对金属材料的镀覆、用金属材料对材料的镀覆、表面化学处理、金属材料的扩散处理、真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆、金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

  • 一种用于钛合金化学镀镍工艺
    一种用于钛合金化学镀镍工艺

    本发明公开了一种用于钛合金化学镀镍工艺,该化学镀镍工艺包括以下步骤:步骤1验收;步骤2装挂;步骤3除油;步骤4活化;步骤5浸锌;步骤6化学镀镍;步骤7热处理;本发明所提供的用于所有钛合金材料表面化学镀镍工艺,可以不用根据不同牌号的钛合金选取不同的活化溶液类型;均采用HF和TiCl3的混合溶液即可达到活化钛合金零件表面的效果,同时为了解决钛在化学镀镍溶液中电位不能自催化反应这个问题,本发明采用了浸锌的工艺方法,相对于传统的浸锌工艺方法需要进行两次浸锌,一次溶锌工序来说,本发明通过活化表面后,直接采用沉锌剂即可达到在化学镀镍液中自催化的效果,提高了工作效率,减少多道工序操作不当的风险。

    2024-04-22
  • 一种高强度螺栓、用钢及其生产工艺
    一种高强度螺栓、用钢及其生产工艺

    本发明公开了一种高强度螺栓、用钢及其生产工艺,涉及螺栓加工制造技术领域,其技术方案要点包括合金主体,所述合金主体的外侧设置有金属共渗层和合金外层;所述金属共渗层采用离子注入工艺形成于所述合金主体的外侧,所述合金外层采用沉积工艺附着在所述金属共渗层的外侧;其中,所述金属共渗层为向所述合金主体的外侧注入Bi和/或Sb与Mn形成,且所述合金外层为CoFeB或FeBX,X为V、Nb、Zr、W、Mg或Mo。本发明具有在结合离子注入技术加工获得的金属共渗层在保护内层合金主体的同时,并协同由合金外层CoFeB或FeBX的磁性和薄膜强度,有效降低化学析氢反应概率,使得该高强度螺栓具有显著提升抗拉强度并提高耐延迟断裂性能的效果。

    2024-04-22
  • 一种用于显示屏的酸性双氧水体系的蚀刻液添加剂、蚀刻液及其制备方法
    一种用于显示屏的酸性双氧水体系的蚀刻液添加剂、蚀刻液及其制备方法

    本发明一种用于显示屏的酸性双氧水体系的蚀刻液添加剂,包括以下组分:PH调节剂,质量百分比为0.5%‑40%;复合表面活性剂,质量百分比为2%‑40%;超纯水,质量百分比为20%‑97.5%。一种用于显示屏的酸性双氧水体系的蚀刻液,包括添加剂和基础液,添加剂相对蚀刻液的质量百分比为0.05%‑5%,基础液包括草酸和水,草酸和水的质量百分比为(3%‑5%):(95%‑97%)。一种用于显示屏的酸性双氧水体系的蚀刻液的制备方法,包括以下步骤:将质量百分比为20%‑97.5%的超纯水、质量百分比为0.5%‑40%的PH调节剂、质量百分比为2%‑40%的复合表面活性剂搅拌得到添加剂;将添加剂按照质量百分比为0.05%‑5%添加至基础液中,搅拌过滤得到蚀刻液。本发明的添加剂可以抑制起泡现象,降低液体表面的张力,提升蚀刻良率,可以增大ITO材料的溶解度。

    2024-04-22
  • 具有耐火性的钢构件的生产方法
    具有耐火性的钢构件的生产方法

    本发明涉及一种用于在钢构件中产生(生产)耐燃性和/或耐火性和/或用于提供(装备)具有耐燃性和/或耐火性的钢构件的方法,特别是涉及一种产生(生产)耐燃性和/或耐火性钢构件的方法。

    2024-04-22
  • 一种锡铜钛蚀刻液
    一种锡铜钛蚀刻液

    本发明提供一种锡铜钛蚀刻液,所述的蚀刻液成分包括占蚀刻液总重量3‑10%的双氧水、2‑10%的有机酸、0.5‑2%的氟化物、1‑6%的无机酸,0.1‑5%的金属掩蔽剂,剩余为去离子水,其中,氟化物与无机酸的质量分数比为1:2‑1:3。无机酸优选盐酸,通过控制蚀刻液中氟化物与盐酸的质量分数比来调节金属锡与铜钛的蚀刻速率,从而达到良好的蚀刻形貌。

    2024-04-22
  • 一种航空用水基缓蚀剂制备方法
    一种航空用水基缓蚀剂制备方法

    本发明公开了一种航空用水基缓蚀剂制备方法,包括以下步骤:S1:称取药品,重量百分比具体为5%‑30%乌洛托品、1%‑30%对甲苯磺酸盐、1%‑20%多羟基羧酸盐、1%‑20%咪唑、1%‑20%吡啶、1%‑15%钠盐;S2:在容器中加入足量水,并水浴加热至30‑40℃;S3:将S1中称取的药品加入容器中,进行搅拌混合,搅拌时间为20‑40min,搅拌速率为50‑500rpm,得到水基缓蚀剂,水基缓蚀剂的组成成分重量百分比为:5%‑20%乌洛托品、1%‑20%对甲苯磺酸盐、1%‑15%多羟基羧酸盐、1%‑15%咪唑、1%‑15%吡啶、1%‑10%钠盐,余量为水,根据GJB8622‑2015,本申请的航空用水基缓蚀剂在满足相应实验要求的同时不含磷,对环境无污染。

    2024-04-22
  • 一种镀锌钢管热浸镀锌处理装置
    一种镀锌钢管热浸镀锌处理装置

    本发明适用于钢管镀锌加工领域,提供了一种镀锌钢管热浸镀锌处理装置,包括底板,底板上安装有用于盛放电镀液且可对电镀液进行加热的镀锌槽,还包括:摆动式镀锌机构,摆动式镀锌机构包括气动组件、抵固组件、横移升降组件、挡管板、套环、横管、铰支座一、摆动管、铰支座二、支轴、固定轴、转动座和套管二,横移升降组件用于驱动横管升降以及水平往复移动,通过气动组件控制抵固组件对钢管进行固定。本发明驱动钢管运动的方式新颖,以及对于钢管的固定可靠,可全面镀锌处理,提升加工的质量。

    2024-04-21
  • 泵送衬垫及其制造与使用方法
    泵送衬垫及其制造与使用方法

    本文公开一种泵送衬垫,泵送衬垫具有被构造为接收处理气体的气体入口;与气体入口连通的开口,开口被构造为围绕基板支撑件并将处理气体引导到基板支撑件上。每个开口的至少一部分具有不同的尺寸。每个开口被构造为提供在目标气体质量流动速率的±5%以内的气体质量流动速率。泵送衬垫还包括被构造为接收未反应处理气体和反应处理气体副产物的气体出口。

    2024-04-21
  • 一种低温电磁加速强化渗涂层装置及其工艺
    一种低温电磁加速强化渗涂层装置及其工艺

    本发明涉及表面强化技术领域,具体涉及一种低温电磁加速强化渗涂层装置及其工艺,包括电磁加速系统、粉末送料系统、工件夹持系统和丸粒与粉末收集与分离系统,所述电磁加速系统料斗用于装盛钢球,电磁线圈、导轨与电流控制器用于产生电磁力加速钢球,所述粉末送料系统,电机、电机调速器和传送带用于粉末的传送,刮粉板用于控制粉末的送粉量,所述工件夹持系统,用于夹持所需加工的工件,本发明能够在低温条件下,通过电磁加速的高速钢球将粉末撞击工件表面,实现工件的碳化,能够灵活的实现工件局部选取渗碳强化,满足诸多复杂的工况,具有能耗低、效率高、过程简单以及钢球和粉末可重复利用等优势。

    2024-04-21
  • 一种带有改进结构的铝制品用着色工装
    一种带有改进结构的铝制品用着色工装

    本发明公开了一种带有改进结构的铝制品用着色工装,涉及着色工装领域,包括连接仓、手柄、滑动槽、齿轮、连接杆、安装仓和限位架,所述连接仓的顶端设置有手柄,所述连接仓的内部开设有滑动槽,所述滑动槽的内部设置有齿轮,所述连接仓的内部设置有延伸至连接仓底端外侧的四组连接杆,一组所述连接杆的底端设置有一组安装仓,所述安装仓的内部设置有延伸至安装仓底端外侧的限位架。本发明通过电动推杆、连接板、齿条、滑动槽、齿轮、连接轴、连接杆、安装仓和限位架使着色工装带动铝制品进行匀速往复旋转,使铝制品表面着色更加均匀,使着色工装在对铝制品进行转动着色过程中具有改进。

    2024-04-21
  • 一种在Au合金表面生成超薄耐蚀氧化层的热处理方法
    一种在Au合金表面生成超薄耐蚀氧化层的热处理方法

    本发明公开了一种在Au合金表面生成超薄耐蚀氧化层的热处理方法,包括如下步骤:将金合金装入封闭容器中,采用惰性气体对封闭容器内部反复洗气,使封闭容器内的氧分压为20‑500Pa,并通入惰性气体作为保护气体;将盛装有金合金的封闭容器进行退火处理,退火的温度为500‑600℃,退火时间为3‑10h;所述金合金中的其他元素可以形成致密氧化层,且可以与Au形成单相的金属间化合物。不改变含Au合金本身的成分配比,仅通过对退火条件的控制达到提高耐蚀性的目的,在储能装备等较多使用贵金属的领域有较强的适用性。

    2024-04-21
  • 一种化学镀金溶液及其镀金工艺
    一种化学镀金溶液及其镀金工艺

    本发明公开了一种化学镀金溶液及其镀金工艺,属于表面处理技术领域。公开的化学镀金溶液,按质量浓度计包括以下组分:柠檬酸金(以Au离子的含量计)为0.5g/L、柠檬酸5‑20.0g/L、还原剂5‑40.0g/L、掩蔽剂2‑15.0g/L、络合剂1‑15.0g/L、辅助剂0.1‑1.0g/L和加速剂0.1‑5.0g/L,镀金溶液pH为5.0‑6.0,控制镀金溶液正常工作时温度在78‑85℃。通过本发明限定的一种半置换半还原的化学镀金溶液,既保证了化学镀金溶液的稳定性,不易分解;还减少了其对镍层的腐蚀。

    2024-04-20
  • 一种智能复合涂层器件及其制备方法、应用
    一种智能复合涂层器件及其制备方法、应用

    本发明提供了Na0.5Bi0.5TiO3‑K0.5Bi0.5TiO3陶瓷涂层在复合涂层中的应用。本发明还提供了一种具有智能复合涂层的器件及其制备方法。本发明设计的Na0.5Bi0.5TiO3‑K0.5Bi0.5TiO3智能传感涂层能够实现对零部件表面的在线监测,增强了涂层之间以及与基底之间的结合力,同时增强对压电信号的收集能力,提高对基底表面的磨损状态实时反馈的灵敏度,而且K0.5Bi0.5TiO3的引入,使得陶瓷涂层的极化难度降低,有利于涂层的压电性的提高。本发明提供的智能复合涂层具有压电性能实现监测能力,而且加强了涂层与基体之间的紧密结合,避免出现涂层剥离以及与零件结合强度较差的问题。

    2024-04-20
  • 一种高热匹配性高温可磨耗封严涂层及其制备方法
    一种高热匹配性高温可磨耗封严涂层及其制备方法

    本发明属于封严涂层材料技术领域,具体涉及一种高热匹配性高温可磨耗封严涂层及其制备方法。该涂层包括大气等离子喷涂制备的底层、中间层及可磨耗面层,其中:底层为MCrAlY合金粉末喷涂而成,M为Co或Ni;中间层为NiCrAl金属陶瓷复合粉末喷涂而成,按质量百分数计,NiCrAl金属陶瓷复合粉末含有56~65%Ni、9.0~14.0%Cr和1.0~5.0%Al,余量为SiO2;可磨耗面层为NiCoCrAl金属陶瓷复合粉末喷涂而成,按质量百分数计,NiCoCrAl金属陶瓷复合粉末含有46~49%Ni、1.0~4.0%Co、8.0~11.0%Cr、1.0~3.5%Al、2.0~7.0%(Y2O3+ZrO2)和18.0~25.0%SiO2,余量为聚苯酯。本发明涂层具有良好的高温稳定性、高热匹配性及可磨耗性,表面洛氏硬度在50~70HR15Y之间,涂层在1050℃保温5min、空冷5min条件下,热循环寿命达到300次以上。

    2024-04-19
  • 用于CVD反应器的蒸汽源
    用于CVD反应器的蒸汽源

    本发明涉及一种用于提供过程气体的装置,该过程气体用于CVD反应器(1、1’、1”),具有输入端质量流量调节器(10),(11)用于提供流入蒸发装置(2、2’、2”)的载气流量,该载气流量将储存在蒸发装置(2、2’、2”)的容器(4)中的原料(3)的蒸气通过过程气体输入管路(9、9’、9”)输送到CVD反应器(1、1’、1”),其中过程气体输入管路(9、9’、9”)中的总压力可以通过压力调节器(8)保持在预定值。为了使输入CVD反应器的原料(3)的质量流量在时间上充分保持恒定,规定通过过程气体输入管路(9、9’、9”)的气流由质量流量调节器调节并且测得在规定的总压力下过程气体输入管路(9、9’、9”)中的原料浓度。

    2024-04-19
  • 处理基板的方法及设备
    处理基板的方法及设备

    提供了用于处理基板的方法及设备。该方法包括:在物理气相沉积(PVD)腔室中从靶材溅射材料以在包含基板特征的层上形成材料层,该特征具有由第一侧壁及第二侧壁限定的开口宽度,该材料层在该层的顶表面具有比在该特征之内的第一侧壁或第二侧壁上的厚度更大的侧向厚度;通过在低功率下用射频偏压将该层偏压在层上沉积额外材料;通过在高功率下用射频偏压将该层偏压从该层蚀刻材料层;并且以预定频率在低功率与高功率之间重复交替。

    2024-04-19
  • 一种钛合金网格状梯度表面改性层的制备方法
    一种钛合金网格状梯度表面改性层的制备方法

    本发明公开了一种钛合金网格状梯度表面改性层的制备方法,该方法的具体过程为:对钛合金依次进行表面预处理、高能喷丸、网格涂层预处理和离子渗氮处理,在钛合金表面形成网格状梯度表面改性层。本发明通过高能喷丸在钛合金表面形成细化层,降低了离子渗氮阻力,提高含N化合物的形核率,从而提高表面改性层厚度并增强其耐磨性,同时形成表层硬度的梯度过渡,提高了渗氮层与钛合金基体的结合力,并通过网格涂层预处理以形成网状表面渗氮层,提高了改性层的耐磨性,从而在钛合金表面获得具有网格状表面渗氮层以及纵向硬度梯度分布的特殊双重结构复合表面改性层,使得钛合金改性层具有硬度高、耐磨性好、不易脱落的性能,适用于钛合金结构件。

    2024-04-19
  • 一种先驱体陶瓷-半导体粉末复合高温热电涂层及其制备方法
    一种先驱体陶瓷-半导体粉末复合高温热电涂层及其制备方法

    本发明属于能源转换技术领域,具体涉及一种先驱体陶瓷‑半导体粉末复合高温热电涂层及其制备方法,其中高温热电涂层自下而上依次包括基底、绝缘层以及复合热电层;所述绝缘层通过高温热解法、等离子喷涂法或高温粘结法制备而成;所述复合热电层由先驱体陶瓷混合半导体粉末高温热解制备而成。本发明的复合高温热电涂层具有优良的使用性能:硬度较高且具有抗氧化特性、高温热稳定性、高温蠕变特性、抗热冲击性能,还有较低的热膨胀性,保证所发明的热电材料在高温下能够稳定使用,本发明提供的热电材料所制备的器件可以在1200℃下正常工作。

    2024-04-18
  • 一种带隙可调的三元合金LuxIn1-xO材料的制备及其日盲紫外探测器的应用
    一种带隙可调的三元合金LuxIn1-xO材料的制备及其日盲紫外探测器的应用

    本发明公开了一种带隙可调的三元合金LuxIn1‑xO材料的制备及其日盲紫外探测器的应用。一种带隙可调的三元合金LuxIn1‑xO材料的制备方法,采用磁控溅射的方法制备三元合金LuxIn1‑xO材料,选择氧化铟靶材和氧化镥靶材;所述氧化铟靶材的溅射功率为25‑35W,氧化镥靶材的溅射功率为30‑150W;将Ar以及O2引入设备腔体,室温条件下,在基底上得到LuxIn1‑xO,其中0

    2024-04-18
  • 一种离子渗氮的局部镀铜保护方法
    一种离子渗氮的局部镀铜保护方法

    本发明属于离子渗氮热处理技术领域,公开了一种离子渗氮的局部镀铜保护方法,包括:向经过预处理后的待渗氮工件的非氮化面进行镀铜。本发明其目的在于解决采用机械屏蔽方法进行局部防渗时,制作难度大,周期长,成本高,效率低的问题。本发明与制作离子氮化专用工装相比,镀铜保护方法操作简单、周期短、成本低以及效率高,加工的镀铜工件各性能指标都能满足要求且稳定。

    2024-04-18
  • 一种不锈钢耐高温熔融氯盐腐蚀防护方法
    一种不锈钢耐高温熔融氯盐腐蚀防护方法

    本发明公开了一种不锈钢耐高温熔融氯盐腐蚀防护方法,包括:在不锈钢表面沉积钼涂层;对表面沉积有钼涂层的不锈钢进行真空退火处理,实现对不锈钢耐高温熔融氯盐腐蚀防护。本发明采用磁控溅射技术在304不锈钢上沉积纯钼涂层,涂层厚度为1.5μm,并在800℃下真空退火3小时。真空退火处理后的钼涂层304不锈钢在700℃下高温熔融氯盐中腐蚀800小时后,样品依然保持好的稳定性。与没有钼涂层以及有钼涂层但未经过退火处理相比,或者相同温度不同退火时间相比,800℃下真空退火3小时后的钼涂层经过700℃下高温熔融氯盐中腐蚀800小时,钼涂层依然保持稳定,能有效地保护304不锈钢,促进了304不锈钢作为结构材料在下一代太阳能光热发电站中的应用。

    2024-04-18
  • 成膜装置以及成膜装置的清洁方法
    成膜装置以及成膜装置的清洁方法

    成膜装置具备:处理容器;溅射用的靶材,其设置于所述处理容器内;载置台,其位于所述处理容器内且具有用于载置基板的载置面;遮挡构件,其能够覆盖所述载置面;搬送机构,其相对于所述载置台搬入和搬出所述遮挡构件;检测部,其设置于所述搬送机构自身,用于检测与有无所述遮挡构件有关的指标;以及处理部,其基于所述检测部的检测结果来判定在所述搬送机构有无所述遮挡构件。

    2024-04-18
  • 一种弯管液固两相流冲刷腐蚀抑制装置
    一种弯管液固两相流冲刷腐蚀抑制装置

    本发明涉及一种弯管液固两相流冲刷腐蚀抑制装置,包括螺旋管、弯管以及阴极保护电源,弯管中部安装有参比电极和辅助阳极,参比电极的接线端部固接有信号变送器,信号变送器通过参比电缆与阴极保护电源的参比接线端连接,辅助阳极通过阳极电缆与阴极保护电源的正极接线端连接,阴极连接端子通过阴极电缆与阴极保护电源的负极接线端连接,零位连接端子通过零位接阴电缆与阴极保护电源的零位接线端连接。本发明充分利用螺旋管产生的螺旋流减小固体颗粒对弯管管壁冲刷效应以及阴极保护有效抑制电化学腐蚀的优势,从流体力学和电化学两方面抑制冲刷和腐蚀分量及其协同效应分量,为工程现场弯管多相流冲刷腐蚀的防治提供了一种简易高效的装置。

    2024-04-17
  • 一种气包装置及原子层沉积设备
    一种气包装置及原子层沉积设备

    本申请涉及半导体制造工艺设备技术领域,公开一种气包装置,包括第一容气部;第二容气部,与所述第一容气部可拆卸连接,共同形成用于装载气体的气包容腔;所述第一容气部和所述第二容气部中的至少一个可改变自身用于装载气体的空间大小,以调节气包容腔的体积。本申请实现可拆卸式气包,能够帮助工艺工程师较为方便地观察气包内部的腐蚀情况。同时,实现可调节式气包,使得工艺工程师可以较为方便地调节气包的气体存储容量。本申请还公开一种原子层沉积设备。

    2024-04-17
  • 一种工艺腔处理方法
    一种工艺腔处理方法

    本申请公开了一种工艺腔处理方法,所述方法应用于工艺腔,所述工艺腔中设置有加热台,所述方法包括:在加热台表面沉积薄膜层;同步清洗所述加热台和工艺腔腔体。本申请通过上述方案,能够提高加热台的使用寿命。

    2024-04-17
  • 复合铜箔制备方法和复合铜箔
    复合铜箔制备方法和复合铜箔

    本申请提供了一种复合铜箔制备方法和复合铜箔。其中,所述复合铜箔制备方法包括:提供基材,所述基材包括正表面、以及连接所述正表面的侧表面;在所述基材的侧表面设置稳定层,其中,所述稳定层的膨胀系数小于所述基材的膨胀系数;在所述基材的正表面至少部分区域设置铜层;去除所述基材的侧表面的所述稳定层。本申请的技术方案能够减少基材的受热变形,保证复合铜箔的性能能够达到使用要求。

    2024-04-16
  • 一种锌铝镁产品的酸洗生产工艺
    一种锌铝镁产品的酸洗生产工艺

    本发明公开了一种锌铝镁产品的酸洗生产工艺,包括以下步骤:(1)将锌铝镁热轧钢卷开卷后头尾剪切、焊接、拉矫;(2)采用三段式酸洗槽酸洗工艺,酸液介质为盐酸,酸液温度75~90℃;通过蒸汽热交换管道对酸槽内部及酸罐中的酸液进行加热,以避免酸液温度过低将影响酸洗质量以及温度过高造成能源浪费且对酸槽增加安全风险;(3)漂洗槽采用四级漂洗,漂洗水温度≥50℃,最后一个漂洗槽中漂洗水的pH≥4;(4)边部吹扫及烘干机对带钢表面进行干燥。本发明的工艺的适用范围锌铝镁系列产品,在酸洗后无欠酸洗、过酸洗和黄斑缺陷,并且改善了钢板表面质量,提高了酸洗后的表面均匀度和白度值。

    2024-04-16
  • 一种用于原子层沉积设备的分体式工艺腔机构
    一种用于原子层沉积设备的分体式工艺腔机构

    本发明公开了一种用于原子层沉积设备的分体式工艺腔机构,包括水平固定板,所述水平固定板的顶面边部固定有多个工艺腔单体,水平固定板的顶面中部固定有分气管,分气管的侧壁上通接有多个侧分气管,侧分气管的外端与对应的工艺腔单体的外侧壁相固定并与工艺腔单体的内腔体相通;所述工艺腔单体包括筒体和固定在筒体的顶部的盖板,盖板的底面固定有装载篮,装载篮上安装有多个待加工的晶圆,相邻两个晶圆之间具有流通间隙;它采用多个工艺腔单体,通过侧分气管对每个工艺腔单体分三路进行均匀进气,使反应源气体快速均匀地流经晶圆表面,解决晶圆薄膜工艺的均匀性和效率问题。

    2024-04-16
  • 导电的硅溅射靶
    导电的硅溅射靶

    一种用于溅射的靶(10),其具有用于溅射的靶材(11),该靶材(11)包含层状结构和至少1%的孔隙率,并且具有低于1000ohm.cm的电阻率,例如低于100ohm.cm,例如诸如低于10ohm.cm,该靶材还包含硅以及来自元素周期表的第13族和/或第15族的至少一种附加元素,其中硅的量是至少98wt.%,更优选至少99wt.%,更优选高于99.5wt.%,并且该至少一种附加元素的量是高于0.001wt.%且低于0.03wt.%,其中所述量不包括氮量,如果存在氮的话。还提供了一种制造方法和溅射方法。

    2024-04-15
  • 一种硬化型镍基合金表面处理方法
    一种硬化型镍基合金表面处理方法

    本发明提供一种硬化型镍基合金表面处理方法,包括以下步骤:提供镍基合金工件;使工件在第一混合溶液内浸泡,第一混合溶液采用体积比为40%至80%的盐酸、5g/L的氯化亚铁、2g/L的氯化镍均匀拌和制成;使工件在第二混合溶液内浸泡,第二混合溶液采用20g/L至44g/L的盐酸、200g/L至440g/L的氯化铁均匀拌和制成。采用本发明的技术方案,通过第一混合溶液对工件的浸蚀,亚铁离子具有破络效应,增强了工件表面材料的活性,缩短了表面处理时间,提高了表面处理效率,通过第二混合溶液对工件浸蚀,三价铁离子具有缩合作用,去除了工件表面附着的顽固污染元素,改善了工件表面质量,提高了处理后工件表面的光洁度。

    2024-04-15
  • 一种使用磁控溅射拼接靶制备Mo-Si系列薄膜的方法
    一种使用磁控溅射拼接靶制备Mo-Si系列薄膜的方法

    本发明公开了一种使用磁控溅射拼接靶制备Mo‑Si系列薄膜的方法,该方法的具体过程为:选用Mo靶、Si靶和B靶,将Mo靶和Si靶制备成Mo/Si拼接靶,然后以单晶Si(100)为衬底,采用单靶溅射或双靶共溅射的方法,在衬底上沉积制备Mo‑Si系列薄膜,并通过调整MoSi拼接靶的成分比例和溅射方式,调控Mo‑Si系列薄膜的成分。本发明针对Mo‑Si系列合金靶材难制备的难题,通过设计并制备不同面积占比的Mo/Si拼接靶进行Mo和Si的成分调控,从而有效控制Mo‑Si系列薄膜中Mo和Si的相对含量,避免了Mo‑Si系合金靶材熔炼困难的问题,且制备方法简单高效,制备的薄膜结构致密,成分均匀,表面质量较好。

    2024-04-15
  • 一种基于物理沉积技术的防爆膜硅太阳电池及其生产工艺
    一种基于物理沉积技术的防爆膜硅太阳电池及其生产工艺

    本发明公开了一种基于物理沉积技术的防爆膜硅太阳电池及其生产工艺,该电池结构包括硅衬底,正面由内到外依次制备有P++发射极、氧化铝层、氮化硅层、金属电极,背面由内到外依次制备有氧化硅隧穿层、轻掺杂并少氢的多晶硅层、重掺杂并富氢的多晶硅层、氮化硅层、金属电极。本发明的防爆膜硅太阳电池生产工艺,基于不会导致绕镀产生的PVD技术,通过调节TOPCon结构中的[H]含量,减少爆膜不良的产生,并且通过后续的氨气退火,将[H]补足,保证了薄膜的钝化能力;本发明基于PVD技术的防爆膜工艺,相较于已公开的其它制备技术,在不产生绕镀的前提下,减少了爆膜现象的产生,提高了电池良率,减少了组件制备中的残次品。

    2024-04-15
  • 一种流化床式气相沉积炉均匀进气的装置
    一种流化床式气相沉积炉均匀进气的装置

    本发明涉及气相沉积炉技术领域,尤其涉及一种流化床式气相沉积炉均匀进气的装置。本发明提供一种流化床式气相沉积炉均匀进气的装置,包括有炉架、流化床反应器和进气管等,所述炉架上固定安装有流化床反应器,所述流化床反应器底部密封连接有进气管,所述炉架上安装有用于对送入气体进行加热的加热器,所述进气管穿过加热器,还包括有气体分布组件,所述流化床反应器底部设有用于使气体分布均匀的气体分布组件。本发明设计有气体分布组件,能够通过连接管、导流管和进气罩的配合对进入流化床反应器的气体流向进行引导,使气体可均匀地沿周向呈一定角度向上流动,进而达到保证气体分布均匀的效果。

    2024-04-14
  • 一种一体化多功能气相沉积装置及薄膜沉积方法
    一种一体化多功能气相沉积装置及薄膜沉积方法

    本发明公开了一种一体化多功能气相沉积装置及薄膜沉积方法,包括:反应腔,所述反应腔由上盖板、腔体本体和下底座三部分组成,均带有加热装置,且可分别拆卸维护,且所述反应腔可根据需求由自动闸板一分为二,避免了不同工艺之间的相互影响。不仅可用于多种化学气相沉积工艺在同一基底材料上同时或依次进行薄膜制备,从而避免了薄膜沉积工艺切换时造成的成本增加和环境空气接触损害,还可以最大程度减小各工艺之间的相互影响。同时,所述一体化多功能化学气相沉积装置同时进行多种薄膜沉积的特点有助于新型功能性薄膜材料的研发,本发明优化了气体布气和抽气导流,可改善气体导流、平衡布气、灵活调控抽气导流、提高清洁效率。

    2024-04-14
  • 掩膜版、显示面板及掩膜版的制备方法
    掩膜版、显示面板及掩膜版的制备方法

    本申请实施例提供的一种掩膜版、显示面板及掩膜版的制备方法,涉及显示设备技术领域。所述掩膜版包括框架、支撑条、遮挡条和掩膜条;所述支撑条、遮挡条和掩膜条均设置在所述框架上,所述遮挡条包括第一区域,所述掩膜条包括第二区域,所述第一区域和所述第二区域沿所述掩膜版的厚度方向的投影存在至少部分重叠;所述遮挡条的第一区域开有贯穿其厚度方向的第一定位孔,所述掩膜条的第二区域开有贯穿其厚度方向的第二定位孔;所述第一定位孔和所述第二定位孔沿所述掩膜版的厚度方向的投影存在至少部分重叠。本申请可以极大地提高遮挡条的对位精度,通过遮挡条能更准确地遮挡出想要达成产品的显示区域。

    2024-04-13
  • 镀膜箱及加工设备
    镀膜箱及加工设备

    本发明属于真空镀膜设备技术领域,公开了一种镀膜箱及加工设备。该镀膜箱包括箱体、腔门以及传动机构。箱体的上端具有开口,腔门封盖于开口,传动机构包括固定组件和活动组件,固定组件设置于箱体内壁,活动组件的第一端连接于腔门,活动组件的第二端与固定组件滑动连接。其中,活动组件能够带动腔门向远离箱体的方向直线运动,并使得腔门向外翻转,以打开箱体。该镀膜箱有利于提升其内部的密封性能,且能够解决镀膜箱开合时,与其内部结构发生干涉的问题。

    2024-04-13
  • 一种纳米镀层技术预防汽轮机轴瓦电腐蚀用夹具
    一种纳米镀层技术预防汽轮机轴瓦电腐蚀用夹具

    本发明涉及汽轮机轴瓦防护技术领域,尤其涉及一种纳米镀层技术预防汽轮机轴瓦电腐蚀用夹具,包括构造件和安装件,安装件设置于构造件的上侧,夹紧组件,包括设置于构造件内的移动件、设置于安装件内的夹紧件、和设置于安装件内的复位件,限位组件,包括限位件和挤压件,本发明通过设置的夹紧组件和限位组件配合使用,且夹紧件包括滑动设置于构造件和安装件内的安装管、设置于安装管内壁的安装台、转动设置于转轴外侧的异形夹块和开设于安装管一侧的第一槽口,异形夹块的一端与安装台连接,另一端伸出第一槽口与环形凸块接触,可便于对汽轮机轴瓦进行快速夹紧固定处理,且操作简单便捷,提升装置的夹紧固定效率,从而提升电镀防护效率。

    2024-04-13
  • 一种用于溅射及离子镀膜的工件装载装置
    一种用于溅射及离子镀膜的工件装载装置

    本发明涉及一种用于溅射及离子镀膜的工件装载装置,包括驱动组件、传动组件和支撑前两者的支撑组件,驱动组件包括驱动轴、与驱动轴连接的驱动键和旋转支撑台,驱动轴与旋转支撑台之间设有第一绝缘垫片,驱动轴上设有第一绝缘套筒,支撑组件包括支撑圈、轴向旋转上底座和承载导电座,轴向旋转上底座上设有第二绝缘套筒,轴向旋转上底座和承载导电座之间设有第二绝缘垫片,传动组件中的太阳轮与支撑圈之间设有第三绝缘套筒和第三绝缘垫片。本发明的一种用于溅射及离子镀膜的工件装载装置,通过设置三组绝缘部件防止短路,通过加装轴承防止齿轮与承载导电座摩擦,从而保证薄膜制备的安全性、可靠性及稳定性。

    2024-04-11
  • 低压化学气相淀积工艺沉积薄膜的方法
    低压化学气相淀积工艺沉积薄膜的方法

    一种低压化学气相淀积工艺沉积薄膜的方法,包括:通过若干次循环处理,直至在各晶圆表面形成具有第一厚度的本征材料膜,各次循环处理包括:本征成膜工艺和本征成膜工艺之后的清洁工艺,本征成膜工艺包括向反应腔内通入第一本征反应气体,清洁工艺包括停止通入第一本征反应气体之后,向反应腔内通入保护气体,对各晶圆表面进行吹扫操作;在形成本征材料膜之后,在本征材料膜上形成掺杂材料膜,掺杂材料膜的形成方法包括:向反应腔室内同时通入第二本征反应气体和掺杂源气体,直至掺杂材料膜和本征材料膜的总厚度为第二厚度,第一厚度小于或等于第二厚度的10%,利于提高最终成膜的质量。

    2024-04-11
  • 一种异质外延生长高导热防护金刚石薄膜及其制备方法
    一种异质外延生长高导热防护金刚石薄膜及其制备方法

    本申请涉及光电领域,公开了一种异质外延生长高导热防护金刚石薄膜及其制备方法,包括以下步骤:将基片放置在脉冲激光沉积系统的样品台上,将靶材放置在靶托,在基片表面脉冲激光沉积保护层;将沉积后的基片放置在微波等离子体化学气相沉积系统的样品台上,通入氢气和氩气,对保护层表面进行等离子体清洗;停止通入氩气,通入甲烷气体和氧气气体,在保护层表面生长金刚石;停止通入甲烷和氧气,降低氢气流量、气压、微波功率,降温速率低于每秒钟1℃,破真空后取出具有高导热防护金刚石薄膜的基片。通过脉冲激光沉积的保护层对所保护的基片的损伤非常低,并且在保护层成功的异质外延生长金刚石层,可以大幅降低金刚石和基片间直接的界面热阻。

    2024-04-11
  • 一种用于异质结太阳能电池镀膜的载板组合
    一种用于异质结太阳能电池镀膜的载板组合

    本发明涉及太阳能电池镀膜领域,公开了一种用于异质结太阳能电池镀膜的载板组合,包括载板框架和若干子载板单元,载板框架中设有柔性支撑结构,柔性支撑结构可张紧地设置在载板框架上。子载板单元可拆卸地设置于柔性支撑结构上。子载板单元横向或/和纵向的一端设置有第一连接件,另一端设置有与第一连接件相互配合的第二连接件。相邻子载板单元的第一连接件与第二连接件可拆卸地间隙配合连接或弹性连接,使得相邻的子载板单元横向或纵向相互连接组合成载板。本发明采用柔性支撑结构进行初步限位,再结合间隙配合连接或弹性连接,不仅解决了大载板热变形问题,而且加大了整体的稳定性,避免高速下子载板单元之间发生碰撞、挤压、叠层交错的隐患。

    2024-04-11
  • 一种支撑掩膜版及掩膜装置
    一种支撑掩膜版及掩膜装置

    本发明提供一种支撑掩膜版及掩膜装置,涉及半导体显示技术领域。其中的支撑掩膜版包括金属基体,金属基体配置有多个第一支撑条和多个第二支撑条,第一支撑条与第二支撑条垂直相交形成网面,网面内具有至少一个开口;第一支撑条和/或第二支撑条上配置有遮挡部,遮挡部朝向与之对应的开口的内侧延伸;还包括附加层,第一支撑条和第二支撑条的围绕开口的部分形成实体区,附加层设置在实体区,并且附加层和与其相邻的开口的内边缘之间间隔有预定距离;附加层较金属基体具有更大的导磁率。其中的掩膜装置中设置有上述的支撑掩膜版。本发明解决了现有技术中异形屏生产时因掩膜版设计问题而导致的掩膜贴合不良以及产品混色缺陷问题。

    2024-04-11
  • 区域选择性沉积的方法
    区域选择性沉积的方法

    本申请属于半导体的技术领域,提供了区域选择性沉积的方法,包括:获取所述半导体基底;构筑液态密封层于所述掩膜板的一侧端,将带有所述液态密封层的一端置于所述半导体基底上;沉积指定材料至所述液封掩膜板。本申请通过液态密封层填充于基底和掩膜板的间隙中,防止原子层沉积在不需要的区域生长的问题,有效填充掩膜板和基底之间的所有间隙,直至分子水平,从而实现密封基底和掩膜板间的间隙的效果,以解决原子层沉积在不需要的区域生长的技术问题。

    2024-04-10
  • 适用于LPCVD法的高精度POLY层制备方法
    适用于LPCVD法的高精度POLY层制备方法

    本发明公开了一种适用于LPCVD法的高精度POLY层制备方法,属于及光伏电池关键原件生产技术领域,通过分散LPCVD炉管内的硅烷喷淋气氛场进而改善POLY膜层均匀性,增加若干路硅烷喷淋管路,并可以同步在工艺配方中调整硅烷气量,使硅烷在炉管气氛场中可以更均匀的分布,从而改善小舟上硅片的上部、中部、下部生成的POLY膜层均匀性;同步在LPCVD炉管的炉口区域增加硅烷辅助抽气管路,可以减少炉口区域硅烷堆积的量,可有效改善小舟上硅片靠近炉口区域的POLY膜层均匀性。

    2024-04-10
  • 一种用于湿法蚀刻补偿蚀刻装置
    一种用于湿法蚀刻补偿蚀刻装置

    本发明属于湿法蚀刻技术领域,特别涉及一种用于湿法蚀刻补偿蚀刻装置,包括:溢流盒;集液槽,位于溢流盒下方;进液管道,位于溢流盒与集液槽之间用于向溢流盒输送药液;其中,进液管道的出液端贯穿溢流盒外一侧壁伸入溢流盒内部,溢流盒上端开设有用于供药液溢流出与待蚀刻面接触的敞口区,集液槽用于收集溢流盒溢流出的药液。本发明的有益效果为:能够有效的提高蚀刻面的减薄均一性,药液消耗量小,并且能够通过集液槽对药液进行收集再利用,使用效果好。

    2024-04-10
  • 一种智能送粉器及其控制方法
    一种智能送粉器及其控制方法

    本公开提供了一种智能送粉器及其控制方法,涉及智能制造技术领域,其中,智能送粉器包括:储粉容器、电控闸门、送粉管道、基于矩阵光纤的粉末流量传感器以及控制器;所述电控闸门位于所述储粉容器的出粉口;所述送粉管道的第一开口端经过所述电控闸门与所述储粉容器的出粉口对应,所述送粉管道的第二开口设置于预设位置;所述送粉管道包括透光管段;所述粉末流量传感器的光发射端和光接收端相对设置于所述透光管段的两侧,所述粉末流量传感器的信号输出端与所述控制器具有信号连接;所述控制器与所述电控闸门的电控部具有信号连接,所述控制器用于基于所述粉末流量传感器的输出信号控制所述电控闸门的开度。

    2024-04-09
  • 一种镍铬合金蚀刻液及其在预制线路板中的应用
    一种镍铬合金蚀刻液及其在预制线路板中的应用

    本发明属于线路板蚀刻领域,具体公开一种镍铬合金蚀刻液及其在预制线路板中的应用,包含镍铬合金活化剂和镍铬合金蚀刻剂,所述镍铬合金活化剂,以镍铬合金活化剂总重量计,包括以下重量百分数组分:浓盐酸2%‑15%、阴离子表面活性剂0.1%‑1%、去离子水补齐余量;所述镍铬合金蚀刻剂,以镍铬合金蚀刻剂的总重量计,包括以下重量百分数组分:浓硝酸1%‑10%、浓硫酸1%‑5%、硝酸铈铵1%‑3%、铜缓蚀剂0.1%‑5%、非离子表面活性剂0.1%‑0.5%、离子水补齐余量。本发明提供的镍铬合金蚀刻液可以快速润湿精细线路,与镍铬合金层发生反应,蚀刻镍铬合金层速度快,抑制铜线蚀刻,而不产生侧蚀或微小侧蚀,对于含有镍铬合金层的精细线路线路板特别适用,且可适配连续蚀刻生产线使用。

    2024-04-09
  • 一种制备复合铝膜的方法
    一种制备复合铝膜的方法

    本发明公开了一种制备复合铝膜的方法,该方法是首先将基底表面经过喷砂处理;然后通过亚音速火焰喷涂技术在基底表面喷涂10‑50μm厚的铝层;将热喷涂制备的铝层放入酸液中腐蚀,得到4‑8μm的铝层;再经过转印技术将酸蚀后的铝层转移到高分子基膜上得到复合铝膜。本发明方法制备铝膜的工艺可控性高,制备的铝膜厚度选择性广,并且铝膜的性能优异,具有广阔的应用前景。

    2024-04-08
  • 一种机坪混凝土下管道阴极保护电位校准方法及装置
    一种机坪混凝土下管道阴极保护电位校准方法及装置

    一种机坪混凝土下管道阴极保护电位校准方法及装置,属于管道阴极保护技术领域。本发明的方法包括:测量获取不同温度和不同土壤含水率条件下的管道阴极保护电位数据;根据不同温度和不同土壤含水率条件下的管道阴极保护电位数据,得到电位矫正公式;测量获取管道阴极保护测量电位、温度及土壤含水率;根据管道阴极保护测量电位、温度、土壤含水率及电位矫正公式,得到管道阴极保护真实电位。本发明能够综合考虑温度及土壤含水率对于阴极保护电位的影响,确保电位测量的准确性。

    2024-04-08
  • 一种碳化木化学镀铜电磁屏蔽材料的制备方法
    一种碳化木化学镀铜电磁屏蔽材料的制备方法

    本发明公开了一种制备具有电磁屏蔽效能的碳化木复合材料的方法。该方法通过碳化、活化,而后对碳化木进行化学镀铜处理,将其赋予良好的电磁屏蔽特性。碳化木接触角可达126.2°,具备较好的疏水特性。碳化木一次化学镀铜6min后,碳化木面粗糙度最小可达7.62μm,化学镀铜12min电导率为240.5S/cm,在8.2到12.4GHz频率范围内,其电磁屏蔽效能平均值可达51.82dB。

    2024-04-08
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