摄影术、电影术、利用了光波以外其他波的类似技术、电记录术、全息摄影术

本发明属于激光光源技术领域，具体说的是一种激光光源装置，包括灯罩，所述灯罩的内部安装有激光器，所述激光器用于发射蓝色光束，还包括：安装在所述灯罩底部的保护板，所述激光器产生的光束经所述保护板向外射出；两个转动安装在所述灯罩内的一号往复丝杆；螺纹连接在所述一号往复丝杆上的一号固定块；安装在所述一号固定块底端的一号清洁组件，所述一号清洁组件包括用于擦拭所述保护板内壁的一号海绵；通过设置一号海绵可以将保护板内壁上凝结的水珠擦拭掉，无需卸下保护板擦拭，使用方便。

本发明提供了一种用于光刻的光传输装置以及减少光刻胶残留的方法。所述用于光刻的光传输装置包括光源、通道光纤、光纤耦合器、以及延长光纤。其中，所述通道光纤与所述光源连接，用于传输所述光源的出射光；所述延长光纤通过光纤耦合器与所述通道光纤相连，用于降低所述出射光的强度。所述减少光刻胶残留的方法采用所述的光传输装置，将从光源发出的出射光传输到数据处理模块。通过利用激光在光纤中的行程对激光信号强度的衰减作用，增加了光的传输距离，加强了光纤衰减，从而减弱了用于光刻对准的激光的光信号强度，进一步减少了聚酰亚胺负性光刻胶在晶圆表面的残留，提高了晶圆质量。

本发明涉及致动器总成器件和孔径系统。所述致动器总成器件可连接到所述孔径系统。所述致动器总成器件包括柔性电导体基座。所述致动器总成器件还包括第一片基形状记忆合金(Shape Memory Alloy，SMA)致动器单元和第二片基SMA致动器单元，它们单独连接到所述柔性电导体基座，并用于当所述致动器总成器件连接到所述孔径系统时驱动所述孔径系统。所述孔径系统包括：致动器总成器件、通过耦合元件连接的多个叶片、可连接到所述致动器总成器件的所述柔性电导体基座的机电基座，和终端接口。此外，所述致动器总成器件的所述第一SMA致动器单元和所述第二SMA致动器单元可以驱动所述孔径系统上的所述多个叶片。

本发明涉及全息显示技术领域，公开了一种全息显示方法、装置、设备及存储介质，用于提升全息显示的显示效果并提高全息建筑投影的显示准确率。方法包括：对目标建筑区域图像数据进行建筑物提取和三维建筑模型重构并进行位置校正和全息影像生成，得到初始化全息建筑投影数据；进行用户视角位置感知和交互动作识别，得到第一用户视角位置数据和用户交互动作数据；进行交互响应，得到第一全息建筑投影数据并进行光影区域划分，得到第一视觉光照区域和第一视觉阴影区域；进行视角移动轨迹跟踪，得到第二用户视角位置数据并进行光影区域分析，得到第二视觉光照区域和第二视觉阴影区域；进行投影预加载，生成第二全息建筑投影数据。

本发明涉及移动KTV技术领域，具体为一种便携式移动KTV设备，包括机体，所述机体内固定连接有安装架，所述安装架的一侧设置有组装架，所述组装架内固定连接有多媒体播放器，所述机体内设置有两个音响，所述机体的顶部放置有话筒，所述音响和话筒均与多媒体播放器信号连接。本发明，通过将侧盖转动打开，并利用调节件将侧滑架推出至合适的位置，然后将侧撑杆转动打开，拿取投影布和套杆将短接件挂置在侧撑杆端部即完成连接能够通过投影仪投影，与现有技术相比，无需外置搭载用于支撑投影布的架体，且在使用后，可随着移动KTV将投影布一起带走，无需另外手持携带移动，使得移动KTV的使用携带更为便捷。

本发明公开了一种极紫外物镜装调全息图的制备系统和制备方法。本发明极紫外物镜装调全息图的制备系统通过光纤阵列结构的设计可以实现高通量，同一时间由于光纤阵列中有多根光纤，所以通量是常规刻写的多倍。本发明通过光纤阵列的设计，可以实现高通量刻写，提高刻写效率，同时能够生产出亚波长纳米结构的大面积计算全息片（CGH），进一步降低了计算全息片的特征线宽，线宽可以达到nm级别，采用亚波长纳米结构的大面积计算全息片，解决了现有极紫外光刻物镜系统中，非球面面形高精度检测需求。

本发明涉及一种用于光刻系统(100，200)的光学装置(1)，具有包括光学表面(3)的至少一个光学元件(2)并且具有用于使所述光学表面(3)变形的一个或多个致动器(4)。根据本发明，提供应变仪设备(5)用于确定所述光学表面(3)的变形，所述应变仪设备(5)包括至少一根光纤(6)并且光纤(6)保持偏振。

本发明提供一种掩模板及其制备方法。其中，所述掩模板包括基板以及依次层叠于所述基板上的遮光层、粘附层和减反层；其中，所述遮光层的材质包括拓扑绝缘体Sb2Te3和/或Sb2Te3同族化合物。相较于现有技术，本发明提供的所述掩模板利用拓扑绝缘体材料来替代传统的金属遮挡材料。鉴于所述拓扑绝缘体特殊的物理结构，使其具有良好的光学特性。且本发明优选的拓扑绝缘体Sb2Te3和/或Sb2Te3同族化合物具有较高的消光系数，尤其是针对i线能够在超薄状态下满足较高分辨率的光刻需求，有效缓解因膜层厚度过高而导致的掩模的三维效应，提高光刻图形侧壁的垂向性，从而显著地提高光刻质量，同时还能够减少对应的i线光刻胶用量，降低光刻工艺成本。

本发明涉及光刻机技术领域，公开一种调平装置及光刻机。其中调平装置包括吸盘组件、掩模台、垂向运动台和至少三个调平组件。至少三个调平组件的调节球不在一条直线上；垂向驱动组件驱动连接于基座，垂向驱动组件用于驱动基座升降进而带动基底升降，以使基底抵接于调节球的下端点，并使掩模板抵接于调节球的上端点；位移传感器设置于基座和载台部件之间，位移传感器用于检测载台部件相对基座的位移量；控制模块用于接收检测组件的检测结果，并根据检测结果控制垂向驱动组件，当垂向驱动组件驱动基座上升时，若检测结果为位移传感器检测的位移量大于等于预设值，则基底和掩模板达到平行状态，控制模块控制垂向驱动组件停止上升。

本发明涉及光刻制程领域，特别是涉及一种光学临近效应修正方法、装置、设备及介质，通过获取待校掩膜及目标版图图案；对待校掩膜进行试验光刻，并对所述试验光刻的结果进行扫描，得到实际图像；根据所述实际图像，确定扫描边缘图案；确定所述目标版图图案上的取样点；将所述扫描边缘图案与所述目标版图图案叠图；确定各个所述取样点在垂直于所述目标版图图案的边缘的方向上，与所述扫描边缘图案的距离，作为凭证距离；根据各个所述取样点对应的凭证距离及所述目标版图图案，得到校正版图图案；对所述校正版图图案进行OPC处理，得到目标掩膜。本发明依据得到的实际图像对目标版图图案进行调整优化，提升了光学邻近效应修正的精度与准确度。

本发明公开了一种基于周期堆迭的矩形超透镜与相移DMD的无掩膜光刻光学系统，其包括以下步骤：激光器发射激光，采用紫外物镜对光进行聚焦。然后，利用针孔滤波器消除光束通过物镜和其他光学元件时产生的高频噪声，利用准直透镜将球面波转化为平面波，使光平行，将平行光与相移DMD结合，生成特定的空间强度分布，用于定形过程，将相移DMD反射的激光通过4f成像系统与周期堆迭的矩形超透镜进行缩小成像在目标上，将单次曝光分成多个较短的曝光以增加测量次数，在每次曝光之间，搭配的数字全息反馈系统使用相机捕获的全息图来测量样品在每一步的光学相位图，并据此计算每个点与目标相位的差异，然后根据相位差调整灰度光刻的输入图像,并通过改变相移DMD上投影的图案来应用所需的校正，以实现近实时光刻。优点在于本发明为一种新的基于周期堆迭的矩形超透镜与相移DMD的缩小成像光刻方法，在误差范围内，成像尺寸可突破衍射极限达到六分之一波长，保证了光线的输入与输出面为平行平面，对光刻图案的边缘进行了优化，并且无需事先校准光刻胶，在外部振动条件下也能提供高稳定性。

本发明公开了一种光源装置和投影系统，包括激光光源阵列、二向色镜、动态光学部件、荧光转换部件和散热部件。荧光转换部件采用固定式荧光转换部件，可以大幅提高系统可靠性，没有机械运动，可以减小光源装置结构设计尺寸。荧光材料由原来的环形面积缩小为小面积方形或圆形区域，大幅减小了所用的荧光材料的使用量，减少材料成本。另外，没有高速旋转的动态限制，可以对固定式荧光转换部件进行集中散热。光源装置出射的三基色中，红色光为红色荧光和红色激光的混合光线，绿色光为绿色荧光和绿色激光混合光线，由于激光具有较大的色域，因此可以提高投影系统的色彩表现能力。

本发明公开了一种直写式曝光系统，其包括：激光光源、引射系统、空间光调制器和基板安装平台，激光光源安装于可旋转的安装工件并能够进行自转；引射系统包括第一引射镜组、第二引射镜组和第三引射镜组，安装工件能且仅能带动激光光源旋转朝向第一引射镜组、第二引射镜组和第三引射镜组的其中之一，三者对激光的折射率相异。激光光源在旋转时，将会与第一引射镜组、第二引射镜组和第三引射镜组的其中之一对接，并最后通过第一成像镜组、第二成像镜组和第三成像镜组的其中之一射出。由于对激光光源进行旋转，即可得到相异的引射及成像处理，因此可以快捷、方便的对光刻分辨率进行切换，进而可以便利地进行作业。

改进的一种提高光刻机分辨率的方法，本发明借鉴了单分子定位显微的核心思想，创造性地类比应用到光刻机领域。虽然形态上有很大差异，但是光刻机的核心本质也是光学成像技术，即把光掩模版上的精细图案通过光线的曝光投影复制到硅片上。光掩模版上两个挨得很近的点会让光刻机分辨不出，因而在硅片上形成模糊的图案。本发明采用光存储单元，光线在介质中存储，光子之间的间隔均匀由介质原子之间的相隔均匀来决定，利用磁场诱导透明的原理，可以将介质中的传播群速度变慢，离开介质后，光子在传播方向上的间隔变大，光刻机曝光的光线经过处理后，离开介质后光子之间的空间距离大于无干扰距离，光子之间不会再有衍射干扰，将光刻机分辨率大大提高。

本发明公开了一种相机，包括：第一壳体、镜头、镜头盖和密封圈，第一壳体上设置有第一连接部和第一锁定部，镜头盖的内侧壁上设置有第二连接部和第二锁定部，第一连接部与第二连接部滑动连接；当第一锁定部与第二锁定部相锁合，用以限制第一连接部与第二连接部相对滑动，使镜头盖与镜头达到锁闭状态；当第一锁定部与第二锁定部相拆离，用以容许第一连接部与第二连接部相对滑动，使镜头盖与镜头达到释放状态；密封圈环绕设置在镜头周围的第一壳体上，并且与镜头盖相抵接。本发明提供的相机的镜头盖更加容易安装和拆卸，连接和锁定结构简单可靠，不易松动、脱落，并且还拥有良好的防尘、防水的效果。

本发明涉及一种掩模坯的制造方法、掩模坯及光掩模。本发明的掩模坯具有成为相移掩模的层。所述掩模坯具有层叠于透明基板上且具有相移能力并含有铬的掩模层。所述掩模层含有氧和氮。所述掩模层的远离所述透明基板的一侧的表面上的氧与氮的组成比O/N为20以上。

本申请实施例提供的一种定影控制装置、定影控制方法和图像形成装置，该定影控制装置包括：加热组件、加压组件、切换单元、驱动单元、检测单元以及控制单元，该切换单元用于切换加热组件和加压组件之间的压接状态，压接状态包括加压状态和解压状态；驱动单元，用于驱动切换单元切换加热组件和加压组件之间的压接状态；检测单元，用于检测驱动单元的旋转位置；控制单元，用于控制所述驱动单元转动，还用于当检测单元检测到第一位置信号时，控制驱动单元按照第一速度以第一方向转动第一时间，使得压接状态切换至加压状态；当检测单元检测到第二位置信号时，控制驱动单元按照第二速度以第二方向转动第二时间，使得压接状态切换至解压状态。

一种检测装置，用于对待测物进行检测，检测装置包括：光源组件，用于提供入射光束；光束整形组件，包括用于在特定方向上对所述入射光束进行第一整形的第一光束整形单元，所述第一光束整形单元包括光束调制器以及位于所述光束调制器光路下游的聚焦准直组件，所述光束调制器用于调整所述入射光束沿特定方向的内外径，所述聚焦准直组件用于调整所述入射光束的缩放倍率并对所述入射光束进行准直，以形成用于照射至所述待测物上的探测光束，所述探测光束经所述探测物衍射后形成信号光束；探测组件，用于接收并探测所述信号光束，形成检测图像。提高检测装置的检测稳定性和检测速度。

本发明公开了一种显影盒，可拆卸地安装至具有感光鼓的鼓盒中，所述显影盒包括：显影框体，可容纳显影剂；显影辊，可旋转的支撑在所述显影框体上，并可绕沿左右方向延伸的显影辊轴线旋转，所述显影辊可与所述感光鼓接触和分离；芯片，在左右方向上设置在所述显影框体的一末端；所述显影盒还包括迫推部和可接收所述迫推部的迫推力的被迫推部，所述迫推部可接收外力并相对于所述显影框体滑动，所述被迫推部可响应于所述迫推部的滑动而带动所述显影框体相对于所述感光鼓移动，使所述显影辊从所述接触位置移动至所述分离位置。

本发明提供了一种OPC修正方法、装置及掩膜板结构，应用于半导体技术领域。其首先对测试版图中的正方形图形进行辅助图形添加，并得到第一仿真图形，然后利用预设公式分别为正方形图形设置一图形形貌参数，以确定出周边区域添加有辅助图形后的正方形图形的实际曝光图形与圆形图形的相似度，即评估出通孔结构在周边环境影响下的整体形貌，然后筛选出实际曝光图形与圆形图形相比相差较大的正方形图形，并将其沿着仿真图形上关键尺寸CD偏小的方向旋转，从而弥补通孔结构所对应的正方形图形在OPC修正中其周边环境的不对称对其形貌的影响，进而实现了降低芯片部件与其他芯片部件发生短接的风险，以实现提高半导体器件性能的稳定性的目的。

一种空间深低温红外相机高精度次镜调焦装置，包括主体结构组件、驱动组件、柔性传动组件、导向组件和传感器组件；主体结构组件用于固定驱动组件、柔性传动组件和导向组件，并提供调焦装置对外安装接口；驱动组件包括低温步进电机、滚珠丝杠副，并将低温步进电机输出旋转运动转化为滚珠丝杠副螺母的直线运动；柔性传动组件采用相似三角形原理缩小滚珠丝杠副螺母的输入位移，并通过双层柔板驱动自身的芯轴沿光轴方向运动；导向组件用于保证滚珠丝杠副螺母在直线运动过程中无旋转；传感器组件用于在线测量滚珠丝杠副螺母的位移。

本发明提供了一种涂胶显影设备单元均衡流片的调度方法及系统，包括：步骤S1：判断处于空闲状态的所有工艺单元的使用状态；步骤S2：根据工艺单元的使用状态选择最优工艺单元作为加工程序路径执行工艺。本发明可有效避免工艺单元的重复使用或者不使用状况，提高设备的使用周期。

提供了用于使用离轴照射来测量强度的系统、设备和方法。示例方法可以包括：用第一辐射束以第一入射角照射衬底的表面的区，并且作为响应，测量从所述区域衍射的第一组光子。示例方法还可以包括：用第二辐射束以第二入射角照射所述区，并且作为响应，测量从所述区衍射的第二组光子。示例方法还可以包括基于所测量的第一组光子集和所测量的第二组光子来产生关于所述区的测量数据。

本申请公开了一种激光投影设备，属于激光投影技术领域。激光投影设备，可以包括：散热风扇、控制器、至少一个待散热器件和至少一个温度传感器。控制器可以通过检测每个温度传感器内的并联电阻的阻值，确定对应的待散热器件的工作温度，在检测出待散热器件的工作温度高于温度阈值后，开启散热风扇，控制待散热器件的温度处于合适的温度范围。这里，控制器通过电阻值‑温度值函数确定待散热器件的工作温度，由于该函数为线性函数，因此，控制器确定温度值的过程计算量较小，使得控制器确定温度值的效率较高，在待散热器件的工作温度高于温度阈值后，控制器可以及时开启散热风扇，延长了激光投影设备的使用寿命。

本公开实施例提供了一种光刻机的清洁方法，光刻机包括载台、设置于载台上方的物镜以及用于提供曝光光束的曝光光源，载台上附着有污染物；清洁方法包括：提供控片，将控片置于载台上；对控片执行曝光工艺，曝光光源通过物镜向控片辐射曝光光束以加热控片，控片将热量传递至附着在载台上的污染物，以降低污染物与载台之间的粘附性。

本申请提供一种灰度掩模版及其制作方法，该制作方法包括：步骤一，提供一玻璃基板，在该玻璃基板上形成相移掩模层；步骤二，依次实施光刻胶涂布、曝光显影、刻蚀和光刻胶去除，在该相移掩模层中形成多个凹槽；步骤三，重复实施步骤二，在该相移掩模层中形成多个由上而下呈宽度逐步减小台阶状的沟槽。通过本申请，可以通过大规模集成电路制造批量实现灰度光刻。

本申请实施例提供一种控制装置、耗材、控制方法及图像形成装置，图像形成装置与耗材间的数据传输速率由耗材的控制装置确定，图像形成装置在获取控制装置发送的第一通信速率后，根据第一通信速率来调整与耗材的数据传输速率，可以提高耗材与图像形成装置通信成功的概率。

本申请公开了一种投影设备和波长转换装置的位置调整方法。该投影设备包括光源系统和位置调整机构，光源系统包括：激发光源、第一补色光源、透镜组和波长转换装置，其中：激发光源，用于发射激发光；第一补色光源，用于发射第一补色光；波长转换装置包括驱动装置、基板、光斑整形元件和波长转换元件，其中，光斑整形元件和波长转换元件均呈圆环形设置于基板上，驱动装置传动连接基板，驱动装置配置为带动基板绕其轴心转动，扩散元件的圆心、基板的圆心以及波长转换元件的圆心相对应；位置调整机构，用于调整波长转换装置的位置，以使得自透镜组出射的激发光入射至波长转换元件，以及自透镜组出射的第一补色光入射至光斑整形元件。

本发明公开了一种基于大数据的家居投影设备用散热系统，涉及投影仪技术领域，包括反射除点机构、散热风扇和反射镜，所述反射除点机构安装在装配外壳的内部，所述装配外壳的内部固定连接有灯泡，所述装配外壳的表面安装有投影镜头，所述装配外壳的内部固定连接有分隔支板，所述反射镜与装配外壳之间固定连接，所述反射镜的表面滑动连接有移动拨块，所述移动拨块的表面固定连接有风动阻板，所述移动拨块的内部固定连接有除点滑板，本发明通过散热风扇吹出的风带动风动阻板移动，风动阻板会带动移动拨块移动，移动拨块会在反射镜的表面斜向上滑动，移动拨块会同时带动除点滑板将反射镜下表面的灰尘刮除，防止投影出现黑点。

本发明揭示了一种非矩形光罩的容器及光罩储存盒，非矩形光罩的容器适用于容纳一椭圆形光罩，非矩形光罩的容器包括：一盖及一基座，盖包括一内侧表面和自内侧表面向下延伸的一分隔壁，内侧表面和分隔壁界定出一椭圆形空间；多个光罩保持器，部分延伸至椭圆形空间中，光罩保持器用于抵持椭圆形光罩的一边缘；盖与基座在经过配置安装后，可以在彼此结合的状态下界定出一椭圆形空间，基座具有多个光罩支撑件，光罩保持器与光罩支撑件在经过配置安装后，可以固定支持椭圆形光罩；本发明提供的一种非矩形光罩的容器及光罩储存盒，能够解决现有光罩容器仅能够容纳矩形光罩的问题。

本发明提供一种光栅夹持工装及夹持方法，涉及光刻技术领域。该光栅夹持工装包括夹持组件，夹持组件包括基板，基板的板面沿X向相对的两侧区域均设有条形口，且各条形口均沿X向延伸；基板的第一板面设有调节部件，调节部件的调节端连接有连接臂，连接臂的夹持端设有夹持头，各连接臂一一对应穿过相应的条形口伸出基板的第二板面，夹持头配置为在调节部件的调节下朝向或背离目标光栅移动以卡入或脱离位于目标光栅侧壁的第一卡槽。该光栅夹持工装能够减少夹持及放置目标光栅的过程中对其造成的碰撞损坏，从而确保目标光栅的测量精度及使用寿命。

一种对位检测图案，用于半导体制程，包含具有多个不规则分布的第一线路图案及多个位于第一线路图案外侧的第一外层图案的第一图案单元，及具有多个不规则分布的第二线路图案及多个位于第二线路图案外侧的第二外层图案的第二图案单元。所述第一线路图案及第二线路图案构成内线路单元，所述第一外层图案及第二外层图案各自以相同节距分布，并构成定位图案单元。本发明叠对误差校正方法即是先依据默认数据将所述定位图案单元调整定位后，再计算取得所述内线路单元的调整参数，而可作为叠对误差的校正依据。此外，本发明还提供一种对位校正系统及叠对误差校正方法。

本发明涉及一种电子设备和配件，其用于减少在配件附接时部分端子断开造成的通信错误。该电子设备(100)，其可拆卸地附接有配件(200)，电子设备包括多个触点(TC01～TC21)，多个触点能够电连接至配件并且配置成一行。多个触点包括用于检测配件向电子设备的附接的附接检测触点(TC06)以及从配件向电子设备的通信请求所使用的通信请求触点(TC11)。附接检测触点和通信请求触点布置在多个触点的配置方向上的最靠近一端的触点和最靠近另一端的触点之间。附接检测触点布置在通信请求触点和最靠近一端的触点之间。在配置方向上，附接检测触点和通信请求触点之间的距离短于通信请求触点和最靠近另一端的触点之间的距离。

本发明提出了一种热靴装置、相机配件及相机，热靴装置包括壳体、第一接触组件、第二接触组件以及驱动组件；壳体限定出腔体，壳体具有连通腔体的第一开口；第一接触组件位于腔体，第一接触组件适配第一类安装件；第二接触组件位于腔体，第二接触组件适配第二类安装件；驱动组件连接第一接触组件与第二接触组件，驱动组件具有第一状态以及第二状态，驱动组件配置成处于第一状态时驱动第一接触组件由第一开口伸出腔体，且驱动第二接触组件由第一开口缩回腔体，处于第二状态时驱动第一接触组件由第一开口缩回腔体，且驱动第二接触组件由第一开口伸出腔体。本发明的热靴装置能够根据需求而切换接触组件的位置，从而提高了热靴装置的连接适配性。

本发明公开了一种纳米压印平压式自动脱模机构，包括压印基体承载装置，所述压印基体承载装置顶部移动设有印模安装架，所述印模安装架一侧设有连接板，所述连接板顶部设有用于驱动所述印模安装架沿所述连接板升降的驱动组件，所述印模安装架底部设有压印组件，所述印模安装架侧壁对称设有调节组件，通过采用简单易行的方式完成各类印模压印后的脱模过程，以缓慢均匀地方式完成脱模，使压印较大的脱模力从锲型块接触边缘有效释放，极大降低脱模过程对机械力精准控制的依赖，以及机械装置加工装配精度带来的影响；通过采用平压的压印方式与微锲合的脱模方法相结合，着力于有效解决各类纳米压印脱模导致的缺陷问题。

本发明实施例提供一种自动对焦运动控制方法、系统、存储介质及处理器，属于自动对焦控制技术领域。所述方法包括：判断相机的离焦距离是否在可检测范围内，若不在，则控制电机驱动相机移动至离焦距离在可检测范围内；当相机离焦距离在可检测范围内，根据当前离焦距离和速度进行曲线规划，控制电机驱动相机移动至焦点位置；控制电机跟焦保持离焦距离在预设阈值内。该方案能够在高倍镜下显微成像的快速自动对焦和跟焦策略，整个设计方案高效简洁，能够兼容不同的对焦驱动需求，且跟焦过程准确保证对焦距离始终在景深以内，满足绝大部分自动对焦系统应用场景。

本申请公开了一种光源系统和投影设备。根据本申请实施例的光源系统通过偏振转换器将第一光转换为第一偏振光，通过偏振光源发射第二光，第一偏振光与第二光的偏振方向垂直，再合光元件将第一偏振光和第二光合光后出射，提高了光的利用效率并且结构简单，相比纯激光投影光源来说，同亮度下，色彩更好，成本更低。

本发明实施例公开了一种组合式机器视觉照明系统及其工作方法，该系统包括：低角度照明组件、高角度照明组件以及检测面，所述高角度照明组件位于所述低角度照明组件的上方，所述检测面的正方向放置有相机；所述低角度照明组件以及所述高角度照明组件分别位于所述检测面与所述相机之间。通过实施本发明实施例的系统可实现减少光源芯片数量，降低成本，增大到达检测面的光斑范围并提升光斑亮度均匀性，增大光线利用率，提高亮度，提升光学效率。

本申请公开了一种曝光范围扩展方法、装置、终端设备以及存储介质，其曝光范围扩展装置应用于光刻机曝光范围扩展，包括：第一掩模台，所述掩模版基材基固定在所述第一掩模台上方；第二掩模台，所述第二掩模台设置于所述第一掩模台的外围，所述第二掩模台的几何中心和所述第一掩模台的几何中心重合，所述第二掩模台与所述第一掩模台拼接形成同一平面。实现了光刻机曝光范围扩展，提高光刻机对掩模版基材尺寸的兼容性。

本发明公开一种光罩储柜系统及光罩载入方法和光罩卸除方法，该系统包含：一储放柜，包含多个存放架，每一个存放架用于承载一专用光罩储存盒；及一机械手臂，配置成与该储放柜配合以搬运所述专用光罩储存盒；其中，所述专用光罩储存盒用于该储放柜中的储藏及调度；其中，该储放柜包含一缓冲区，配置成存放已清洁或已使用过的一个或多个专用光罩储存盒。

本发明涉及一种感光性树脂组合物，其含有：(A)具有乙烯性不饱和基和酸性取代基的光聚合性化合物、(B)具有两个以上(甲基)丙烯酰基的(甲基)丙烯酸酯化合物、(C)具有两个以上除(甲基)丙烯酰基以外的乙烯性不饱和基的化合物、(D)光聚合引发剂、以及(E)有机过氧化物。

本发明公开了一种提高SRO垂直度的方法及封装基板、电子设备、存储介质，涉及封装结构技术领域。该方法包括：获取待加工基板；在待加工基板的表面涂布绿油层；按照预设的贴附参数，在绿油层的预设位置贴附预设厚度的透明保护膜；透明保护膜的预设厚度根据曝光机的光源以及SRO的需求垂直度确定；对绿油层进行整平；曝光机利用光源对绿油层进行曝光，曝光过程中，透明保护膜对光源进行过滤，以提高SRO的垂直度；去除透明保护膜，对曝光后的绿油层进行显影，获得SRO。根据本发明实施例的提高SRO垂直度的方法，通过在绿油层上贴附透明保护膜，从而使得透明保护膜能够对曝光的光源进行过滤，进而提升SRO的垂直度。

本公开涉及一种成像设备，包括第一可旋转构件、第二可旋转构件、空气喷嘴以及管道。所述管道包括沿着与记录材料进给方向相垂直的所述第一可旋转构件的宽度方向延伸的部分。

本发明公开一种微结构的制备方法，包括：提供一基底；N次在基底上点涂压印胶并匀胶，各次得到含有第N压印胶层的中间结构；使用模板对中间结构进行压印，制得所述微结构；N≥2，第N压印胶层的点涂位置与第N‑1压印胶层的点涂位置不完全相同，和/或第N压印胶层的点涂位置位于第N‑1压印胶层的点涂位置上；第N‑1次匀胶的最终转速大于第N次匀胶的最终转速。本发明采用在基底上多次点涂压印胶并匀胶的技术方案，通过调整匀胶的转速使相邻两次中前一次的匀胶速度大于相邻两次中后一次的匀胶速度，使得多个压印胶层叠加后在不同的位置具有不同的厚度，进而可以在压印后形成不同高度的微结构，减少压印胶的使用量，避免浪费，降低成本。

本发明公开了一种高DOP的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物及其应用，所述光敏聚酰亚胺光刻胶包括聚酰胺酸树脂、重氮萘醌磺酸酯、热交联剂、表面活性剂、低收缩添加剂和溶剂。本发明的光敏聚酰亚胺光刻胶使用的低收缩添加剂一方面可以降低固化时光敏聚酰亚胺光刻胶膜的收缩，进而降低表面粗糙度，提高平整性；另一方面可以增加与聚酰亚胺的粘附性，降低弯折时的脱落，并且使光敏聚酰亚胺光刻胶膜有更小的弯折半径，从而增加在制作柔性屏的可靠性。

本发明公开了印刷技术领域的一种用于激光打印机的彩色墨粉及其制备方法，包括如下重量份的组分：苯丙树脂70‑90份、着色剂8‑13份、电荷控制剂1‑2份、气相二氧化硅0.5‑1份、石蜡复合材料5‑8份。本发明提出石蜡复合材料，通过在石蜡中加入月桂酸和氮化硼‑微晶纤维素复合材料，提高墨粉的导热效果。

用于检测被定位的样品的位置的系统、装置和方法可以包括：静电保持器，该静电保持器被配置为保持样品并且当该静电保持器保持样品时在样品的外侧边缘与该静电保持器的结构之间形成间隙区域，其中间隙区域涂覆有第一涂层，该第一涂层被配置为反射具有第一亮度的第一波长的光并且反射具有第二亮度的第二波长的光，第一波长在预定波长范围内，第二波长在预定波长范围外，并且第一亮度高于第二亮度；光源，其被配置为将光引导到间隙区域；以及光学检测器，其被配置为对从间隙区域反射的光进行成像。

本发明公开了一种基于数字化曝光的加工系统及方法，涉及激光加工技术领域。包括激光光源，用于产生激光光束；电子快门，位于激光光源的出光侧；扩束分束系统，扩束系统将激光光源调制成平行光，分束系统用于将激光光源产生的激光分束为第一光束和第二光束；空间光调制器，用于载入编码数字化相位图、光束照射到空间调制器后返回的衍射光携带编码的信息；投影光路，位于空间光调制器之后；二维移动台，位于投影光路的成像面一侧；光刻胶板，设置于二维移动台上；监控装置，用于实时拍摄曝光区域的情况并传输至电脑实时监控；计算机，电连接电子快门、二维移动台、空间光调制器、监控装置。本发明能对复杂结构进行加工，且加工设备成本低、效率高。

一种极紫外光源装置，包括：腔室，其具有下表面、中间焦点、在下表面和上表面之间的侧表面、第一排气口以及第二排气口，在下表面上布置有聚光镜，在上表面上具有第二排气口，并且第二排气口与中间焦点间隔开；液滴供应装置，其与腔室的侧表面相邻，并且被构造为将液滴供应至腔室中以生成极紫外光；光源，其被构造为通过使激光振荡来生成极紫外光；捕捉器，其与腔室的侧表面相邻，与液滴供应装置相对，并且被构造为接收从液滴供应装置排出的液滴；第一排气单元，其连接到第一排气口；以及第二排气单元，其与腔室的上表面相邻，并且连接到第二排气口。

本申请实施例提供一种光学系统和投影装置，光学系统包括：光源组，能发出第一颜色光线、第二颜色光线和第三颜色光线；黑白液晶面板，用于调制以及透射第一颜色光线、第二颜色光线和第三颜色光线；合光件，用于解析经黑白液晶面板调制后的偏振光，并将第一颜色光线、第二颜色光线和第三颜色光线合光后反射至投影镜头；光回收组件，设置于合光件和光源组之间，以将合光件透射的部分偏振光回收至黑白液晶面板处，并最终送入投影镜头。通过使用三颜色光源，且使用合光件取代现有技术中的下偏光片的设置，与光回收组件配合可以实现部分偏振光的回收再利用，可以降低偏振光的损失，并动态降低光源功耗，提高投影装置的光效利用率。