3D打印用SLA韧性光敏树脂具有粘度较低，收缩率低，打印速率快的优点，且力学性能稳定，抗老化性能优异，保障了3D打印产品的快速成型性，最终制品具有优异的耐变黄性，在潮湿环境中具有更好的强度及尺寸保持特性。

本发明提供一种套刻精度补偿方法，包括：将晶圆表面区域划分成至少两个图形区域，其中，至少一个所述图形区域覆盖晶圆的边缘；根据不同的套刻精度需求，为不同的图形区域选择不同的补偿模式，同时，利用各所述补偿模式对各所述图形区域进行对位建模补偿；对所述图形区域分别进行对位、曝光；对晶圆表面区域进行显影；对晶圆表面区域进行套刻精度量测。本申请通过针对晶圆上的不同图形区域分别进行对位，同时选择不同的补偿模式对各图形区域进行对位建模补偿，改善了晶圆的边缘区域的套刻精度，提高了晶圆边缘区域的良率，从而改善了晶圆表面区域的整体套刻精度。

本发明公开了一种隐藏式防伪标签曝光装置及制备方法，所述装置包括激光发生器、分光结构、扩束结构、光路传导结构和物体空间光调制器，由激光发生器产生激光束，经过分光镜、扩束镜和准直镜后得到两束以上的相干激光，包括物光和参考光，物光通过物体空间光调制器产生防伪信息，使参考光和带有防伪信息的物光在感光材料层产生干涉形成防伪全息图，在防伪全息图上引入反射型和透射型光栅的波长及角度选择性得到隐藏防伪标签。依据本发明所述的装置和制备方法，可进一步增加图案显现的难度，提升标签的防伪性能。

本发明涉及极紫外光产生的方法以及激光等离子体极紫外光源的装置，极紫外光产生的方法包括步骤：液滴驱动处理、信号检测处理以及位置处理。将激光脉冲信号转化为驱动信号，扰动液体，产生液滴，检测所述液滴的极紫外辐射强度，通过计算获取所述激光脉冲的位置及所述液滴的位置信息，调节所述激光脉冲的位置，使所述激光脉冲聚焦于所述液滴上，产生极紫外光。采用本发明所述的极紫外光产生的方法以及激光等离子体极紫外光源的装置，可以不需要增加同步控制装置，在高频下实现激光脉冲与液滴的精确同步，而且通过调节激光脉冲的位置，实现精确打靶，极大提高了等离子体极紫外光源的转换效率，其次所述方法和装置都简便易操作。

本公开涉及一种显影装置，其包括：显影剂承载构件，其用于承载包含调色剂和载体的显影剂以用于显影形成在图像承载构件上的静电潜像；显影剂容器，其用于容纳所述显影剂；以及振荡电路，其包括由线圈和包含电容器的电路部分构成的谐振电路，并且用于振荡用于检测容纳在显影剂容器中的显影剂的调色剂浓度的信号。线圈形成在显影剂容器的内壁表面上。

本申请提供了一种激光光源及激光投影设备，其中，该光源包括激光模组、光路调整元件、聚光镜、扩散元件和光导管。具体的，通过在激光模组和聚光镜之间设置光路调整元件，利用该光路调整元件将调整所述激光模组中各激光器所发出光束的传播方向，并使每一行的激光器发出的各光束在所述聚光镜上的入射点相对所述聚光镜的光心呈对称分布。通过将每一行的激光器发出的各光束相对聚光镜的光心由非对称转换为对称分布，这样便可以减小各光束与聚光镜光轴之间的间距差异，进而将上述光束经聚光镜聚焦并再次扩散后再进入光导管时，这样可以减小各光束与聚光镜光轴之间的间距同时增加各光束发散角度的多样性，从而可以缩小同一组光路中各光束的入射角度差异并提高匀化，提升画质质量。

本发明提供了一种驱动装置、摄像装置及电子设备。驱动装置，包括第一壳体和第二壳体，驱动装置还包括设置在容置空间内的：固定组件，固定组件容纳腔；透镜支撑体，透镜支撑体的至少一部分活动设置在容纳腔的内部；图像传感器承载组件，图像传感器承载组件的至少一部分设置在固定组件和第二壳体之间；第一驱动线圈；第一驱动磁石，第一驱动磁石对应第一驱动线圈设置；第二驱动线圈；第二驱动磁石，第二驱动磁石对应第二驱动线圈设置在图像传感器承载组件的侧壁上；第三驱动磁石，第三驱动磁石对应第三驱动线圈设置在图像传感器承载组件的侧壁上。本发明解决了现有技术中驱动装置功耗大、防抖效果受限、单价高、产品体积偏大的问题。

本申请实施例属于半导体制造技术领域，具体涉及一种半导体光刻补偿方法，包括：通过机台组合对晶圆进行光刻，机台组合至少包括第一机台和第二机台；通过第一机台进行光刻得到第一曝光结构；获取第一曝光结构的套刻误差的第一测量值；根据第一测量值对第二机台的初始下货值进行补偿。在进行半导体结构的制作过程中，可以通过测量第一机台加工形成的第一曝光结构的套刻误差，将第一测量值对第二机台的初始下货值进行补偿，以便得到第二机台的最优下货值，后续第二机台进行光刻时，第二机台根据其最优下货值进行光刻加工，有利于保证后续第二机台加工形成的曝光结构的套刻误差准确性，从而减少重工次数。

本发明公开了一种LDI自动聚焦控制方法及曝光设备，涉及LDI曝光机技术领域。本发明包括操作板，操作板的上侧装设有两个连接柱，连接柱的两端均弹性且滑动配合有第一滑动板、第二滑动板，操作板的上侧滑动配合有两个第一水管，两个第一水管之间连接并连通有两个第一水箱，两个第一水箱的相对侧均连接并连通有喷管。本发明通过设置的第一滑动板、第二滑动板，方便了通过使用者滑动第一滑动板、第二滑动板对电路板进行定位及解除定位，使得电路板表面在清理过程中晃动的情况，设置的毛刷，方便了毛刷在第一水箱的带动下在电路板的表面进行驱动，进而通过毛刷对电路板表面的杂质进行清理，使得电路板表面杂质清理的过程更加的便捷。

本发明涉及调色剂用外部添加剂和调色剂。一种调色剂用外部添加剂，其包括具有硅氧烷键和Si‑O‑C键的硅聚合物的颗粒，其中在通过ATR法获得的外部添加剂的FT‑IR光谱中，最大峰存在于1030cm‑1至1070cm‑1的范围内，当光谱在1015cm‑1至1025cm‑1范围内的平均强度由A表示，并且在1085cm‑1至1095cm‑1范围内的平均强度由B表示时，A和B满足下式(1)：0.55≤A/B≤1.50...(1)。

本发明涉及调色剂用外部添加剂和调色剂。一种调色剂用外部添加剂，其包含具有硅氧烷键和Si‑R1键的硅聚合物的颗粒，其中R1表示具有1至6个碳原子的烷基，在通过外部添加剂的29Si‑NMR测量获得的图中，在归属于外部添加剂的总峰面积由A表示、并且归属于Si‑R1键的峰面积由B表示的情况下，满足下式(1)，并且在通过外部添加剂的29Si‑NMR测量获得的图中，在归属于硅聚合物的总峰面积由SA表示、并且归属于T单元结构的峰面积由S3表示的情况下，满足下式(2)。0.260≤B/A≤0.450...(1)0.00≤S3/SA≤0.50...(2)。

公开了图像形成装置。图像形成装置包括：图像形成部；加热部，包括加热元件并且加热图像，该加热元件通过来自电源的电力被加热；温度检测部，检测加热部的温度；以及电力控制部，基于来自温度检测部的信息来控制供应到加热元件的电力。图像形成装置还包括检测部，该检测部检测来自电源的电压是否超过额定值，并且当检测部检测到来自电源的电压超过额定值时，电力控制部控制电力供应，使得在一个控制周期中通向加热元件的电流的波形样式变为在一个半波中对加热元件的电力供应时间变为预定时间或更少的相位控制的波形样式。

本申请公开了一种投影屏幕及其制作方法，涉及投影显示技术领域，用于解决投影屏幕的表面容易吸附灰尘的问题。该投影屏幕包括反射层、菲涅尔透镜层以及表面层。菲涅尔透镜层与反射层层叠设置，表面层层叠设置于菲涅尔透镜层远离反射层一侧。其中，表面层包括第一材料和第二材料。第一材料与第二材料共混，且第二材料的表面能低于第一材料的表面能。该投影屏幕用于显示投影机投射的影像。

本发明公开了一种计算机软件设计用教学设备，本发明涉及教学设备技术领域，包括投影仪本体、散热端和散热装置，所述散热端安装在投影仪本体的下方，所述散热装置包括驱动器和双层叶片，所述双层叶片固定安装在驱动器的驱动端上，该计算机软件设计用教学设备，投影仪本体在长时间运行中，其内部元器件会产生大量的热量，驱动器带动双层叶片旋转产生风力，带动外界气流通过进风口进入投影仪本体的内部，同时通过第一磁性块和第二磁性之间的磁性排斥力，使得导风板旋转并通过弹性条恢复原位，从而改变通过风向口处气流的流动方向，扩大气流的散热范围。

本发明公开了一种光刻机的放晶圆装置，涉及到光刻机技术领域，包括箱体、第一输送机构、第二输送机构、光刻模块和硅片支撑机构，箱体的内部设有光刻室和输送室，第一输送机构设于光刻室内，且至少部分伸出箱体，第二输送机构设于输送室内，并一部分伸出箱体，光刻模块设于光刻室内并位于箱体的上侧内壁上，第一输送机构以及第二输送机构上分别可滑动地设有一硅片支撑机构，用于运载硅片。本发明中，可以在箱体的外部直接上料和卸料，无需打开箱体，能够实现光刻机的连续工作，能够实现硅片的完整度的检测，可以将表面磨损或不完整的硅片自动剔除，能够保证加工的质量。

提供了一种在集成电路的制造中用作抗蚀剂的聚合物。还提供了一种非化学放大抗蚀剂组合物，其包括具有至少一个断裂部分的聚合物，该至少一个断裂部分包括被配置成在抗蚀剂组合物曝光于电磁辐射时优先断裂的可光裂解化学连结。还提供了这种抗蚀剂组合物或聚合物的用途以及包括这种组合物或聚合物的光刻方法。

描述了光学地确定结构中不同层中的金属特征是否彼此电接触。当金属特征包括不同的金属和/或具有不同的尺寸，导致检测到反射辐射中的一个或多个共振时，基于一个或多个共振的光谱位置，确定不同层中的金属特征彼此接触或不接触。当金属特征由相同金属形成并且具有相同尺寸时，响应于检测到与金属特征相关联的单个共振，确定不同层中的金属特征彼此接触，并响应于检测到与金属特征相关联的两个以上共振，确定彼此不接触。

一种量测系统，包括：光束量测装置，被配置为感测经放大光束的一个或多个方面并基于感测到的一个或多个方面对经放大光束进行调整；目标量测装置，被配置为在目标与经放大光束相互作用之后测量被修改目标的一个或多个属性，并且确定被修改目标达到参考校准状态的时刻；以及控制装置，被配置为：从目标量测装置接收参考校准状态和达到参考校准状态的时刻；基于接收到的参考校准状态和达到参考校准状态的时刻，确定经放大光束的光束校准状态；并且向光束量测装置提供光束校准状态。

本发明涉及使用特定汽提溶剂从基材上去除一层剥离氟聚合物层的方法，以及使用所述剥离氟聚合物和汽提溶剂的组合的光刻工艺，特别是用于制造OLED装置。

本发明提供一种光刻胶去除方法及半导体器件制造方法，涉及半导体器件制备技术领域。该光刻胶去除方法包括：将器件的光刻胶剥离，得到附着有残留光刻胶的器件；将附着有残留光刻胶的器件置于腔室内，再将腔室内的环境温度调节至第一温度，环境压力调节至第一压力，并向腔室内通入第一流量的含氢气体以软化器件的残留光刻胶；将腔室内的环境温度调高至第二温度，环境压力调高至第二压力，并向腔室内通入第二流量的含氢气体以去除残留光刻胶；第二流量小于第一流量。该光刻胶去除方法利用含氢气体先在较低的第一温度下软化残留光刻胶再在较高的第二温度下去除残留光刻胶，不仅可以提升处理速率，且可以防止器件因长时间处于高温环境而被损伤。

本公开涉及能够优化释放时滞的照相系统、控制方法和程序。外部闪光灯传送从完成发光命令的接收时到发光触发的接受变得可能时的发光准备时间。照相设备通过与外部闪光灯通信来获取发光准备时间，并基于发光准备时间优化发光触发的输出定时。本技术可被应用于例如包括外部闪光灯和照相设备的照相系统。

本发明涉及CPL滤镜技术领域，尤其涉及一种新型CPL滤镜，解决了现有技术中滤镜安装的时候一种滤镜只能对应一种镜头，无法做到一个滤镜适应多种型号的镜头，从而在实际使用中，需要投入较大的财力，不利于使用的问题。一种新型CPL滤镜，包括固定框、连接框和滤镜本体，所述滤镜本体固定安装在连接框的内部，所述固定框的侧壁固定安装有安装架，所述滤镜本体滑动插设在安装架的顶部，述固定框的内部设置有用于将固定框安装在镜头上的夹紧装置。本发明通过设置夹紧装置、固定框、软质密封套和锁紧绳等结构，方便将滤镜本体安装在多种尺寸的镜头本体上，而且安装后可以避免外部光源直接照射进内部，方便增强实用性。