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等离子体处理装置及处理基板的方法

文献发布时间:2023-06-19 10:08:35


等离子体处理装置及处理基板的方法
相关技术
  • 等离子体处理装置的腔室内部件的温度控制方法、腔室内部件和基板载置台、以及具备它的等离子体处理装置
  • 等离子体处理装置、等离子体处理方法以及包括待处理基板的元件的制造方法
技术分类

06120112434388