对金属材料的镀覆、用金属材料对材料的镀覆、表面化学处理、金属材料的扩散处理、真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆、金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

本发明属于在衬底上产生薄无机膜的方法的领域。本发明涉及一种制备含金属或半金属的膜的方法，包括：(a)将含金属或半金属的化合物从气态沉积到固体衬底上，和(b)使具有沉积的含金属或半金属的化合物的固体衬底与通式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)或(Ie)的化合物接触，其中E为Ti、Zr、Hf、V、Nb或Ta，L和L为戊二烯基或环戊二烯基配体，且X和X不存在或者为中性配体，R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R和R为氢、烷基、链烯基、芳基或甲硅烷基，其中对于化合物(Ia)，R至R中的至少一个包含至少一个碳和/或硅原子，且A为烷基、链烯基、芳基或甲硅烷基。

公开了一种渗透设备。所述渗透设备可以包括：反应室，其被构造和布置成容纳其上具备可渗透材料的至少一个衬底；第一前体源，其被构造和布置成提供包含硅化合物的第一前体的蒸气；前体分布系统和去除系统，其被构造和布置成向所述反应室提供来自所述第一前体源的所述第一前体的蒸气并从所述反应室去除所述第一前体的蒸气；和顺序控制器，其可操作地连接到所述前体分布系统和去除系统，并且包含存储器，所述存储器具备一定程序以当在所述顺序控制器上运行时通过以下操作执行所述可渗透材料的渗透；启动所述前体分布系统和去除系统以将所述第一前体的蒸气提供到所述反应室中的所述衬底上的所述可渗透材料，由此使所述反应室中的所述衬底上的所述可渗透材料通过所述第一前体的蒸气与所述可渗透材料的反应而被硅原子渗透。还提供渗透方法和包括渗透材料的半导体装置结构。

描述用来处理一个或多个晶片的装置和方法。基板暴露于复数个工艺站以用小增量沉积、退火、处理和可选地蚀刻膜，以提供基板表面上的膜的自对准生长。

提供了一种改进了对气相自由基的控制的工艺和设备。在一个实施例中，提供了一种产生原子氧的系统，其中，产生原子氧的气体在注入工艺空间中之前被混合。该混合可以在喷头内发生，也可以在进入到该喷头中之前发生。在另一个实施例中，提供了一种喷头，该喷头包括多个区。喷头的一些区可以将产生原子氧的气体的混合物注入到工艺空间中，而其他区不注入此混合物。在一个实施例中，将产生原子氧的气体的混合物注入到主区中，而将那些气体的子集注入到喷头的内区和外区中。该工艺和该设备在正加工的衬底上提供了均匀密度的原子氧。

将镀黄铜的钢帘线(1A)浸渍于有机溶剂(13)。将浸渍于有机溶剂(13)的钢帘线(1A)浸渍于碱性水溶液(22)。接着，将浸渍于碱性水溶液(22)的钢帘线1A浸渍于硅烷偶联剂水溶液(32)。最后，对浸渍于硅烷偶联剂水溶液(32)的钢帘线(1A)进行加热。制造硅烷偶联剂与表面良好地键合的带硅烷偶联剂的钢帘线(1B)。

一种耐侵蚀和耐CMAS涂层，其布置在TBC涂布的基底上并包括至少一个提供较低热导率并布置在MCrAlY层上的多孔垂直裂纹（PVC）涂层，其中M代表Ni、Co或它们的组合。在所述至少一个PVC涂层上沉积至少一个致密垂直裂纹（DVC）耐侵蚀和耐CMAS涂层。

描述一种在真空系统中处理掩模的方法。所述方法包括(a)在真空系统中沿着传送路径以非水平定向(V)传送运载第一掩模(11)的掩模载体(10)；(b)将运载第一掩模(11)的掩模载体(10)的定向从非水平定向(V)改变为基本上水平的定向(H)；和(c)从在真空系统中以基本上水平定向(H)布置的掩模载体(10)卸载第一掩模(11)。根据另外的方面，描述一种真空系统，包括掩模处理模块，所述掩模处理模块用于处理掩模。(图1C)。

本发明提供了一种合金紫外透明导电薄膜及其制备方法和应用，该薄膜为掺杂A的ZrSnO的n型导电薄膜，其中，A为Sb或Nb；本发明的合金紫外透明导电薄膜，通过将Zr掺杂进入SnO成功调高了其光学带隙，通过将施主杂质A掺杂进入SnO成功提高了其导电性能；制备得到的导电薄膜对深紫外以及可见光有很好的透过性；本发明的导电薄膜，是单相(100)取向的金红石结构，其具有很好的热稳定性，紫外可见透过率超过90％，导电性能良好；本发明提供的合金紫外透明导电薄膜的制备方法，所需的设备和操作工艺较为简单，原材料廉价易得，满足了大规模工业化生产的条件，生产成本低，具有良好实际应用前景。

本发明提供了一种高热传导的新型等离子源，包括等离子源本体，等离子源本体中安装设有阳极，阳极上部设有金属块，金属块和阳极之间安装有导热绝缘陶瓷片，导热绝缘陶瓷片沿周边缘延伸有凸起部。本发明在金属块和阳极之间安装有导热绝缘陶瓷片，该陶瓷片具有导热绝缘的作用，可将金属块上的高热量高效的传递给阳极，避免金属块上的电子大量的积聚，进而避免了金属块的放电，使得等离子源可正常的工作，延长了等离子源的使用寿命，同时提高了金属块和阳极安装的稳定性。

本发明涉及一种热喷涂喷枪轨迹校准方法及轴承喷涂方法。热喷涂喷枪轨迹校准方法，包括以下步骤：通过激光器发射的激光投射点模拟喷枪喷嘴的喷涂点；在平面上画一条轨迹线，然后平移机械手使激光器发射的激光投射点沿着这条轨迹线移动，并记录下机械手所移动的路径；拆下激光器，机械手重复刚才所移动的路径，喷枪在平面上产生热喷涂涂层轨迹后停枪，此时，热喷涂涂层轨迹与轨迹线平行；重新安装激光器，使机械手再次重复刚才所移动的路径，同时正向调节激光投射点，使激光投射点和平面上的热喷涂涂层轨迹重合，并记录下激光投射点的偏距S或偏角α，之后再根据偏距S或偏角α反向调节激光投射点，即可使引弧点枪后的热喷涂涂层轨迹与轨迹线重合。

本发明涉及一种用于金属表面钝化的纳米硅烷处理剂，包含一纳米粒子，所述纳米粒子包含一核心与包覆所述核心的壳体结构，所述核心是纳米金属氧化物颗粒，所述壳体由阳离子硅烷处理剂构成；所述阳离子硅烷处理剂选自阳离子乙烯苄基胺官能团硅烷。所述金属表面可以是镀锌表面或者是铝合金表面。本发明所述纳米硅烷处理剂避免了使用重金属防腐剂，更有利于人类身体健康，符合绿色化学的科学发展观念，并且防金属表面腐蚀效果好。

本发明公开了一种化学镀镍磷组合物及其制备方法、化学镀方法和化学镀镍件，包括镍盐、还原剂、络合剂、缓冲剂、稳定剂、加速剂、光亮剂、聚二乙醇、乙烯硫脲和‑琉基苯骈眯唑，所述镍盐为硫酸镍，所述还原剂为次亚磷酸钠，所述络合剂为羟基羧酸盐，所述缓冲剂为焦磷酸钾，所述稳定剂为复合稀土。本发明所述的一种化学镀镍磷组合物及其制备方法、化学镀方法和化学镀镍件，能够使得镀层平整光亮，能够有效避免部分溶液提前混合反应，从而导致化学镀镍磷组合物反应均匀现象，同时也使得使得溶液混合的效果更好，提高化学镀镍磷组合物整体质量，能够有效的避免杂质避免影响化学镍磷组合物的附着性、稳定性以及镀速，实用性更高。

本发明公开了一种物理气相沉积刀具除膜方法，包括如下步骤：S1按1:1的比例将硝酸和双氧水进行混合得到除膜液；S2将含有表面膜的刀具置放在S1步骤得到的除膜液中，放置至刀具变成棕红色，表面膜大部分脱落；S3将刀具和除膜液一并在超声波中超声，直至溶液变成浅红色，表面膜至全部脱落；S4刀具经过表面修整后，达到再生产使用要求。本发明的物理气相沉积刀具除膜方法能有效的去除刀具涂层，并且在不影响原有刀具性能的基础上较为简便的去除刀具涂层。

本发明公开了一种激光熔覆生物金属陶瓷锅及其制备方法，涉及不粘锅技术领域。该不粘锅锅体的内表面由内至外依次包括第一熔覆层、第二熔覆层及第三熔覆层；其中，所述第一熔覆层的材质为Othello(欧德罗)颗粒；所述第二熔覆层为80‑90％的Othello(欧德罗)颗粒及10‑20％的陶瓷颗粒经激光熔覆形成；所述第三熔覆层为60‑90％的Cu‑Ag‑Ti粉及10‑40％的陶瓷颗粒经激光熔覆形成；所述Othello(欧德罗)颗粒由质量分数20‑40％的铝包镍、20‑40％的不锈钢、10‑30％的银包铜、10‑30％的氧化钛组成，粒径为10‑60μm。本发明提供的激光熔覆生物金属陶瓷锅，具有抗菌效果，陶瓷颗粒的加入可进一步提高锅的硬度，提高耐磨性。本发明提供的激光熔覆生物金属陶瓷锅的制备方法，工艺简单，适宜工业化生产。

本发明公开了一种薄膜电容器加工用金属薄膜蒸镀设备，其结构包括基片、喷洒装置、抽气泵、真空室、抽真空管、真空泵、操作面板，本发明改进后进行使用时，输出管将蒸发源材料导向分流管上，分流管将蒸发源材料等量稳定的通过每个出口进行喷洒，拉绳通过导接板将输入到通孔上，拉绳稳定的卡接在两根定位转杆之间，转轮带动卡齿进行旋转活动，使得拉绳可以快速稳定的进行收卷，能实现活动件的角度与金属薄膜相平行，可以将蒸发源材料均匀的喷洒在金属薄膜的每个位置上，保证蒸镀后的金属薄膜的厚度一致、层次均匀，提高金属薄膜的良品率和电容器的使用质量。

本发明公开了一种激光熔覆疏水疏油锅及其制备方法，涉及不粘锅技术领域。本发明提供的激光熔覆疏水疏油锅，锅体的内表面由内至外依次设置有过渡层、第一陶瓷层以及SiO基陶瓷层；其中，过渡层的金属合金粉末以及金属氧化物粉末可与锅体进行良好地结合，第一陶瓷层、SiO基陶瓷层均含有与过渡层相同的材料也含有二氧化硅粉，利用材料的同质性，提高各层的结合力，使锅体的表层逐渐向SiO基陶瓷过渡，同时，二氧化硅的加入有助于提高锅体的硬度；SiO基陶瓷层所用的材料粒径相差较大有利于形成微纳结构，达到疏水疏油的效果。本发明提供的激光熔覆疏水疏油锅的制备方法，工艺简单，适宜工业化生产。

本发明公开了一种覆层、具有该覆层的金属磁体及该覆层的制备方法，属于金属磁体处理技术领域。它包括覆层覆于金属磁体表面，其沿远离金属磁体方向依次包括金属膜层、金属膜氧化层和绝缘层。本发明通过设计三层结构的覆层，使用金属氧化膜替代传统的磷化或简单底涂，可以防止传统磷化或底涂物料的基体生锈和发黄的问题，从而极大提升覆层的耐腐蚀性能；同时氧化产生的氧化层或钝化层为多孔致密表面积较大的导电层，其粗糙多孔的结构可以与后续的绝缘层充分接触，提升覆层的结合力、表面涂层均匀性、外观一致性，另外由于覆层导电可解决金属磁体电泳时不连续导电的问题，能够电泳附着绝缘层。本发明制备工艺简便经济，具有广阔的应用前景。

一种在对铝件制品进行化学抛光的工艺过程中，能实时清除因化学抛光在化学抛光液中产生的金属离子团的化学抛光用磷/硫混合酸的再生剂、在线再生方法及采用的系统。再生剂按重量百分比，其组分为：纳米级硅酸盐、磷酸铝、硫酸铝、硅藻土、羧甲基纤维素和水。其打破传统加碱中和废酸处理技术及目前的“滞后式”的处理模式，提出铝合金阳极氧化化学抛光液的槽边在线循环处理新模式。其可实现化学抛光产品的质量稳定统一，保证整个工序的稳定性。铝合金阳极氧化化学抛光液在线再生的循环利用技术，可实现化学抛光液的零排放，符合清洁生产的目的，达到了良好的环境效益和社会效益。

本发明的实施例提供了一种钢筋网片防腐处理设备和方法、蒸压加气混凝土生产方法，涉及蒸压加气混凝土生产技术领域。钢筋网片防腐处理设备包括防腐池、加热元件和超声波发生器，其中，防腐池用于装载防腐液，加热元件和超声波发生器均安装在防腐池中、且浸入在防腐液中。本发明实施例提供的方案通过采用超声波发生器震动防腐液，能够使钢筋网片均匀附着防腐液，减少防腐液滴落，在搅拌防腐液时，无需暂停钢筋网片附着防腐液，提高生产效率。

本发明涉及粮食机械研究技术领域，公开了一种提高粮食机械中铝合金部件耐腐蚀性的方法，包括抛光处理、转化处理液处理以及硅烷化处理，通过物理抛光机对铝合金部件表面进行物理抛光，使铝合金部件表面光亮、平整，从而保证在之后的硅烷化处理过程中能够获得较高质量的转化膜，硅醇分子在于铝合金基体结合生成硅烷膜时，发生脱水缩合反应生成Si‑O‑Si键，进而在铝合金表面形成三维网络，通过控制固化条件达到最好的耐腐蚀效果，从而发挥更好的防护性能，解决了现有技术中针对铝合金材料的防腐保护性差的问题。本发明能够细化铝合金表面组织，阻止含结晶水的成分和油质的附着，阻碍腐蚀产生的条件。

本发明公开了一种金属管件内外表面化学处理装置，涉及金属表面化学处理设备技术领域，包括操作底座和管体，所述操作底座的内壁固定连接有支撑座，所述支撑座的上端固定连接有支撑板，所述支撑板的正面开设有第一限位槽，所述第一限位槽的内壁设置有内壁喷涂机构，所述内壁喷涂机构包括第一滑板，所述第一滑板的表面沿第一限位槽的内壁滑动。本发明，通过上述结构之间的相互配合，具备了自动对管状工件的内壁外壁同时进行喷涂发生化学反应，且喷涂均匀、无需人工操作、大大提高了生产效率、降低了工人受伤风险的效果，解决了传统管件化学处理装置无法同时对管件的内外壁进行处理、生产效率低下且喷涂不均匀的问题。

本发明公开了一种耐高温多弧离子真空镀膜装置及其镀膜方法，包括基座，所述基座的上表面焊接有主壳体，所述主壳体的前表面底部的两侧分别固定连接有第一电机、第二电机，所述第一接轴、第二接轴分别焊接有第一连接杆、第二连接杆，所述第一连接杆的外表面焊接有右旋转壳体，所述第二连接杆的外表面焊接有左旋转壳体，所述主壳体的内侧壁焊接有第三电机，所述第三电机固定连接有转轴；过PLC控制器编程将所有电器元件导通，实现自动化控制与控热；蒸发器的馏分工艺，将镀膜材料在高温蒸汽情况下会产生化学性的热性气体分解成对人体健康无害的不凝气与水再将其排出；内部刀具与托盘配合，在工作过程中由PLC控制器编程定时去除镀膜材料结痂层。

本发明提供了一种基于PDMS弹性基材及其制作方法和电子器件，本发明提供技术方案在PDMS基片与金属薄膜之间引入了过渡层，过渡层的热膨胀系数位于PDMS基片的热膨胀系数和金属薄膜的热膨胀系数之间，进而能够改善由于PDMS基片和金属薄膜之间热膨胀系数相差较大而产生的更大应力的问题，改善了在过渡层背离PDMS基片一侧制作金属薄膜时出现起皱或破裂等问题，保证基于PDMS弹性基材中金属薄膜的质量优良。同时在制作金属薄膜前形成粘附层，能够进一步提高金属薄膜的粘附性，提高基于PDMS弹性基材的金属薄膜的性能。

本发明涉及金属磷化处理领域，且公开了一种环保的金属磷化处理辅助设备，包括翻斗，所述翻斗内壁均匀设有沥水孔，所述翻斗内壁上侧安装有可转动的安装轴，所述安装轴固定安装有摆动板，所述摆动板中均匀设有贯穿所述摆动板的安装孔，使翻斗内壁的倾斜度增加，从而使金属件可以以更快的速度下滑至下一个溶液池中；同时，也避免了翻斗内的大部分溶液倒入下一个溶液池中，降低了溶液的更换次数，达到了环保并节省成本的效果，避免金属件粘附在翻斗的侧壁，可使金属件之间产生位移以及振动，使得金属件缝隙中残留的液体可以更快的排出，也能使金属件上残留的溶液更快的与金属件脱离。

本申请涉及金属处理领域，具体公开了一种耐晶间腐蚀型结构钢的速效渗氮方法。耐晶间腐蚀型结构钢的速效渗氮方法包括下列步骤：S1、取结构钢并程序升温，保温奥氏体化后，取加热结构钢工件并置于淬火介质中，等温淬火处理并保温回火，得回火结构钢工件；S2、对回火结构钢工件表面处理并升温加热，保温加热预处理，得预处理结构钢工件；S3、将预处理结构钢工件置于预热的渗氮介质中，保温渗氮处理并空气冷却至室温，即可制备得耐晶间腐蚀型结构钢。本申请的结构钢的速效渗氮方法操作快捷有效，且能有效改善结构钢渗氮过程中短时间渗氮处理会导致化合物结构层厚度降低，均匀性和分布性不佳的问题。

本发明涉及一种水溶性缓蚀剂及其制备方法。所述水溶性缓蚀剂由如下重量百分比的原料组成：有机缓蚀剂35～55％、中和剂5～15％、助剂5～10％和余量溶剂。所述制备方法为将溶剂进行加热至第一设定温度，再依次加入有机缓蚀剂、中和剂和助剂，得原料混合物；将原料混合物加热至第二设定温度，在该温度下进行搅拌，完毕后冷却至室温，即得水溶性缓蚀剂。所述缓蚀剂具有不易挥发、稳定性好、适用性强、缓蚀效果好、高效环保等优点，且原材料易得，适用范围广；所述制备方法工艺简单易控，有利于规模化产出。

本发明公开了一种基于3,4,5‑三羟基苯甲酸的锈转化剂及其制备方法，包括，3,4,5‑三羟基苯甲酸、三乙醇胺和4‑二甲氨基吡啶；其中，以各原料质量百分比计，所述3,4,5‑三羟基苯甲酸含量为23.5％～25％，所述三乙醇胺含量为68％～72％，所述4‑二甲氨基吡啶含量为3.5％～5％。本发明转化剂通过分子内部基团与铁锈中铁离子发生螯合作用，生成稳定化合物并成膜附着在钢铁表面，铁锈转化效果和封闭性好，在将铁锈转化后还具有良好的防锈性能。

本发明公开了一种高耐磨化合物涂层及其制备方法，属于化合物制备领域。本方法采用机械混料、真空吸铸和半固态挤压成型相结合的工艺，制备出具有单一简单立方晶体结构的AlCeCoCuNiOPrTiY(0.1≤x≤1.3；0.1≤y≤1；0.1≤p≤0.5；0.1≤q≤1；0.1≤z≤1；0.02≤x/(x+y+z+p+q+3)<0.25；0.02≤y/(x+y+z+p+q+3)<0.20；0.01≤p/(x+y+z+p+q+3)<0.10；0.02≤q/(x+y+z+p+q+3)<0.20；0.02≤z/(x+y+z+p+q+3)<0.20)化合物靶材；再在经过前处理、超声处理和喷砂处理后的工件表面进行进行轰击并生成自调节AlCeCoCuNiOPrTiY镀层；再上述镀层表面进行沉积镀膜并原位生成梯度(AlCeCoCuNiOPrTiY)N涂层，所制备的工件基体/AlCeCoCuNiOPrTiY/(AlCeCoCuNiOPrTiY)N复合化合物涂层均匀，可大幅提升工件的硬度、耐磨性能和使用寿命。

本发明公开了一种抗磨蚀复合涂层的制备方法，包括以下步骤：(1)对待处理设备的表面进行清理，去除待处理设备表面的污物，如油污和氧化物，将清理后的待处理设备作为基板；(2)对基板进行预热处理，然后在基板的表面焊接第一金属纤维层，第一金属纤维层包括若干个均与基板的表面焊接的第一金属纤维，第一金属纤维在基板的表面划分出若干个第一空隙区；(3)在每个第一空隙区内电弧熔覆第一耐磨层，并使第一耐磨层的厚度与第一金属纤维层的厚度保持一致，第一耐磨层和第一金属纤维层组成第一复合涂层。本发明的抗磨蚀复合涂层的制备方法提高了抗磨蚀的复合涂层的性能和制备效率。

本发明涉及渗碳炉领域，具体的说是一种渗碳炉组件，包括壳体、顶盖、升降机构、渗碳炉主体、传动机构、转杆、转盘、电机、旋钮、螺杆、限位杆、第一齿轮、固定盘、清洁机构、支杆、清洁刷、收集盒和第二齿轮。手动对旋钮转动，旋钮带动螺杆转动，令固定盘上下移动，带动电机和转杆朝底端移动，转杆移动带动第一齿轮移动，令第一齿轮同第二齿轮啮合，将电机接通电源，带动转杆转动，转杆带动第一齿轮转动，第一齿轮带动第二齿轮转动，第二齿轮带动清洁刷转动，令清洁刷对渗碳炉主体的内壁进行清洁，从而在使用过程中方便对渗碳炉主体内壁上沾附的杂质和结晶进行清洁，使得能够避免杂质和结晶越积越多，保证渗碳炉主体的正常使用。

本发明公开了一种板式PECVD设备，包括反应腔体，所述反应腔体内设有加热盘，所述加热盘上设有屏蔽环，加热盘外周设有下整流罩，所述下整流罩上方设有可升降的上整流罩，所述上整流罩内侧设有上电极、匀气块、以及位于上电极与匀气块之间的调节垫环，所述上电极和匀气块之间形成缓冲腔，所述匀气块上设有进气通道，所述上电极上均匀设置有多个出气通道，上电极通过所述匀气块与射频匹配器导通。本发明具有能够实现较低功率辉光放电，降低带电粒子对薄膜损伤等优点。

本发明公开了一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，包括上支撑盘、上支撑座、下支撑盘、下支撑座、撑杆，上支撑盘固定在上支撑座上，下支撑盘固定在下支撑座上，撑杆连接上支撑盘、下支撑盘，在上支撑盘、下支撑盘之间沿周向分布有多块活动挂板，活动挂板一侧与设置在上支撑座、下支撑座之间的转轴连接，在上支撑座、下支撑座上分别对应设置有呈圆弧形的导轨，活动挂板的另一侧的上、下部分别设置有与导轨相匹配的导向销，活动挂板可沿导轨绕转轴转动。通过转动活动挂板可以控制活动挂板到溅射阴极之间的距离，使挂板跟溅射阴极呈现不同的溅射距离，从而改变挂板各个区域的成膜厚度，给工艺调节提供的更广泛的使用条件。

本发明公开了一种耐高温基片夹具，包括由左、右立柱和上、下横梁连成一个整体的框架，在上、下横梁上分别设置有用于装载基片的卡槽，在左、右立柱分别设置有翻板机构，翻板机构包括固定在左立柱/右立柱上的固定座，固定座上通过销轴转动连接有压板，在左立柱/右立柱上嵌入安装有耐高温磁铁，压板与耐高温磁铁相对应部位为能被磁铁吸引的金属材质，压板与基片接触部位为PEEK材质。本发明的耐高温基片夹具采用钛合金材质的整体框架，更加耐高温，卡槽、压板选用比金属质软又能耐高温的PEEK材质，不会造成玻璃基片表面划伤，翻板机构操作便捷，基片装卸方便，中间连杆及PEEK材质的隔套可对玻璃基片起到有效的保护作用。

本发明公开了一种用于真空镀膜设备的简易格栅装置，包括固定板、拉伸气缸、活动杆、活动板，所述固定板固定在真空室抽气口处，在固定板上沿垂直方向设置有多个开口，所述拉伸气缸固定在真空室抽气口的顶板上，拉伸气缸的活塞杆端通过连接套与活动杆连接，所述活动杆延伸至真空室抽气口内，在活动杆上固定有多块活动板，所述活动板与固定板上的开口相匹配，拉伸气缸通过活动杆带动活动板上下移动，从而实现对固定板上的开口的封闭和开启。本发明的用于真空镀膜设备的简易格栅装置结构简单、拆卸方便、能耐高温、加工便捷、成本低廉，易损备件都是常规产品，有效降低了生产成本和提高了运行效率。

本发明公开了一种磁场可调的磁控溅射阴极，包括靶材、背板、磁体装置、阴极底板以及屏蔽板，磁体装置由在长度方向上的多块独立磁场模块组成，每个独立磁场模块分别单独通过调节组件与固定在阴极底板上的固定底板连接，调节组件包括调节螺母、调节螺杆、导向柱，调节螺母转动连接在固定底板上，调节螺杆与调节螺母螺纹连接，调节螺杆穿过固定底板与独立磁场模块连接，固定底板上设有导向孔，导向柱一端与独立磁场模块固定连接，另一端与导向孔配合。本发明将磁体装置在高度方向上分成多段独立磁场模块，每块独立磁场模块均可通过调节螺母来实现前后移动，从而调节磁场前后的距离，实现高度方向上不同区域膜厚不一致的工艺生产要求。

本发明提供了一种双相结构复合薄膜及其制备方法和应用，属于固体润滑技术领域。本发明提供的双相结构复合薄膜，按原子数量比计，组成上包括Mo 16.9～25.5％，S 23.4～28.0％，Ti 15.0～18.9％和B 31.4～40.7％；结构上包括非晶基质和镶嵌在所述非晶基质中的硬质相，所述硬质相为TiB晶粒，所述非晶基质为MoS，x＝1.09～1.40。实施例的结果显示，本发明提供的复合薄膜在大气环境中同时实现了超低摩擦和超低磨损，显著优于现有技术中硫化钼基润滑薄膜在大气环境中的摩擦学性能和耐磨损能力。

本发明公开了一种生铁铸件表面酸液除锈工装，包括储液盒，储液盒底壁的条形凹槽卡接条形擦拭块，储液盒底壁设毛细软管，储液盒侧壁设加液口，储液盒内壁密封套接活塞板，活塞板内设电阻加热丝，活塞板连接伸缩杆，伸缩杆连通气泵；储液盒顶壁设握柄和支脚，握柄设加热开关按钮、气泵开关按钮及指槽。本发明设计一种新颖的储液盒，通过活塞板的推动及其内部电阻加热丝的加热加压，将储液盒内的酸液通过毛细软管渗到铸件表面，再通过条形擦拭块进行均匀涂抹和擦拭，不仅大幅度降低酸液的使用量，同时也提高了除锈效率，可针对铸件的生锈处进行擦拭除锈，而无需将整个铸件进行浸泡处理，相当于降低铸件其他部位受损受腐蚀的可能性。

一种新型碳化铌薄膜用于氢分离及其制备方法，涉及一种新型的氢分离膜及其制备方法。本发明是为了解决现有的V/Pd氢分离膜价格昂贵和高温稳定性差的问题。本发明所述的是碳化铌薄膜在氢分离中的应用，将碳化铌薄膜通过磁控溅射、离子束溅射、电子束蒸发、脉冲沉积、分子束外延或原子层沉积方法沉积到V基体、Nb基体、Ni基体、多孔不锈钢、多孔陶瓷上面，形成碳化铌/X基体复合膜用于氢气提纯，其特征在于，碳化铌作为一种全新的氢分离膜，价格低廉、制备方法简单，通过调整沉积温度、沉积功率、沉积偏压等工艺参数，可以进一步提高其高温渗氢性能。

本发明公开了一种碲化镉/硫化镉/硒化镉薄膜沉积用坩埚舟及其制备方法，所述坩埚舟采用高纯石墨加工而成，所述坩埚舟上开设有原料槽，所述原料槽的槽底设置有热电偶安装柱，所述热电偶安装柱的顶部开设有热电偶安装孔；所述坩埚舟的底部外壁设置有若干加热管安装槽，所述加热管安装槽内嵌入安装有电加热管；所述坩埚舟上可拆卸设置有坩埚盖，所述坩埚舟的两侧均设置有石墨导电棒安装孔，所述石墨导电棒安装孔用于安装所述坩埚盖上的石墨导电棒，所述石墨导电棒安装孔内穿设的石墨导电棒与所述坩埚舟之间必须留有间隙，不能直接接触。本发明的坩埚舟兼具半导体原料盛装的功能和原料加热升华的功能。

本发明公开了一种便于清理的半导体镀膜设备，属于半导体镀膜技术领域，包括设备主体，设备主体的外侧设置有保护罩，保护罩内部的底端活动连接有灰尘收集组件，保护罩内部两侧的中间位置处皆设置有固定杆，两组固定杆相邻的一侧皆活动连接有支撑组件，保护罩内部的顶端安装有第一电磁滑轨。本发明通过电机带动刷毛对固定杆和支撑组件进行清扫，同时刷毛能在保护罩的内部进行前后左右移动，实现对灰尘和碎屑的清扫并滑落至收集板，保证支撑杆表面的干净度，从而不需要人工即可实现对其的清理，降低了工作的难度，提高了镀膜的效率。并可对支撑杆和对支撑杆之间的间距进行调整，使半导体镀膜设备对半导体的支撑范围更为广泛，提高了使用率。

气体团簇离子束流在真空中形成薄膜的方法，在减压环境中提供所述衬底；由加压气体混合物产生所述至少一个气体团簇离子束GCIB；选择离子团簇加速电位和剂量以达到所述小于5nm的厚度；根据所述离子团簇剂量，将所述加速的至少一个GCIB照射到所述衬底的所述至少一部分上；在所述衬底的所述至少一部分上形成所述超薄薄膜以达到所述厚度；所述超薄薄膜的厚度小于5nm；(a)通过将所述衬底中的至少一种原子成分与所述至少一种GCIB中的至少一种成膜原子成分混合，任选地在所述衬底的表面部分中生长混合子层，(b)沉积一种或多种成膜原子在所述基底的所述表面部分上来自所述至少一个GCIB的组分形成沉积层。

本发明公开了一种磁过滤弧镀膜装置，包括：阴极电弧源，它含电弧靶座、靶块、永磁体和永磁体调节机构，靶块安装在靶座前端面上，靠近靶块的靶座后端面中央安放柱状永磁体，永磁体后面连接永磁体调节机构；真空镀膜室，其室内为真空设置；磁过滤弯管，其一端为与所述阴极电弧源的前端连接的入口端，另一端为与真空镀膜室的内腔连通的出口端；还包括：第一励磁线圈，安装在靶块周边，并位于阴极电弧源的外侧；第一励磁线圈用于与所述永磁体相配合对磁场进行改变；多个线圈模组，其分别设置在所述磁过滤弯管的入口端、拐弯处以及出口端。本发明能够减少阴极电弧靶等离子体中的大颗粒产生，层膜的沉积速率高、均匀性好，质量好。

本发明涉及一种掺杂稀土元素的梯度功能改性镍金镀层及其制备方法，包含镍镀层、镍金梯度镀层和纯金镀层，镍金梯度镀层在镍镀层和纯金镀层中间，镍金梯度镀层掺杂有镧、铈、铒、钇中的至少一种稀土元素。镍金梯度镀层掺杂的稀土元素所占质量比为0.02％～0.2％。本发明的掺杂稀土元素的梯度功能改性镍金镀层利用磁控溅射镀膜技术制备，通过该方法制备的掺杂稀土元素的梯度功能改性镍金镀层可以改善镀层的致密度、覆盖性，提高金镀层和铜基材的结合能力，改善产品的导电性能和焊接性能，同时又降低了贵金属的使用量，该方法制备的产品成本低廉，节能环保，非常适用于微纳米电子工业。

本发明公开了一种高性能锆基稀土合金薄膜吸气靶材及其制备方法，所述锆基稀土合金薄膜吸气剂靶材的合金配方如下：以质量百分比分别配比钛基二元合金配方锆基二元合金ZrRE(wt％)、锆基三元合金ZrRE1RE2(wt％)、锆基四元合金ZrRE1RE2RE3、大于四元合金的锆基多元稀土元素的复合添加；其制备方法如下：将上述配料通过真空熔炼制备合金铸锭、对铸锭进行致密化处理、靶材尺寸加工，在磁控溅射上进行溅射，制备成吸气薄膜，吸气剂薄膜的激活温度200～400℃，激活时间15～60min，初始吸氢速率20～90ml/s.cm；并且该吸气薄膜在短的时间内可达到极限真空1.2～5×10Pa。本发明显示了高的真空极限、吸气性能和低的激活温度。

本发明公开了一种自组装可调间隙的金纳米薄膜制备方法，首先清洗基底并用等离子体进行表面处理改性，使其展现出强黏着力；然后以金属Au作为溅射靶材，采用低真空溅射设备，控制真空度≤10Pa，以氧气为工作气体，调整靶材与基底距离为3～7cm，放电电流为5～10mA，在经过一段溅射时间完成金纳米薄膜的制备。该方法工艺简单，过程易操控，成本低廉，沉积速率快，结合力强，能够实现大规模商业生产。通过调节环境压强和溅射电流，设定溅射距离与时间，使得纳米颗粒在基底表面上进行自组装形成有序的二维纳米薄膜，且纳米颗粒间隙可调。所制备的纳米金盘表面平整且厚度均匀，具有优异的光学、导电导热特性以及生物相容性，稳定性高，重复性好。

本发明新型公开了一种自动化地脚螺栓热镀锌装置，包括工作台，工作台上依次设置有上料机构、镀锌机构和下料机构，上料机构与下料机构之间设置有回送机构；上料机构包括上料机器人，镀锌机构包括锌锅，工作台中心设置有通孔，转盘固定架上设置有升降驱动电机和转动电机，升降驱动电机控制升降架，环形导轨固定在升降架上，转动电机通过齿轮转向箱控制环形导轨，环形导轨上设置有工件固定篮，工件固定篮包括连接柱，连接柱从下到上依次设置有底板和多个限位板，底板上设置有与工件相对应的固定孔，限位板上设置有限位孔，限位孔的截面积大于工件的截面积。本发明新型结构简单，自动化程度高，使用效率高，成品率高。

本发明公开了一种结晶器铜板热喷涂涂层扩散焊工艺，其步骤是：铜板喷涂前处理→涂层材料选择→热喷涂→热喷涂涂层扩散焊→冷却→出炉。其中，涂层材料选择：热喷涂粉末成分为0.3‑0.8％C、10‑20％Cr、7‑10％Si、4‑6％B、5‑10％Cu、2‑5％Mo、1‑2％Al，其余为Ni；热喷涂涂层扩散焊为：往保温炉内充入惰性气体，在一定的温度下和一定的时间内对涂层进行扩散焊处理。本发明能有效地使结晶器铜板基体与热喷涂涂层之间形成冶金结合，并且涂层性能好，具有优越的导热性以及耐磨损与腐蚀性能，延长了连铸结晶器铜板的使用寿命。

本发明涉及一种用气体团簇离子束生长薄膜的方法，包括以下步骤：在减压环境中提供衬底；在减压环境中从加压气体混合物中产生气体团簇离子束(GCIB)；建立第一、第二数据集，基于第一和第二数据集选择用于生长过程的束加速电势和束剂量；根据选择的束加速电势来加速GCIB；基于第一和第二数据集调节生长过程中加速后GCIB的束能量分布；将加速后的GCIB照射到衬底的至少一部分上；通过生长工艺在衬底的至少一部分上生长含硅薄膜，以实现具有目标厚度和目标表面粗糙度的含硅薄膜。

本发明提供蒸镀掩模的制造方法，其包括：准备在用于得到树脂掩模的树脂板的一侧的面上设置有金属掩模、在该树脂板的另一侧的面上设置有以JIS Z‑0237:2009为基准的剥离强度为0.0004N/10mm以上且低于0.2N/10mm的保护片的蒸镀掩模准备体，相对于蒸镀掩模准备体，从金属掩模侧向树脂板照射激光，在该树脂板形成与待蒸镀制作的图案相对应的树脂掩模开口部，从形成有与待蒸镀制作的图案相对应的树脂掩模开口部的树脂掩模将保护片剥离。

一种气体团簇离子束在衬底中形成非晶层的方法，用于使衬底的一部分非晶化的方法，设置具有第一部分和第二部分的衬底在气体团簇离子束处理系统中的一部分；至少用所述衬底处理装置处理所述衬底；气体团簇离子束在衬底中形成非晶层的方法，衬底在气体团簇离子束处理系统中；第一GCIB使用第一束能量，该第一束能量在所述衬底上第一部分区域产生所需厚度的非晶子层，所述衬底第二部分区域为晶体子层，并且用所述第一GCIB进行处理产生了非晶态的第一粗糙度界面位于所述衬底所述非晶子层和所述晶体子层之间的‑晶体界面；然后使用小于所述第一束能量的第二束能量用第二GCIB处理所述衬底的至少第一部分区域，将所述第一粗糙度界面减小到第二粗糙度界面。