对金属材料的镀覆、用金属材料对材料的镀覆、表面化学处理、金属材料的扩散处理、真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆、金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

本发明公开了一种简单制备玻璃碳膜的方法。所述方法包括：将基底置于化学气相沉积设备的反应腔室中；使所述反应腔室升温至1000～1100℃，之后至少向所述反应腔室内通入气相碳源和还原气体，从而在所述基底表面生长形成玻璃碳膜。本发明的制备方法简单，成本低，反应温度低，反应条件易于控制并且可以在大面积不规则光滑基底上制备出玻璃碳膜；本发明制得的玻璃碳膜表面光滑，均匀可以反光，硬度大，具有与石英等基底相当的硬度。随着镀膜时间的增加透明度逐渐降低，并且使不导电的基底可以导电，镀膜后的基底可以作为导体，反应条件易于控制，可以得到膜厚不同的玻璃碳膜，可以实现大面积不规则基底的镀膜。

本发明涉及一种金属遮罩，其包括一金属材料的遮罩板体以及形成于遮罩板体一侧或两侧的蚀刻构造，蚀刻构造具有至少一图案化蚀刻槽，遮罩板体于图案化蚀刻槽沿着板厚方向的侧边具有板体基部，其中，通过遮罩板体单一侧或两侧的蚀刻构造的图案化蚀刻槽中形成图案化肋部，或是利用遮罩板体两侧形成对称或不对称的蚀刻构造，使板体基部位于遮罩板体的板厚中的中间位置等，使金属遮罩不改变遮罩板体厚度的条件下，有效地提升其机械强度，且具备改善镀膜制造方法粘片的功效。

本发明公开了一种靶材制备方法、装置和靶材，涉及靶材制备领域，能够制备出中间薄两端厚的骨性靶材，从而解决靶材有效利用率低的问题。所述靶材制备方法，包括：采用热喷涂方式，在旋转的背衬管上喷涂靶材层，所述喷枪在所述背衬管的端部区域的喷涂量大于所述喷枪在所述背衬管的中间区域的喷涂量；对形成的靶材层的进行机械加工，使靶材各部分的靶材层厚度大体上与其在溅射时的消耗速度成正比。

本发明公开了一种光学镜片真空镀膜用镜片放置架，属于光学镜片加工技术领域，其技术方案要点是，包括多块定位板和两个U型架；每块定位板的两端均开设有贯通口，且所有的定位板均通过其两端的贯通口来滑动设置在两个U型架上；多块定位板相互平行且端部对齐，其两两成组，且设有多组，每组的两块定位板相互靠近的一侧均设有相互配合使用的放置机构；两个U型架上均套设有多个弹簧，多个弹簧分别位于每个成组的两块定位板之间，且弹簧的端部与定位板固定连接；每个U型架的两端之间均固定连接有中心轴。该种光学镜片真空镀膜用镜片放置架能够通过简单快速的调节来适配不同规格的镜片，操作简单，局限性小。

本发明涉及一种电弧喷涂方法，包括以下步骤：S1：施工准备；S2：待喷涂表面预处理，采用气动控制的喷砂设备对工件的表面进行喷砂处理，使工件的粗糙度达到90‑120um；S3:金属线材预处理，利用除锈剂对金属线材进行清洗，清洗干燥后通过校直机将金属线材拉直，拉直后打磨金属线材使其表面光滑；S4:电弧喷涂；S5:涂层封孔；S6：涂层检查，对喷涂后的外观表面进行检查。其在喷涂前通过将金属线材进行清洗、干燥、校直以及打磨后，使得喷涂后工件外表面光滑、涂层均匀平整致密，涂层与基体结合良好，不起泡，不开裂，无麻面，无起皮的现象，从而提高了工件的防腐性以及结构强度。

本发明公开了一种风冷却器主体热镀锌工艺，包括以下步骤：充氮气、酸洗、水洗、药剂处理、预热、镀锌、自然冷却、钝化处理、打磨修整、水试漏、内部处理及充气。本发明采用上述一种风冷却器主体热镀锌工艺，在冷却器表面附着一层锌层，用来保护基材增加防腐能力，增加传热效率，具有处理费用低、冷却效率高、适应环境广泛、外表美观平整的优点。

本发明公开了一种渗铝渗剂及其应用，本发明之渗铝渗剂,主要包括以下重量百分比的原料：AlO粉末84.000～86.000％、Al‑Si合金粉12.500～13.000％、Al‑Cr合金粉1.500～2.000％、Cr粉0.250～0.300％。本发明还包括所述渗铝渗剂的应用，用于制备渗铝层，包括以下步骤：(1)渗剂配置；(2)清洗；(3)非渗面防护；(4)吹砂；(5)渗铝；(6)清洗；(7)吹砂；即成。本发明的国产渗铝渗剂可推广应用至其他涡轴、涡扇及新一代涡桨/涡轴等多个型号发动机涡轮部件，可完全取代进口渗铝渗剂，能打破对进口渗铝渗剂的依赖，能降低成本。

本发明公开了一种氮化钛涂层的制备方法、基材及应用，该氮化钛涂层的制备方法包括：对基体的表面进行第一次低压等离子喷涂，以在基体表面形成含钛涂层，含钛涂层为钛涂层或氮化钛涂层；对含钛涂层进行第二次低压等离子喷涂氮气，以对所述钛涂层进行氮化处理。通过改变现有的直接采用低压等离子喷涂氮化钛涂层的方式，先低压等离子喷涂含钛涂层，再低压等离子喷涂氮化，低压环境下长且宽的等离子焰流具有高反应性激发态(N*)，自由基(N*)和气体分子(N)可分别与处于高温状态的含钛涂层发生氮化反应，形成氮化钛涂层比低压等离子喷涂直接制备氮化钛涂层具有更高的氮化率，氮化率得到大幅度提高。

本发明公开了一种原位监测原子层沉积设备，包括：前驱体供应单元；沉积腔室，与所述前驱体供应单元连通，所述沉积腔室内部设置有样品台；第一电子束发射单元，与所述沉积腔室连通并向所述样品台发射第一电子束；第二电子束接收单元，与所述沉积腔室连通并接收通过所述样品台衍射形成的第二电子束；第一真空度调节单元，与所述电子束发射单元连通；以及；第二真空度调节单元，与所述沉积腔室连通。本申请解决了现有技术中原位监测原子层沉积设备和RHEED独立设置，在需要监测时，需要重新搭建、组装，搭建工作费工费时，且该种方式搭建完的设备环境，难以保证监测数据的准确性的技术问题。

本发明公开了一种制备Topcon电池钝化膜层的装置，包括载入腔、预热腔、真空传输腔、镀膜模组和载出腔，所述载入腔与预热腔相连接，所述预热腔设置于真空传输腔的一侧，沿着所述真空传输腔的周围设有多个镀膜模组，多个所述镀膜模组采用团簇式排列，所述载出腔与真空传输腔相连接，所述真空传输腔内设有机械手，所述镀膜模组包含外真空腔体、镀膜腔。本发明的有益效果是：团簇式多层堆叠镀膜腔，可提升产能、减少占地面积、降低成本、减少镀膜均匀性变差；板式ALD与PECVD或板式PEALD与PECVD结合的镀膜方式，实现在线掺杂，提高镀膜速率，提高产能，满足Topcon电池不同钝化膜层的性能质量需求。

本发明涉及一种等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置，包括：等离子喷头，等离子喷头的内部形成有电离腔，等离子喷头设有进液通道；等离子电极，等离子电极设置于电离腔的内壁上，且等离子电极开设有汽化通道，汽化通道分别与进液通道和电离腔连通；以及等离子喷嘴，等离子喷嘴安装于等离子喷头上。开启等离子激励电源为等离子电极供电，等离子电极开始放电电离并产生高温(一般可达90摄氏度以上)，产生的高温能够将流经汽化通道的镀膜药液充分且完全汽化(镀膜药液的汽化温度一般在70到80摄氏度之间)，保证最终从等离子喷嘴喷射出的等离子体中不会夹杂镀膜药液，从而确保了对镀膜对象的镀膜质量，以及产品的最终成品品质高。

本发明提供一种汽轮机钛合金叶片的防水蚀层的制备工艺，包括以下步骤：(1)预处理；(2)氮化前准备；(3)等离子氮化：采用等离子氮化炉对钛合金叶片进行等离子氮化，该过程依次包括抽真空阶段、高压起辉阶段、升温阶段、三段渗氮处理阶段和降温阶段五个阶段。本发明的制备工艺加工后的钛合金叶片具有良好的防水蚀层，同时钛合金叶片的硬度得以显著提升，适用于汽轮机末叶片使用；本工艺采用三段渗氮处理使得整个钛合金叶片上得到均匀的氮化改性层，与基体结合强度好；同时提高了钛合金叶片整体的硬度和耐磨性。

本发明涉及真空镀膜机抽气机构领域，尤其涉及一种真空镀膜机的抽气机构，包括安装座，所述安装座的外表面安装有把手，所述安装座的内侧固定贯穿设置有沿竖直方向延伸的抽气管，所述安装座的内侧沿着抽气管的周围设置有若干个填充机构，所述填充机构包括下端沿竖直方向与抽气管滑动连接的活动骨架、从活动骨架外表面朝向两侧延伸出的若干根弧形杆、固定连接在活动骨架与弧形杆靠近抽气管一侧外表面的弹性囊，所述安装座的内侧开设有供弧形杆与弹性囊放入的藏入孔，本发明的抽气机构利于快速安装使用，抽气过程中稳固，连接处不易发生松动的现象，利于抽气过程的正常进行。

本发明公开了一种在细长玻璃管内镀金属银制备高压电极的方法，其是采用添加尿素和NaCl制备的敏化液，及以三乙醇胺为稳定剂、聚乙二醇为助剂制备的镀银试剂，在细长玻璃管内经清洗、敏化、镀银制得一层厚度为0.5～2μm的银镀层，从而以所得含银镀层的玻璃管作为高压电极，制得放电强度均匀、气体流量均匀的放电管，以进而提高臭氧发生器的臭氧产生效率，并同时提高放电电极的可靠性。

本发明公开了一种晶圆级、高质量的氮化硼/石墨烯异质结薄膜的制备方法；它的制备方法为：步骤一：通过表面催化生长方法，在金属表面制备出连续的六方氮化硼薄膜；步骤二：通过等离子体刻蚀技术，将金属箔片一侧表面处的六方氮化硼薄膜除去；步骤三：将该金属箔片折叠为袋状进行密封；步骤四：将该金属袋置于管式炉中，升高到一定温度并通入高浓度含碳气体，实现碳原子由外表面向内表面的扩散，并在降温过程中析出，在金属与六方氮化硼界面处生成石墨烯；步骤五：将该金属袋剪开并水平铺开，转移至目标衬底表面，即可得到六方氮化硼/石墨烯垂直异质结薄膜。本发明的制备工艺适用性高，工艺参数窗口较宽；相比传统通过外延或扩散方式来制备异质结的方法，本方法有效避免原子间的掺杂现象，同时可获得晶圆级，高质量的垂直氮化硼/石墨烯异质结薄膜。

本发明涉及一种碳化钽片的装置及方法，属于半导体材料制备技术领域。为解决现有钽片碳化装置无法分清碳化前和碳化后的钽片碳化情况的不足，本发明提供了一种能同时碳化多个钽片的装置，包括：坩埚体、坩埚上盖、钽片托架、保温层垫块和保温层壳体，多个钽片托架叠放在坩埚体内，钽片托架外壁上刻有编号，内壁加工有凸台，坩埚上盖盖在坩埚体上，保温层垫块和保温层壳体套在坩埚体外。一种能同时碳化多个钽片的方法，步骤为：将碳粉和钽片按碳粉、钽片、碳粉的次序放入钽片托架，盖上坩埚上盖，放入保温层，加热，使钽片在一定的碳化温度内碳化一定时间。本发明通过钽片托架上的标记区分钽片，通过比较碳化前后钽片重量观察钽片碳化是否达标。

本发明属于高熵合金涂层技术领域，具体涉及一种含内生氧化铝增强相的高熵合金涂层及制备方法，该制备方法包括：将主体粉末和铝粉混合得到预制粉末；采用激光熔覆工艺或热喷涂工艺，将预制粉末在基体表面逐层涂覆，制备含内生氧化铝增强相的高熵合金涂层。本发明制备的内生氧化铝的粒径小、分布更加均匀，内生氧化铝与高熵合金的结合更为紧密，制备的含内生氧化铝增强相的高熵合金涂层耐磨性更好；同时本发明提供的含内生氧化铝增强相的高熵合金涂层的制备方法降低了高熵合金涂层的生产成本。

本发明公开了一种半导体晶片表面真空镀膜机，其结构包括冷却装置、真空泵、抽气管、真空腔、辅助加热片、蒸发源、卷辊、电机，本发明改进后进行使用时，工作人员通过水管将冷却水导送到储水槽内部，冷却水通过连通管导送导入件内部，导入件将冷却水稳定的输送到接水槽内部，接水槽内部的冷却水通过接管导送到分流件内部，通过分流条将导水槽分成三个部分，三个导水槽内部的冷却水可以通过互通孔互相流通，使得冷却水可以快速的通过出口导出，可以将冷却水稳定的送出口导流到的薄膜上，使得分流件内部的冷却水均匀的喷洒在薄膜上，防止薄膜表面因高温出现褶皱，保证薄膜表面的平整，提高薄膜的镀膜效果。

本发明公开了一种增强金具耐磨性的氧化物涂料及其应用；所述氧化物涂料的原料按重量份数计包括1～3份醇化物、0～6份的磷酸锌、4～6份的磷酸和0.001～0.030份的浓硝酸，该应用方法首先将磷酸锌加入到去离子水中，然后加入磷酸使磷酸锌溶解，调节pH值，磷酸锌溶液；再将醇化物溶解，搅拌反应，得到醇化物溶液；将磷酸锌溶液均匀的涂抹在烘干的金具表面，烘干，再将醇化物溶液均匀的涂抹在金具表面，烘干；将涂抹醇化物溶液的金具烧结，退火。制备好的样品能够延长样品的使用寿命，耐高温、承受重物等特点，应用范围广泛。本发明在金具表面形成氧化薄膜能够有效的减少摩擦，在金具表面形成致密的保护层保护金具。

本发明公开了一种用于红外金属膜的离子束沉积设备及薄膜沉积方法，该设备包括装卸片腔室和溅射腔室，设在二者之间设有第一高真空隔离阀，装卸片腔室设有真空密封门，真空密封门中贯穿有推进杆，推进杆于真空密封门内侧的一端设有工件台，真空密封门外侧设有用于推动推进杆的推进机构，装卸片腔室连接有第一抽真空装置。薄膜沉积方法采用上述设备进行薄膜沉积。本发明中，设置的装卸片腔室，能够减少溅射腔室的开腔和抽真空次数，缩短抽真空时间，提高产能，能使溅射腔室内始终保持真空环境，减少烧靶次数，提高靶材的利用率。本发明离子束沉积设备具有产能高、靶材利用率高等优点，能够广泛用于沉积红外金属膜，有着很高的使用价值和应用前景。

本发明涉及一种彩色钢板的制备方法，具体包括以下步骤：S1.预处理：对金属基板进行脱脂处理，脱脂温度为55‑75℃，脱脂时间为4‑8s，再对彩板进行水洗、烘干等处理；S2.钝化：使用改良表面处理剂对预处理后的金属基板进行钝化处理，使金属基板表面形成钝化膜，钝化膜厚度为1.5‑2.5um，钝化温度为50‑70℃，制得钝化板；S3.烘干：使用热风干燥机对钝化板进行烘干处理，烘干温度为160‑180℃，烘干时间为8‑15s；S4.面漆涂覆：在钝化板表面涂覆面漆，并在260‑280℃热风下烘烤30‑40s，形成面漆层，制得预成品；S5.后处理：对预成品依次进行油墨印刷、烘干、涂覆保护层、再烘干、压花的后处理工序，制得彩色钢板成品。本发明在不影响彩板膜层性能的基础上，提高彩板的生产高效性。

本发明公开了一种镀锌钢带生产用酸洗装置及其使用方法，涉及渡锌钢带生产设备技术领域，包括底座、刮边机构、收集机构、酸洗箱、水洗箱和净化机构，用于去氧化黑皮的所述刮边机构包括支撑杆、支撑板、下刮刀、上刮刀、调节板、倒U形架板和液压缸，所述支撑板设置于所述底座的上方，支撑板的下表面通过多个支撑杆与所述底座的上表面固定连接，本发明在进行酸洗前，能够通过下刮刀和上刮刀刮去钢带表面的氧化黑皮，避免钢带表面的氧化黑皮影响酸洗，从而提高了酸洗的效果，也降低了酸液的消耗，继而降低了生产成本，且使用过程中，可以调节下刮刀和上刮刀之间的距离，便于对不同厚度的钢带使用，提高了装置的适用性。

本发明涉及泵的性能研究技术领域，公开了一种提高潜油电泵电机头耐腐蚀性能的方法，采用等离子喷涂技术将制备得到的耐腐蚀陶瓷复合材料喷涂至电机头表面，得到厚度在60‑66微米之间的涂层，制备得到的耐腐蚀陶瓷复合材料与现有涂层材料相比，与电机头表面具有更好的结合强度和耐高温高压稳定性，进一步通过控制喷涂条件得到的涂层表面更加平整、致密，几乎不存在空隙和裂纹。所形成的涂层与电机头表面结合强度高，抗热冲击性能强，耐腐蚀性能和耐磨性能显著提高，对潜油电泵电机头起到长久的表面防护作用，能够适应高浓度腐蚀介质的高温高压工作环境。

本申请实施例提供一种半导体腔室，包括腔体，设置在所述腔体内的基座、排气组件以及多个可调件，所述排气组件环绕所述基座设置并具有环绕所述基座设置的多个排气口，多个所述可调件与多个所述排气口一一对应设置，每个所述可调件均能够通过调节与所述排气口对应的气体通道的径向面积来调节气体流量，所述腔体具有抽气口，所述排气口通过所述可调件与所述抽气口连通。本申请实施例所提供的半导体腔室能够平衡腔体内的气压分布，使得腔体内能够形成较为均匀的气流场。

本发明公开了一种退镀液可再生循环的银镀件退镀方法，包括如下步骤：A、退镀件的清洗前处理；B、退镀件的退镀处理：将前处理过后的退镀件，放入退镀池中；所述退镀池中盛装有退镀液，其包括去离子水、硝酸、氢氟酸、硫酸；C、退镀液的再生：将退镀液沉银处理后通过萃取剂萃取处理，然后电解回收完成退镀液的再生。该方法通过退镀件的预清洗，避免了有机物对退镀液循环过程的干扰；利用盐酸代替氯化钠沉银，多余氯离子采用溶剂萃取方法进行脱除，提高了银回收率，并且提高了退镀液的酸度；利用电解方法回收铜，因而不会带入新的污染，还实现了退镀液的循环使用，没有难以处理的硝酸根等污染物的外排。

本发明公开了一种磁控溅射区域降温装置，该磁控溅射区域降温装置安装在磁控阴极的正对面、基片与磁控阴极之间，包括水冷板，所述水冷板底部通过支撑座固定在真空镀膜箱体底部，水冷板上部通过固定支架固定在镀膜箱体上部，所述水冷板朝向基片一侧的面板上焊接有呈蛇形分布的冷却水管，所述冷却水管的进水端及出水端分别通过密封装置与真空镀膜箱体底部密封连接。本发明的磁控溅射区域降温装置安装在磁控阴极的正对面、基片与磁控阴极之间，通过水冷板及冷却水管的设置，可通过水冷来降低周边温度，保证了基片表面的正常工艺温度。

本发明公开了一种蒸镀材料清除装置和蒸镀装置，所述蒸镀材料清除装置设置于蒸发源上方，所述蒸镀材料清除装置包括：导轨，设置于蒸发源出口的至少一侧；至少一个清除组件，设置于所述导轨上；驱动组件，用于驱动所述清除组件沿所述导轨运动，以清除所述蒸发源出口的蒸镀材料。与现有技术相比，本发明所述的蒸镀材料清除装置及蒸镀装置，能够及时清除阻塞在蒸发源出口的蒸镀材料，以提高蒸镀膜层的均一性，提高产品的质量和产品的生产效率。

本发明公开了一种芯片制造的持续工作型表面镀层覆膜装置，包括用于控制本装置的控制机构、用于产生激光的发光机构，还包括用于在芯片的表面镀膜的镀膜机构，所述控制机构的一侧设置有所述发光机构，所述发光机构的下侧设置有所述镀膜机构，所述镀膜机构与所述控制机构通过螺钉连接，所述发光机构与所述控制机构通过螺钉连接。本发明利用激光发生器采用真空蒸镀的方法使靶材加热气化蒸发并沉积在芯片上，快速形成高纯膜层，通过设置水箱、进水管和水泵可以有效的降低激光发生器的温度，有利于持续工作。

本发明公开了一种TZO靶材及其制备方法，所述TZO靶材密度为5.6‑6.3g/cm，所述TZO靶材电阻率为0.1‑0.5Ω.cm，所述TZO靶材主成分为ZnSnO，所述TZO靶材使用wt.％50:50±2的ZnO、SnO固相烧结粉末制备。通过热喷涂方法对TZO靶材进行制备，提高制备效率，并且减少制备成本，并且解决金属靶材在使用过程中的诸多限制，如通氧量的控制，膜层氧含量的控制，及溅射速率低等，及烧结的TZO靶材密度低，陶瓷化程度很低，无法达到使用要求。

本发明公开了一种镍基高温合金表面AlCr料浆渗剂及其制备方法，包括组分A、组分B和组分C，其中，所述组分A为液体，包括5～20％的MgO、5～10％的MgCl、1～5％的AlCl和10～35％的HPO；所述组分B为液体，包括2～15％的CrCl、3～9％的氨水和10～20％的HPO；所述组分C为固体粉末，包括35～55％的AlCr粉末和2～10％的Cr粉，余量为Al粉。本发明渗铝剂应用于航空航天发动机叶片，大大提高了航空航天飞机发动机叶片的使用寿命，并且解决了料浆扩散阶段节瘤的问题，大大增加了经济效益，减少了废品率的出现。

本发明公开了一种具有微纳米结构的硬质疏水涂层及其制备方法，涉及疏水涂层领域。本发明的制备方法，采用带有离子束辅助装置的多弧离子镀设备依次沉积Cr层和CrTiAlN层，之后使用中能碳离子束进行照射，刻蚀的同时碳离子也会注入到CrTiAlN层内部，形成的CrTiAlCN金属碳化物，金属碳化物具有比其氮化物更高的硬度，进一步提高整个涂层的硬度和耐磨性；中能碳离子束处理之后得到的CrTiAlCN，在保留CrTiAlN膜层硬质耐磨性的基础上，进一步提高了其疏水性；碳还具有良好的减摩自润滑性能，降低涂层表面磨损和高分子材料粘附；本发明的制备方法，工艺简单，能够直接应用于工业大规模生成。

本发明公开了一种耐空间极低温石墨稀/碳化铬润滑涂层的制备方法，属于固体润滑材料领域。该耐空间极低温石墨烯/碳化铬润滑涂层是由75～95重量份碳化铬基粉末碳化铬基粉末和5～25重量份镍包石墨烯粉末为原料制备获得；该润滑涂层通过将镍包石墨烯粉末加入至碳化铬基混合粉末中，采用激光同步传粉方式在基体材料表面熔覆技术，制备的润滑涂层与基体材料具有较强的结合力，同时具有表面硬度高、耐磨性能好、摩擦系数低等特点；该润滑涂层能够克服部分润滑涂层在极低温时润滑性能下降而使轴承过度磨损的问题，特别适用于高真空和极低温环境。

本发明提出一种采用水镀黑钛制作镀钛不锈钢的方法及装置，所述方法包括如下步骤：1)制作一条由镀钛药水形成的水流，且该水流的截面高度大于10倍以上待镀钛的不锈钢的厚度；2)将待镀钛的不锈钢以设定的速度连续地从所述水流一侧穿入并从另一侧穿出；3)穿出后的不锈钢即为镀钛不锈钢。本发明通过流动的镀钛药水与不锈钢接触并反应，可避免药水长时间静止出现分层和沉淀，且反应药水溶度实时可控，提高了镀钛不锈钢各方面指标性能的稳定性。

本发明涉及飞机零件快速制造领域，具体是一种飞机防护栅激光熔覆局部防氧化装置及其快速制造方法，包括设置在激光熔覆头上的局部防氧化装置，所述的局部防氧化装置的侧端上设置有若干组外部氩气进入孔，所述的局部防氧化装置的端面上还设置有若干组装配定位卡槽，其具体步骤如下：S1；局部防氧化装置三维模型设计；S2；金属3D打印快速制造；S4；线切割；S5；机械加工；对S6；无损检测；S7；检测；针对飞机大尺寸钛合金防护栅激光熔覆修复过程中的氧化问题，本发明通过金属3D打印快速成形方式，使飞机钛合金防护栅激光熔覆修复质量得到有效提高，以满足飞机防护栅因激光熔覆修复过程中得不到保护而导致氧化。

本发明公开了热镀锌技术领域的一种新型紧固件热镀锌前处理酸洗设备，包括槽体，所述槽体顶部外壁固定安装有封闭间，所述槽体左右两侧外壁分别设置有左侧走道与右侧走道，所述槽体左右两侧内壁之间均匀铰接有翻斗，所述槽体左右两侧外壁均匀设置有翻转机构，所述翻转机构顶部外壁与翻斗连接，装置中全过程自动化运行，不需人工参与，节省人工成本，结构简单，易于维护，模块化设计，使更换、维修更加方便，并且封闭式生产，动力源全部在封闭间外侧，免受酸雾腐蚀，延长使用寿命，同时对环境不产生污染，提高酸洗效率、质量，从而提高产品的镀锌质量。

本发明涉及一种抗环境侵蚀极紫外多层膜表面保护层快速制备方法及应用，所述方法包括以下步骤：在基底上镀制极紫外多层膜；保持极紫外多层膜的真空环境不变，进行镁靶材和铝靶材的预溅射；将镀制有所述极紫外多层膜的基底重复交替运动到镁靶材和铝靶材的溅射区域，控制运动参数，完成镁膜层和铝膜层交替生长的铝/镁多层膜结构的镀制，形成铝镁混合保护层，所述铝/镁多层膜结构中，每层镁膜的厚度为1‑3纳米，每层铝膜的厚度为1‑3纳米；将镀制完成的基底取出真空腔，放置于大气环境中自发融合。与现有技术相比，本发明制备效率高，能大幅提高表面保护层的制作速度，保证极紫外多层膜的稳定性。

本发明涉及一种缸体氮化处理工艺，具体包括以下步骤：1)对缸体内壁作硬质氧化处理；2)将硬质氧化处理后的缸体的内壁进行磨去氧化层；3)将磨去氧化层的缸体进行低于870℃的氮化处理4‑8小时，后自然冷却，反复处理4‑6次。本发明优点在于：采用本发明工艺处理后的缸体耐磨效果好，发动机使用寿命长，节能效果好，动力持久，在缸体氮化处理领域具有较好的推广前景。

本发明公开玻璃镀膜设备之溅射腔体，具有溅射腔室，溅射腔室之底部通过轴承支架设置传动辊，传动辊之间通过锁固支架设置第一冷却水管，溅射腔室之平行于传动辊的两侧内壁设置溅射档板，并在溅射档板与溅射腔室内壁呈面向一侧设置第二冷却水管，在位于溅射腔室内之溅射档板的下侧设置具有间隔开口槽的溅射底板，传动辊之传送轮分别设置在开口槽内，且传送轮形成的上平面高于溅射底板之上平面，溅射底板通过螺栓与固定设置在锁固支架上具有螺纹的独立锁固垫块连接。本发明采用沉孔式螺栓将溅射底板与锁固垫块进行连接，在出现螺栓扭曲、丝口变形等缺陷时不仅无需将锁固支架整体吊离，极大的降低了工作强度，而且操作方便，更加高效。

本发明公开了防粘涂层和碳基舟皿及其制备方法，该防粘涂层包括：过渡层和工作层，过渡层包括铬族元素，工作层设在过渡层的至少一部分上，且包括氧化铝、氧化锆和稀土氧化物中的至少之一。由此，可以提高防粘涂层与舟皿之间的结合强度，增强涂层的隔离能力。将该防粘涂层应用于碳基舟皿表面进行硬质合金烧结时，防粘涂层中的过渡层与碳基舟皿基体具有良好的结合强度，可改善碳基板与工作层之间热膨胀系数的不匹配性，抑制碳基舟皿基体‑涂层‑硬质合金产品之间的元素互扩散效应，提高了防粘涂层的热稳定性，从而可以避免硬质合金产品粘结于舟皿表面而造成涂层剥落以及硬质合金产品的烧结变形与渗碳、脱碳现象，使得该防粘涂层的寿命大大提高。

本发明涉及一种基于线型磁控溅射靶枪的大尺寸平面基底镀膜方法及装置，所述方法包括以下步骤：将所述大尺寸平面基底安装于样品架中心位置；在与样品架所在平面垂直的水平方向安装若干组两两一组的分隔板，且分隔板位于所述基底所在平面上方；获取在每一组分隔板下的薄膜沉积厚度分布；基于所述薄膜沉积厚度分布模拟获得设定厚度要求下相邻两组分隔板的中间线间距；调整各组分隔板的中间线间距后，采用线型磁控溅射靶枪实现大尺寸平面基底的镀膜。与现有技术相比，本发明可以在保证线型磁控溅射靶枪镀膜质量的同时提高在大尺寸平面基底上镀膜的厚度均匀性。

本发明提供一种以Cu箔为基片的岛状Al薄膜及其制备方法和应用，以Cu箔基片为基体，Al靶为靶材，在Cu箔基片上磁控溅射一层Al薄膜，磁控溅射时间为10s‑5min。本发明解决了充放电过程中Al负极体积膨胀收缩严重，达不到Li离子电池材料的负极使用要求，导致的Al金属粉化、性能失效的问题。

本发明的Zn‑Al‑Mg系热浸镀钢板具备钢板和形成于钢板的表面的热浸镀层。热浸镀层包含规定的化学成分及规定的金属组织。热浸镀层的表面包含第一区域和第二区域，第一区域按照成为直线部、曲线部、图形、数字、符号及文字中的任1种或将它们中的2种以上组合而成的形状的方式进行配置，上述第一区域和上述第二区域满足下述(a)和(b)中的至少一者。(a)第一区域为表面中的Al相的露出比例低于30面积％的区域，第二区域为表面中的Al相的露出比例为30面积％以上的区域。(b)第一区域为表面粗糙度Ra为1nm以上且低于10nm的区域，第二区域为表面粗糙度Ra为10nm以上且低于200nm的区域。

在使用金属氮化物PVD涂覆至至少10μm的厚度之前，通过喷砂至限定的粗糙度而对未倒角的活塞环进行预处理，在涂覆后的活塞环中留下峰顶和谷底。涂覆后的活塞环随后被研磨以在没有穿透涂层的情况下去除峰顶，使得谷底和平台保留在涂覆后的表面中。因此形成的活塞环由于通过喷砂创建的增加的表面面积而表现出出色的涂层保留，并且由于保留的空腔增加了涂层的多孔性而且因此增强了环的润滑，还表现出出色的性能。

本发明涉及飞机零件修复领域，具体是一种飞机操纵系统凸轮圆弧曲面磨损激光熔覆修复方法，其具体步骤如下；S1；损伤分布检查；S2；修理设计；S3；工艺材料分析；S4；通过激光熔覆修复；S5；修理后打磨修整；S6；打磨后检查；S7；装配检查；S8；运动检查；本发明解决了圆弧曲面非线性关系的修理难题，填补了基于非线性关系圆弧曲面修理的技术空白，相对于传统技术有显著的技术进步；通过对修理后凸轮的使用情况跟踪，验证了所采用的修理方法和工艺安全可靠，对提高凸轮质量和降低成本有显著的作用。

提供一种用于在基板上形成光学涂层的处理系统，其中光学涂层包括抗反射涂层和疏油涂层，系统包括：直线运输处理段，其配置成沿直线方向以单独且一次一个的方式处理和运输基板载具；定位在直线运输处理系统中的至少一个蒸发处理系统，蒸发处理系统配置用于形成疏油涂层；批处理段，其配置用于使基板载具一致地围绕轴线运输；定位在批处理段中的至少一个离子束辅助沉积处理室，离子束辅助沉积处理室配置用于沉积抗反射涂层的层；用于安装基板的多个基板载具；以及用于在直线运输处理段与批处理段之间转移基板载具而不使基板载具暴露于大气的器具。

本发明涉及纳米薄膜材料的制备方法，特指一种纳米多孔NiCr合金薄膜及其制备方法。本发明首先利用磁控溅射技术在氧化铝衬底上沉积NiCr‑Ti前驱体薄膜，接着利用氢氟酸溶液进行刻蚀，目的为了去掉前驱体薄膜中的部分钛组元，最终形成以主要以镍铬合金为骨架的多孔薄膜材料。此种方法制备的纳米多孔镍铬合金薄膜多孔结构完整、连续，形状均匀、尺寸可控，且溅射面积大，厚度轻薄，所述薄膜孔径在80‑120nm，厚度在300‑1000nm。该薄膜对宽光谱具备高的吸收，在宽光谱吸收和发射涂层方面具有广阔的应用前景。

本发明公开了一种可预热回火的中心送粉式熔覆头，包括壳体、激光头、送粉管，喷嘴以及光学镜片组合。激光头设置于壳体上方，喷嘴设置于壳体下方，光学镜片组合和送粉管设置于壳体内部。本发明能够采单一入射激光束，经过光学镜片组的折射，最终可以形成双环形激光束，并汇聚于加工表面；送粉管从光路间隙进入壳体内部，并伸至加工区域附近，形成光内送粉，提高粉末的利用率。双环形激光束能够在加工表面形成熔覆层，能够对代加工区域进行预热处理，对已经加工的沉积层进行回火处理，从而降低传统激光加工快热快冷引起的较高残余应力，并且能够降低熔覆层裂纹敏感性及组织成分的不均匀性。