抑制氧化铪薄膜折射率非均匀性的方法

技术领域

本发明涉及电子束蒸发镀膜，具体是一种抑制氧化铪薄膜折射率非均匀性的方法。

背景技术

HfO

膜层的折射率非均匀性往往会导致多层光学薄膜的光谱偏离设计目标，造成光学性能下降。例如HfO

发明内容

本发明提供一种抑制氧化铪薄膜折射率非均匀性的方法。该方法通过抑制HfO

本发明的解决方案如下：

一种抑制氧化铪薄膜折射率非均匀性的方法，其特点在于：在制备含有氧化铪膜层的多层光学薄膜过程中，蒸发第一蒸发源中氧化铪(HfO

所述的抑制HfO

1)添加膜料：在第一蒸发源部分坩埚中添加HfO

2)向计算机输入镀膜参数：HfO

3)开机镀膜：

①对于多层膜中不同材料膜层，对应的制备流程如下：

当制备HfO

当制备SiO

②根据多层膜的膜系结构，按照上述膜层制备方法依次镀制各层薄膜进而完成多层光学薄膜的制备。

本发明的技术效果：

本发明在制备含有HfO

附图说明

图1是本发明抑制HfO

图2是利用常规电子束沉积方法制备的纯HfO

图3是HfO

图4是HfO

图5是两种谐波分离薄膜的设计与测试透射率光谱，其中，(a)是HfO

具体实施方式

下面结合实施例和附图对本发明作进一步说明。

先请参阅图1，图1是本发明抑制HfO

1)实施例1：比例为9:1的HfO

以HfO

(1)添加膜料：分别在第一蒸发源7和第二蒸发源8中添加金属Hf膜料和SiO

(2)向计算机13输入镀膜参数：HfO

(3)开机镀膜：

计算机13控制打开第一蒸发源挡板5和第二蒸发源挡板6，开始同时蒸发金属Hf膜料和SiO

2)实施例2：比例为1:1的HfO

以HfO

3)实施例3：谐波分离膜的制备

以制备多层谐波分离膜为例说明本发明抑制HfO

(1)添加膜料：分别在第一蒸发源7和第二蒸发源8中添加金属Hf膜料和SiO

(2)向计算机13输入镀膜参数：HfO

(3)开机镀膜：

①对于谐波分离膜中HfO

当制备HfO

当制备SiO

②根据谐波分离膜的膜系结构，按照上述膜层制备方法依次制备各层薄膜进而完成谐波分离膜的制备。

图2是三种单层膜光谱对比图，三种单层膜分别是利用常规电子束沉积方法制备的纯HfO

图3是HfO

图4是HfO

图5是两种谐波分离薄膜的设计与测试透射率光谱，其中，(a)是HfO

通过实验表明：如本发明所述，在制备HfO