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技术领域

本发明涉及半导体领域,具体涉及到一种半导体晶片表面真空镀膜机。

背景技术

镀膜机又称真空镀膜机,主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种,需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材,在进行蒸镀时,通过水冷辊对薄膜进行牵拉冷却,有效防止薄膜出现形变褶皱,在对蒸镀材料进行镀膜时,需要改进的地方:

在对蒸镀材料进行镀膜时,将需要镀膜的薄膜卷放在镀膜机的安装座处,通过导辊将薄膜从薄膜卷上拉出,通过蒸发源对薄膜进行蒸镀处理,在蒸镀过程中,薄膜的耐热温度有限,若是薄膜在高温下进行蒸镀会出现收缩变形,使得薄膜表面因高温出现褶皱,导致薄膜的表面不平整,影响薄膜的镀膜处理,不利于薄膜后续的收卷处理,降低蒸镀材料的镀膜效果。

发明内容

针对现有技术存在的不足,本发明目的是提供一种半导体晶片表面真空镀膜机。

为了实现上述目的,本发明是通过如下的技术方案来实现:一种半导体晶片表面真空镀膜机,其结构包括冷却装置、真空泵、抽气管、真空腔、辅助加热片、蒸发源、卷辊、电机,所述冷却装置安装在真空腔内部,所述真空腔顶部设有蒸发源,所述蒸发源上设有辅助加热片,所述辅助加热片贯穿真空腔与蒸发源相连通,所述蒸发源设在真空腔正上方,所述冷却装置与蒸发源设在同一平面上,所述冷却装置安装在真空腔内部,所述冷却装置底部安装有卷辊,所述卷辊与冷却装置通过真空腔连接,所述真空腔两侧分别设有真空泵和电机,所述真空泵上设有抽气管,所述抽气管垂直插嵌在真空泵上,远离真空泵的一端贯穿连接在真空腔内部,所述真空腔与电机通过电线进行电性连接。

作为发明内容的进一步改进,所述冷却装置包括有固定杆、卡座、薄膜、展平槽、导辊、支撑板,所述固定杆顶部设有卡座,所述卡座平行卡接在固定杆顶部,所述卡座两侧设有导辊,所述导辊远离卡座的一端与展平槽相接,所述展平槽内部连接有薄膜,所述薄膜平行贯穿在展平槽内部,所述薄膜两端通过展平槽与导辊相接,所述固定杆安装在真空腔内部,所述固定杆底部安装有卷辊,所述展平槽顶部正对着蒸发源,所述

作为发明内容的进一步改进,所述展平槽包括有顶压杆、撑块、定位块、冷却组件,所述顶压杆安装在定位块上,所述顶压杆顶部设有冷却组件,所述冷却组件平行卡接在顶压杆上,所述冷却组件设在撑块中间位置上,所述冷却组件与薄膜相接触,所述冷却组件通过薄膜与导辊相接。

作为发明内容的进一步改进,所述冷却组件包括有卡板、转轮、连通管、水冷辊、导流盘,所述卡板顶部安装有水冷辊,所述水冷辊平行嵌合在卡板上,所述卡板等距环形扣接在转轮上,所述转轮内部中间位置设有导流盘,所述导流盘与转轮之间通过连通管连通,所述连通管一端贯穿连接在导流盘上,远离导流盘的一端与水冷辊相连通,所述转轮外部与撑块相接,所述转轮与顶压杆相吻合,所述水冷辊与薄膜相接触,所述水冷辊通过薄膜与导辊相接。

作为发明内容的进一步改进,所述导流盘包括有冷凝管、循环导管、分水筒、储水槽,所述冷凝管与循环导管等量环形安装在分水筒内部,所述分水筒内部中间设有储水槽,所述储水槽与冷凝管和循环导管相连通,所述分水筒安装在转轮内部中间,所述储水槽通过分水筒与连通管相连通。

作为发明内容的进一步改进,所述水冷辊包括有凹槽、限位板、分流件、接管、接水槽、导入件,所述凹槽上连接有限位板,所述限位板平行卡接在凹槽上,所述限位板中间安装有接水槽,所述接水槽上设有分流件和接管,所述分流件与接管相接通,所述接管远离分流件的一端与接水槽相连通,所述接水槽底部设有导入件,所述导入件垂直连接在凹槽上,所述导入件贯穿凹槽与连通管相接,所述凹槽安装在卡板上,所述分流件与薄膜相接触。

作为发明内容的进一步改进,所述分流件包括有导水槽、抵板、分布件、出口、限制板,所述导水槽安装在两块限制板之间,所述限制板通过抵板贴合在导水槽上,所述导水槽顶部设有分布件,所述分布件远离导水槽的一端与出口相接,所述出口通过分布件与导水槽连接,所述导水槽底部与接管相接通,所述导水槽通过接管与接水槽连通,所述出口与薄膜相接触。

作为发明内容的进一步改进,所述分布件包括有分流条、互通孔,所述分流条上设有互通孔,所述互通孔扣接在分流条上,两者相接通,所述分流条一端连接于导水槽,远离导水槽的一端与出口相接。

本发明一种半导体晶片表面真空镀膜机,具有以下有益效果:

1、本发明设置冷凝管、循环导管、分水筒、储水槽的结构设置,工作人员通过水管将冷却水导送到储水槽内部,分水筒将储水槽内部的水均匀的导送到冷凝管上,通过循环导管对冷凝管内部的冷却水进行循环调整,保证冷凝管内部的冷却水不会受到蒸发热气的影响,保证冷却水的冷却效果。

2、本发明设置凹槽、限位板的结合设置,限位板两侧与凹槽相扣接,对限位板的位置进行限位,通过限位板将接水槽平稳的固定在使用的位置上,使得分流件可以稳定的将冷却水均匀的喷洒在薄膜上。

3、本发明设置入口、出口、分流条、互通孔的结合设置,分流条呈波浪形结构,通过两天分流条将导水槽分成三个部分,使得冷却水从三个导水槽导出,三个导水槽内部的冷却水可以通过互通孔互相流通,冷却水可以快速的通过出口导出,出口呈“W”字形结构,可以将冷却水稳定的送出口导流到的薄膜上,可以对薄膜进行快速的冷却处理。

综上所述,本发明采用冷却装置、真空泵、抽气管、真空腔、辅助加热片、蒸发源、卷辊、电机的结合设置形成新的半导体晶片表面真空镀膜机,冷却水通过连通管导送导入件内部,导入件将冷却水稳定的输送到接水槽内部,接水槽内部的冷却水通过接管导送到分流件内部,使得冷却水可以快速的通过出口导出,可以将冷却水稳定的送出口导流到的薄膜上,使得分流件内部的冷却水均匀的喷洒在薄膜上,防止薄膜表面因高温出现褶皱,保证薄膜表面的平整,提高薄膜的镀膜效果。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显:

图1为本发明一种半导体晶片表面真空镀膜机的结构示意图;

图2为本发明冷却装置的平面结构示意图。

图3为本发明展平槽的截面结构示意图。

图4为本发明冷却组件的剖面结构示意图。

图5为图4中A的放大结构示意图。

图6为本发明水冷辊的剖面结构示意图。

图7为本发明分流件的内部结构示意图。

图8为图7中B的放大结构示意图。

图中:冷却装置1、真空泵2、抽气管3、真空腔4、辅助加热片5、蒸发源6、卷辊7、电机8、固定杆11、卡座12、薄膜13、展平槽14、导辊15、支撑板16、顶压杆141、撑块142、定位块143、冷却组件144、卡板441、转轮442、连通管443、水冷辊444、导流盘445、冷凝管X1、循环导管X2、分水筒X3、储水槽X4、凹槽Y1、限位板Y2、分流件Y3、接管Y4、接水槽Y5、导入件Y6、导水槽Y31、抵板Y32、分布件Y33、出口Y34、限制板Y35、分流条331、互通孔332。

具体实施方式

为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。

实施例一

请参阅图1,本发明提供一种技术方案:一种半导体晶片表面真空镀膜机,其结构包括冷却装置1、真空泵2、抽气管3、真空腔4、辅助加热片5、蒸发源6、卷辊7、电机8,所述冷却装置1安装在真空腔4内部,所述真空腔4顶部设有蒸发源6,所述蒸发源6上设有辅助加热片5,所述辅助加热片5贯穿真空腔4与蒸发源6相连通,所述蒸发源6设在真空腔4正上方,所述冷却装置1与蒸发源6设在同一平面上,所述冷却装置1安装在真空腔4内部,所述冷却装置1底部安装有卷辊7,所述卷辊7与冷却装置1通过真空腔4连接,所述真空腔4两侧分别设有真空泵2和电机8,所述真空泵2上设有抽气管3,所述抽气管3垂直插嵌在真空泵2上,远离真空泵2的一端贯穿连接在真空腔4内部,所述真空腔4与电机8通过电线进行电性连接。

请参阅图2,所述冷却装置1包括有固定杆11、卡座12、薄膜13、展平槽14、导辊15、支撑板16,所述固定杆11顶部设有卡座12,所述卡座12平行卡接在固定杆11顶部,所述卡座12两侧设有导辊15,所述导辊15远离卡座12的一端与展平槽14相接,所述展平槽14内部连接有薄膜13,所述薄膜13平行贯穿在展平槽14内部,所述薄膜13两端通过展平槽14与导辊15相接,所述固定杆11安装在真空腔4内部,所述固定杆11底部安装有卷辊7,所述展平槽14顶部正对着蒸发源6,所述

上述的导辊15是用于配合薄膜13进行收卷,通过辅助加热片5和蒸发源6互相配合对薄膜13进行蒸镀处理,在蒸镀后,通过导辊15与展平槽14互相配合对薄膜13进行收卷,提高薄膜的平整度。

请参阅图3,所述展平槽14包括有顶压杆141、撑块142、定位块143、冷却组件144,所述顶压杆141安装在定位块143上,所述顶压杆141顶部设有冷却组件144,所述冷却组件144平行卡接在顶压杆141上,所述冷却组件144设在撑块142中间位置上,所述冷却组件144与薄膜13相接触,所述冷却组件144通过薄膜13与导辊15相接。

上述的顶压杆141是用于配合撑块142对冷却组件144进行限位,冷却组件144安装在撑块142中间位置上,将薄膜13导入到两个冷却组件144之间,冷却组件144受到薄膜13的挤压会向内回缩,通过顶压杆141和撑块142互相配合对冷却组件144进行支撑,使得冷却组件144可以稳定的对薄膜13进行冷却降温处理。

请参阅图4,所述冷却组件144包括有卡板441、转轮442、连通管443、水冷辊444、导流盘445,所述卡板441顶部安装有水冷辊444,所述水冷辊444平行嵌合在卡板441上,所述卡板441等距环形扣接在转轮442上,所述转轮442内部中间位置设有导流盘445,所述导流盘445与转轮442之间通过连通管443连通,所述连通管443一端贯穿连接在导流盘445上,远离导流盘445的一端与水冷辊444相连通,所述转轮442外部与撑块142相接,所述转轮442与顶压杆141相吻合,所述水冷辊444与薄膜13相接触,所述水冷辊444通过薄膜13与导辊15相接。

上述的连通管443是用于导出导流盘445内部的冷却水,将连通管443插嵌接通在导流盘445与水冷辊444之间,将导流盘445内部的冷却水稳定的通过连通管443导送到水冷辊444上,水冷辊444与薄膜13相接触进行冷却处理,快速有效的降低薄膜13的温度。

请参阅图5,所述导流盘445包括有冷凝管X1、循环导管X2、分水筒X3、储水槽X4,所述冷凝管X1与循环导管X2等量环形安装在分水筒X3内部,所述分水筒X3内部中间设有储水槽X4,所述储水槽X4与冷凝管X1和循环导管X2相连通,所述分水筒X3安装在转轮442内部中间,所述储水槽X4通过分水筒X3与连通管443相连通。

上述的循环导管X2是用于循环冷凝管X1内部的水,分水筒X3将储水槽X4内部的水均匀的导送到冷凝管X1上,通过循环导管X2对冷凝管X1内部的冷却水进行循环调整,保证冷凝管X1内部的冷却水不会受到蒸发热气的影响,提高冷却处理效果。

实施例二

请参阅图1,本发明提供一种技术方案:一种半导体晶片表面真空镀膜机,其结构包括冷却装置1、真空泵2、抽气管3、真空腔4、辅助加热片5、蒸发源6、卷辊7、电机8,所述冷却装置1安装在真空腔4内部,所述真空腔4顶部设有蒸发源6,所述蒸发源6上设有辅助加热片5,所述辅助加热片5贯穿真空腔4与蒸发源6相连通,所述蒸发源6设在真空腔4正上方,所述冷却装置1与蒸发源6设在同一平面上,所述冷却装置1安装在真空腔4内部,所述冷却装置1底部安装有卷辊7,所述卷辊7与冷却装置1通过真空腔4连接,所述真空腔4两侧分别设有真空泵2和电机8,所述真空泵2上设有抽气管3,所述抽气管3垂直插嵌在真空泵2上,远离真空泵2的一端贯穿连接在真空腔4内部,所述真空腔4与电机8通过电线进行电性连接。

请参阅图2,所述冷却装置1包括有固定杆11、卡座12、薄膜13、展平槽14、导辊15、支撑板16,所述固定杆11顶部设有卡座12,所述卡座12平行卡接在固定杆11顶部,所述卡座12两侧设有导辊15,所述导辊15远离卡座12的一端与展平槽14相接,所述展平槽14内部连接有薄膜13,所述薄膜13平行贯穿在展平槽14内部,所述薄膜13两端通过展平槽14与导辊15相接,所述固定杆11安装在真空腔4内部,所述固定杆11底部安装有卷辊7,所述展平槽14顶部正对着蒸发源6,所述

上述的导辊15是用于配合薄膜13进行收卷,通过辅助加热片5和蒸发源6互相配合对薄膜13进行蒸镀处理,在蒸镀后,通过导辊15与展平槽14互相配合对薄膜13进行收卷,提高薄膜的平整度。

请参阅图3,所述展平槽14包括有顶压杆141、撑块142、定位块143、冷却组件144,所述顶压杆141安装在定位块143上,所述顶压杆141顶部设有冷却组件144,所述冷却组件144平行卡接在顶压杆141上,所述冷却组件144设在撑块142中间位置上,所述冷却组件144与薄膜13相接触,所述冷却组件144通过薄膜13与导辊15相接。

上述的顶压杆141是用于配合撑块142对冷却组件144进行限位,冷却组件144安装在撑块142中间位置上,将薄膜13导入到两个冷却组件144之间,冷却组件144受到薄膜13的挤压会向内回缩,通过顶压杆141和撑块142互相配合对冷却组件144进行支撑,使得冷却组件144可以稳定的对薄膜13进行冷却降温处理。

请参阅图4,所述冷却组件144包括有卡板441、转轮442、连通管443、水冷辊444、导流盘445,所述卡板441顶部安装有水冷辊444,所述水冷辊444平行嵌合在卡板441上,所述卡板441等距环形扣接在转轮442上,所述转轮442内部中间位置设有导流盘445,所述导流盘445与转轮442之间通过连通管443连通,所述连通管443一端贯穿连接在导流盘445上,远离导流盘445的一端与水冷辊444相连通,所述转轮442外部与撑块142相接,所述转轮442与顶压杆141相吻合,所述水冷辊444与薄膜13相接触,所述水冷辊444通过薄膜13与导辊15相接。

上述的连通管443是用于导出导流盘445内部的冷却水,将连通管443插嵌接通在导流盘445与水冷辊444之间,将导流盘445内部的冷却水稳定的通过连通管443导送到水冷辊444上,水冷辊444与薄膜13相接触进行冷却处理,快速有效的降低薄膜13的温度。

请参阅图6,所述水冷辊444包括有凹槽Y1、限位板Y2、分流件Y3、接管Y4、接水槽Y5、导入件Y6,所述凹槽Y1上连接有限位板Y2,所述限位板Y2平行卡接在凹槽Y1上,所述限位板Y2中间安装有接水槽Y5,所述接水槽Y5上设有分流件Y3和接管Y4,所述分流件Y3与接管Y4相接通,所述接管Y4远离分流件Y3的一端与接水槽Y5相连通,所述接水槽Y5底部设有导入件Y6,所述导入件Y6垂直连接在凹槽Y1上,所述导入件Y6贯穿凹槽Y1与连通管443相接,所述凹槽Y1安装在卡板441上,所述分流件Y3与薄膜13相接触。

上述的限位板Y2是用于限制接水槽Y5的位置,通过限位板Y2将接水槽Y5平稳的固定在使用的位置上,使得分流件Y3可以稳定的将冷却水均匀的喷洒在薄膜13上,对薄膜13进行快速冷却处理,防止薄膜受热出现褶皱。

请参阅图7,所述分流件Y3包括有导水槽Y31、抵板Y32、分布件Y33、出口Y34、限制板Y35,所述导水槽Y31安装在两块限制板Y35之间,所述限制板Y35通过抵板Y32贴合在导水槽Y31上,所述导水槽Y31顶部设有分布件Y33,所述分布件Y33远离导水槽Y31的一端与出口Y34相接,所述出口Y34通过分布件Y33与导水槽Y31连接,所述导水槽Y31底部与接管Y4相接通,所述导水槽Y31通过接管Y4与接水槽Y5连通,所述出口Y34与薄膜13相接触。

上述的出口Y34是用于配合导出冷却水,出口Y34呈蜂窝状结构,输送到分布件Y33内部的冷却水可以均匀的通过出口Y34导出,防止冷却水快速的冲击在薄膜13上,有效的降低冷却水的水流冲击力,稳定的对薄膜13进行冷却处理。

请参阅图8,所述分布件Y33包括有分流条331、互通孔332,所述分流条331上设有互通孔332,所述互通孔332扣接在分流条331上,两者相接通,所述分流条331一端连接于导水槽Y31,远离导水槽Y31的一端与出口Y34相接。

上述的互通孔332是用于配合分流条331,互通孔332扣接在分流条331上,分流条331呈波浪形结构,通过分流条331将导水槽Y31分成三个部分,使得冷却水从三个导水槽Y31导出,三个导水槽Y31内部的冷却水可以通过互通孔332互相流通,使得冷却水可以快速的通过出口Y34导出,出口Y34呈“W”字形结构,可以将冷却水稳定的送出口Y34导流到的薄膜13上,可以对薄膜13进行快速的冷却处理。

下面对上述技术方案中的工作原理作如下说明:

本发明在进行使用时,驱动电机8,通过真空泵2用抽气管3将真空腔4内部的空气进行抽空,保证真空腔4内部呈真空状态,通过卷辊7将薄膜13导向冷却装置1上,通过蒸发源6将通过热传导到蒸镀薄膜13上,辅助加热片5表面的热量通过热辐射到蒸镀薄膜13上,将蒸镀后的薄膜13通过冷却装置1进行冷却处理,有效的对薄膜13进行降温处理,防止薄膜表面因高温出现褶皱,提高薄膜加工的稳定性。

在对蒸镀材料进行镀膜时,将薄膜13连接在两个冷却组件144之间,通过导辊15与展平槽14互相配合对薄膜13进行扯平,通过蒸发源6和辅助加热片5互相配合度薄膜13进行蒸镀处理,在蒸镀处理后,导辊15和卷辊7互相配合对薄膜13进行拉扯,使得薄膜13稳定的从展平槽14导出,在导出过程中,冷却组件144安装在撑块142中间位置上,薄膜13受到导辊15的牵拉会向一侧移动,使得冷却组件144会受到薄膜13的活动挤压向内回缩,通过顶压杆141和撑块142互相配合对冷却组件144进行支撑,使得冷却组件144可以紧贴在薄膜13上,工作人员通过水管将冷却水导送到储水槽内部,分水筒X3将储水槽X4内部的水均匀的导送到冷凝管X1上,通过循环导管X2对冷凝管X1内部的冷却水进行循环调整,保证冷凝管X1内部的冷却水不会受到蒸发热气的影响,将冷却水通过连通管443导送到水冷辊444上。

冷却水通过连通管443导送导入件Y6内部,导入件Y6将冷却水稳定的输送到接水槽Y5内部,接管Y4一端插嵌在接水槽Y5内部,接水槽Y5内部的冷却水通过接管Y4导送到分流件Y3内部,互通孔332扣接在分流条331上,分流条331呈波浪形结构,通过分流条331将导水槽Y31分成三个部分,使得冷却水从三个导水槽Y31导出,三个导水槽Y31内部的冷却水可以通过互通孔332互相流通,使得冷却水可以快速的通过出口Y34导出,出口Y34呈“W”字形结构,可以将冷却水稳定的送出口Y34导流到的薄膜13上,可以对薄膜13进行快速的冷却处理,通过抵板Y32将限制板Y35进行支撑顶压,防止导水槽Y31内部受到冷却水的影响出现外张现象,接水槽Y5内部的导管受到冷却水的流动性进行转动,使得分流件Y3可以跟随着接水槽Y5内部的导管进行转动调整,将分流件Y3内部的冷却水均匀的喷洒在薄膜13上,对蒸镀后的薄膜13进行冷却降温,防止薄膜表面因高温出现褶皱,保证薄膜表面的平整,利于薄膜后续的收卷处理,提高薄膜的镀膜效果。

综上所述,本发明通过设置冷却装置,工作人员通过水管将冷却水导送到储水槽内部,通过循环导管对冷凝管内部的冷却水进行循环调整,冷却水通过连通管导送导入件内部,导入件将冷却水稳定的输送到接水槽内部,接水槽内部的冷却水通过接管导送到分流件内部,通过分流条将导水槽分成三个部分,三个导水槽内部的冷却水可以通过互通孔互相流通,使得冷却水可以快速的通过出口导出,可以将冷却水稳定的送出口导流到的薄膜上,使得分流件内部的冷却水均匀的喷洒在薄膜上,防止薄膜表面因高温出现褶皱,保证薄膜表面的平整,提高薄膜的镀膜效果。

以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点,对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

相关技术
  • 一种半导体晶片表面真空镀膜机
  • 半导体晶片表面真空镀膜工艺
技术分类

06120112153478