一种磁流体一体式晶振挡板切换机构

技术领域

本发明涉及蒸镀机技术领域，较为具体的，涉及到一种磁流体一体式晶振挡板切换机构。

背景技术

真空蒸镀机为在真空条件下，通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式，蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结，最后形成薄膜。真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点，因此得到广泛的应用。

在真空蒸镀的加工工艺中，一般包括设置在腔体下方的坩埚、以及设置在坩埚上方用来承载被镀膜工件的伞状治具，伞状治具固定被镀膜工件，坩埚包括：蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸镀源(source)，加热蒸镀源使蒸镀源蒸内的蒸镀材料经过加热发生汽化，以扇形的结构向上蒸发，蒸镀材料分子沉积到被镀膜工件上形成薄膜(镀膜)。

在真空蒸镀的过程中，现有的晶振探头多为一位式晶振探头，该一位式晶振探头在连续的对阻蒸器的靶材蒸发量进行检测时，因晶振探头内的晶振片被反复的污染而容易出现晶振频率不稳定的问题，导致晶振探头无法对靶材蒸发量进行准确的检测，致使基片的镀膜厚度不均匀，从而严重的影响了基片的镀膜质量。

发明内容

有鉴于此，为了解决晶振探头内的晶振片被反复的污染而容易出现晶振频率不稳定的问题，导致晶振探头无法对靶材蒸发量进行准确的检测，致使基片的镀膜厚度不均匀的问题，本发明提出一种磁流体一体式晶振挡板切换机构，通过气缸带动磁流体旋转，磁流体旋转带动遮板的旋转，使得遮板上的遮片位于其中一个不使用的晶振片的检测孔的正下方，降低晶振片反复污的次数，当使用的晶振片的检测孔反复污染后，遮片旋转位于该被污染的晶振片的检测孔正下端，使用没被污染的检测孔，降低了晶振片的更换效率，同时遮板被污染后由于与磁流体可拆卸连接，方便更换，使用磁流体增加了蒸镀机腔体的密封性，该结构简单，操作方便，制造成低。

一种磁流体一体式晶振挡板切换机构，包括：蒸镀机腔体顶板1、支架2、气缸3、磁流体4、连接件9、遮板10和晶振片15，其特征在于：所述晶振片15上设有2个检测孔16，所述蒸镀机腔体顶板1的上部设有支架2，所述支架2与气缸3的气缸3轴套接，所述气缸3的气缸3轴连接磁流体4的一端，所述磁流体4的另一端通过连接件9连接遮板10，所述遮板10位于晶振片15的下部，所述晶振片15通过水冷金属管13与蒸镀机腔体顶板1连接。

进一步的，支架2为Z字型，所述支架2的一端设有第一通孔17，所述气缸3的气缸3轴穿过第一通孔17连接磁流体4，所述支架2的另一端可拆卸的连接在蒸镀机腔体顶板1的上部。

进一步的,磁流体4的上端设有凹槽5，中部设有连接盘6，下端设有磁流体轴8，所述气缸3的气缸3轴为D型轴，所述磁流体4的凹槽5为圆形凹槽5，所述气缸3轴与凹槽5通过磁流体4侧面的螺丝或者螺栓可拆卸连接。

进一步的，气缸3与支架2的一端通过螺丝或者螺栓可拆卸连接，连接盘6与蒸镀机腔体顶板1通过螺丝或者螺栓可拆卸连接。

进一步的,连接盘6靠近磁流体4与蒸镀机腔体顶板1的连接处设有密封圈7，增加蒸镀机腔体顶板1的连接处的密封作用。

进一步的,连接件9为中空结构，连接件9与磁流体轴8套接且通过连接件9侧边的螺丝或者螺栓可拆卸连接。

进一步的，遮板10为侧面L型结构，所述遮板10包括轴杆11和遮片12，晶振片15上设有第二通孔18，所述遮片12为圆形或者类圆形，所述遮片12的面积略大于检测孔16的面积且位于其中一个检测孔16的正下方，所述轴杆11穿过第二通孔18与遮片12一体成型，连接件9与遮板10一体成型。

进一步的，气缸3为旋转气缸3，气缸3内设有角度限位器，气缸3通过角度限位器进行旋转。

进一步的，水冷金属管13的一端与晶振片15焊接，水冷金属管13的另一端穿过蒸镀机腔体顶板1并与蒸镀机腔体顶板1焊接。

进一步的，晶振片15为圆形或者矩形结构。

本发明的工作原理：本发明提出一种磁流体一体式晶振挡板切换机构，通过气缸3带动磁流体4旋转，磁流体4旋转带动遮板10的旋转，使得遮板10上的遮片12位于其中一个不使用的晶振片15的检测孔16的正下方，降低晶振片15反复污的次数，当使用的晶振片15的检测孔16反复污染后，遮片12旋转位于该被污染的晶振片15的检测孔16正下端，使用没被污染的检测孔16，降低了晶振片15的更换效率，同时遮板10被污染后由于与磁流体4可拆卸连接，方便更换，使用磁流体4增加了蒸镀机腔体的密封性，该结构简单，操作方便，制造成低。

附图说明

图1为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的结构图。

图2为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的主视图。

图3为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的俯主视图。

图4为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的爆炸图。

图5为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的爆炸图。

主要元件符号说明

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。

具体实施方式

描述以下实施例以辅助对本申请的理解，实施例不是也不应当以任何方式解释为限制本申请的保护范围。

在以下描述中，本领域的技术人员将认识到，在本论述的全文中，组件可描述为单独的功能单元(可包括子单元)，但是本领域的技术人员将认识到，各种组件或其部分可划分成单独组件，或者可整合在一起(包括整合在单个的系统或组件内)。

同时，附图内的组件或系统之间的连接并不旨在限于直接连接。相反，在这些组件之间的数据可由中间组件修改、重格式化、或以其它方式改变。另外，可使用另外或更少的连接。还应注意，术语“联接”、“连接”、或“输入”“固定”应理解为包括直接连接、通过一个或多个中间媒介来进行的间接的连接或固定。

在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“侧面”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时或惯常认知的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。

实施例1：

如图1所示，为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的结构图；如图2所示，为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的主视图；如图3所示，为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的俯主视图；如图4所示，为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的爆炸图；如图5所示，为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的爆炸图。

一种磁流体一体式晶振挡板切换机构，包括：蒸镀机腔体顶板1、支架2、气缸3、磁流体4、连接件9、遮板10和晶振片15，其特征在于：所述晶振片15上设有2个检测孔16，所述蒸镀机腔体顶板1的上部设有支架2，所述支架2与气缸3的气缸3轴套接，所述气缸3的气缸3轴连接磁流体4的一端，所述磁流体4的另一端通过连接件9连接遮板10，所述遮板10位于晶振片15的下部，所述晶振片15通过水冷金属管13与蒸镀机腔体顶板1连接。

所述支架2为Z字型，所述支架2的一端设有第一通孔17，所述气缸3的气缸3轴穿过第一通孔17连接磁流体4，所述支架2的另一端可拆卸的连接在蒸镀机腔体顶板1的上部。

所述磁流体4的上端设有凹槽5，中部设有连接盘6，下端设有磁流体轴8，所述气缸3的气缸3轴为D型轴，所述磁流体4的凹槽5为圆形凹槽5，所述气缸3轴与凹槽5通过磁流体4侧面的螺丝或者螺栓可拆卸连接。

所述气缸3与支架2的一端通过螺丝或者螺栓可拆卸连接，连接盘6与蒸镀机腔体顶板1通过螺丝或者螺栓可拆卸连接。

所述连接盘6靠近磁流体4与蒸镀机腔体顶板1的连接处设有密封圈7，增加蒸镀机腔体顶板1的连接处的密封作用。

所述连接件9为中空结构，连接件9与磁流体轴8套接且通过连接件9侧边的螺丝或者螺栓可拆卸连接。

所述遮板10为侧面L型结构，所述遮板10包括轴杆11和遮片12，晶振片15上设有第二通孔18，所述遮片12为圆形或者类圆形，所述遮片12的面积略大于检测孔16的面积且位于其中一个检测孔16的正下方，所述轴杆11穿过第二通孔18与遮片12一体成型，连接件9与遮板10一体成型。

所述气缸3为旋转气缸3，气缸3内设有角度限位器，气缸3通过角度限位器进行旋转。

所述水冷金属管13的一端与晶振片15焊接，水冷金属管13的另一端穿过蒸镀机腔体顶板1并与蒸镀机腔体顶板1焊接。

所述晶振片15为圆形。

本发明的工作原理：本发明提出一种磁流体一体式晶振挡板切换机构，通过气缸3带动磁流体4旋转，磁流体4旋转带动遮板10的旋转，使得遮板10上的遮片12位于其中一个不使用的晶振片15的检测孔16的正下方，降低晶振片15反复污的次数，当使用的晶振片15的检测孔16反复污染后，遮片12旋转位于该被污染的晶振片15的检测孔16正下端，使用没被污染的检测孔16，降低了晶振片15的更换效率，同时遮板10被污染后由于与磁流体4可拆卸连接，方便更换，使用磁流体4增加了蒸镀机腔体的密封性，该结构简单，操作方便，制造成低。

实施例2：

如图1所示，为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的结构图；如图2所示，为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的主视图；如图3所示，为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的俯主视图；如图4所示，为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的爆炸图；如图5所示，为本发明的磁流体一体式晶振挡板切换机构的爆炸图。

一种磁流体一体式晶振挡板切换机构，包括：蒸镀机腔体顶板1、支架2、气缸3、磁流体4、连接件9、遮板10和晶振片15，其特征在于：所述晶振片15上设有2个检测孔16，所述蒸镀机腔体顶板1的上部设有支架2，所述支架2与气缸3的气缸3轴套接，所述气缸3的气缸3轴连接磁流体4的一端，所述磁流体4的另一端通过连接件9连接遮板10，所述遮板10位于晶振片15的下部，所述晶振片15通过水冷金属管13与蒸镀机腔体顶板1连接。

所述支架2为Z字型，所述支架2的一端设有第一通孔17，所述气缸3的气缸3轴穿过第一通孔17连接磁流体4，所述支架2的另一端可拆卸的连接在蒸镀机腔体顶板1的上部。

所述磁流体4的上端设有凹槽5，中部设有连接盘6，下端设有磁流体轴8，所述气缸3的气缸3轴为D型轴，所述磁流体4的凹槽5为圆形凹槽5，所述气缸3轴与凹槽5通过磁流体4侧面的螺丝或者螺栓可拆卸连接。

所述气缸3与支架2的一端通过螺丝或者螺栓可拆卸连接，连接盘6与蒸镀机腔体顶板1通过螺丝或者螺栓可拆卸连接。

所述连接盘6靠近磁流体4与蒸镀机腔体顶板1的连接处设有密封圈7，增加蒸镀机腔体顶板1的连接处的密封作用。

所述连接件9为中空结构，连接件9与磁流体轴8套接且通过连接件9侧边的螺丝或者螺栓可拆卸连接。

所述遮板10为侧面L型结构，所述遮板10包括轴杆11和遮片12，晶振片15上设有第二通孔18，所述遮片12为圆形或者类圆形，所述遮片12的面积略大于检测孔16的面积且位于其中一个检测孔16的正下方，所述轴杆11穿过第二通孔18与遮片12一体成型，连接件9与遮板10一体成型。

所述气缸3为旋转气缸3，气缸3内设有角度限位器，气缸3通过角度限位器进行旋转。

所述水冷金属管13的一端与晶振片15焊接，水冷金属管13的另一端穿过蒸镀机腔体顶板1并与蒸镀机腔体顶板1焊接。

所述晶振片15为矩形结构。

本发明的工作原理：本发明提出一种磁流体一体式晶振挡板切换机构，通过气缸3带动磁流体4旋转，磁流体4旋转带动遮板10的旋转，使得遮板10上的遮片12位于其中一个不使用的晶振片15的检测孔16的正下方，降低晶振片15反复污的次数，当使用的晶振片15的检测孔16反复污染后，遮片12旋转位于该被污染的晶振片15的检测孔16正下端，使用没被污染的检测孔16，降低了晶振片15的更换效率，同时遮板10被污染后由于与磁流体4可拆卸连接，方便更换，使用磁流体4增加了蒸镀机腔体的密封性，该结构简单，操作方便，制造成低。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。