一种正压防滴落的硅片胶液侧吹机构

技术领域

本发明涉及硅片涂胶技术领域，具体为一种正压防滴落的硅片胶液侧吹机构。

背景技术

在半导体制造时，需要使用光刻胶涂在硅片上进行显影作业，在显影的过程中通常利用硅片的旋转甩动将光刻胶扩散开，光刻胶在扩散到硅片的边沿后会流到硅片的下表面，造成硅片下表面被污染从而影响后续对硅片的处理，因此通常都会用到侧吹机构。

如公开号为CN210514937U的一种不受残留余滴影响的SVG显影机， 其中包括机壳、电机、电动滑轨和安装块，电机、电动滑轨和安装块均设置在机壳的内部，机壳的内部嵌入设置有接液皿，机壳上端面的左右两侧分别固定安装有显影液罐和纯水罐，显影液罐和纯水罐上均连接有输送管；电机固定安装在机壳的内侧底部，且位于接液皿的轴心位置，电机的动力输出端上水平同轴安装有工作台；电动滑轨包括有直轨以及滑动连接在该直轨上的滑块。

其中上述现有技术中存在以下技术问题：现有的显影机在向硅片的表面进行涂覆胶液时，喷涂在硅片上表面的光刻胶会流到硅片的下表面，从而对硅片的下表面造成污染，同时在通过胶管涂覆光刻胶时，不便于避免光刻胶在下流的过程中因温度影响导致流动性变差，且在涂覆完成之后，胶管内部容易残留部分胶液，当残留的胶液发生固化后，容易影响到后续的涂胶。

所以我们提出了一种正压防滴落的硅片胶液侧吹机构，以便于解决上述中提出的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种正压防滴落的硅片胶液侧吹机构，以解决上述背景技术提出的目前市场上现有的显影机在向硅片的表面进行涂覆胶液时，喷涂在硅片上表面的光刻胶会流到硅片的下表面，从而对硅片的下表面造成污染，同时在通过胶管涂覆光刻胶时，不便于避免光刻胶在下流的过程中因温度影响导致流动性变差，且在涂覆完成之后，胶管内部容易残留部分胶液，当残留的胶液发生固化后，容易影响到后续的涂胶的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种正压防滴落的硅片胶液侧吹机构，包括底座，所述底座的上端固定连接有导流罩，且导流罩的左右两侧设置有气泵，所述气泵通过输气管和导流罩相互连接，且导流罩的上端侧边固定连接有侧吹管，所述导流罩的上端中部设置有电动吸盘，且电动吸盘的下端中部固定连接有支撑杆，所述底座的底部固定连接有伺服电机，且伺服电机的输出端和支撑杆的下端通过传动齿轮构成啮合传动结构；

还包括：

所述底座的右侧固定连接有衔接架，所述衔接架上安装有预热机构，通过预热机构与出胶管的接触，从而对出胶管进行预热，提高出胶管内部胶液的流动性；

所述衔接架上还安装有清理机构，通过清理机构在胶液涂覆之后，使其预热机构对出胶管进行敲击，将其出胶管内部残留的胶液震落。

优选的，所述侧吹管沿着导流罩的上端周向均匀分布有多个，且侧吹管和导流罩的内部相互连通，并且侧吹管呈倾斜设置。

通过采用上述技术方案，当导流罩的内部进入气流后，气流能够通过侧吹管向外喷出对其硅片进行侧向吹风。

优选的，所述预热机构由定位柱、活动板、辅助弹簧、调节丝杆、隔热块、电热板、限制杆和第一磁块组成，且定位柱固定在衔接架的上端前后两侧， 所述定位柱上安装有活动板，且活动板通过辅助弹簧和定位柱的端部相互连接，所述活动板上安装有调节丝杆，且调节丝杆位于活动板内侧的一端固定连接有隔热块，所述隔热块固定在电热板上，且电热板上固定连接有限制杆，所述限制杆贯穿安装在活动板上，所述活动板靠近衔接架的一端内侧固定连接有第一磁块。

优选的，所述活动板和定位柱为垂直分布，且活动板通过辅助弹簧和定位柱构成弹性伸缩结构。

通过采用上述技术方案，通过辅助弹簧的设置能够使其在定位柱上移动后的活动板复位回弹。

优选的，所述调节丝杆和活动板为螺纹连接，且调节丝杆和电热板之间固定连接有隔热块，并且电热板上的限制杆能够在活动板上滑动。

通过采用上述技术方案，通过限制杆在活动板上的滑动，从而能够避免活动板跟随调节丝杆进行同步旋转。

优选的，所述清理机构由蓄气柱、连通管、引导杆、内置弹簧、调节块、驱动电机、传动丝杆、移动板、横杆、第二磁块和复位弹簧组成，且蓄气柱固定在衔接架上，所述蓄气柱通过连通管和导流罩相互连接，且蓄气柱上贯穿安装有引导杆，所述引导杆的下端通过内置弹簧和蓄气柱的内部相互连接，且引导杆的上端固定连接有调节块，所述调节块的下端侧边固定连接有驱动电机，且驱动电机的输出端固定连接有传动丝杆，所述传动丝杆上安装有两个移动板，所述调节块的左右两侧贯穿安装有横杆，且横杆的外端固定连接有第二磁块，并且横杆的内端通过复位弹簧和移动板相互连接。

优选的，所述引导杆的下端外壁和蓄气柱的内壁相互贴合，且引导杆和蓄气柱为滑动连接。

通过采用上述技术方案，引导杆的下端外壁和蓄气柱的内壁相互贴合，从而能够保证引导杆在蓄气柱上移动时的稳定性。

优选的，所述传动丝杆的左右两端螺纹走向相反，且传动丝杆和移动板为螺纹连接，并且移动板设置为矩形结构，移动板的外壁和调节块的内壁相贴合。

通过采用上述技术方案，通过传动丝杆的转动能够利用反向螺纹的设置使其移动板进行同步的相对移动。

优选的，所述横杆在调节块的左右两侧均匀分布有多个，且横杆端部的第二磁块磁性和第一磁块的磁性相同，并且横杆能够在调节块上滑动。

通过采用上述技术方案，通过第一磁块和第二磁块之间的距离变化，能够利用排斥磁力使其活动板进行移动。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：该正压防滴落的硅片胶液侧吹机构，能够通过侧吹的方式避免胶液留到硅片的下表面，同时能够在涂胶时，避免胶液的流动性变差，同时能够在涂胶之后，对胶管内部残留的胶液进行清理；

1、设置有电热板，通过调节丝杆的转动能够使得电热板朝向出胶管的方向移动并与出胶管移动至贴合状态，通过电热板对出胶管的预热，从而能够在出胶时，增加胶液在出胶管内部的流动性，且在涂覆胶液时，利用侧吹管朝向硅片下表面的吹风，将流在硅片下表面的光刻胶吹走，防止硅片下表面被污染；

2、设置有活动板，通过调节块向下移动后其侧边横杆端部第二磁块和活动板上第一磁块之间的距离远近变化，能够使得活动板带动电热板进行往复移动，利用电热板往复移动对出胶管撞击所产生的震动，即可将残留在出胶管内部的胶液震落，避免残留在出胶管内部的胶液发生凝固，造成出胶管内部的堵塞。

附图说明

图1为本发明正面立体结构示意图；

图2为本发明支撑杆和传动齿轮结构示意图；

图3为本发明电动吸盘结构示意图；

图4为本发明隔热块和电热板结构示意图；

图5为本发明蓄气柱和连通管结构示意图；

图6为本发明调节块和移动板剖视结构示意图；

图7为本发明移动板和横杆分解结构示意图；

图8为本发明蓄气柱和引导杆剖视结构示意图。

图中：1、底座；2、导流罩；3、气泵；4、输气管；5、侧吹管；6、电动吸盘；7、支撑杆；8、伺服电机；9、传动齿轮；10、衔接架；11、预热机构；111、定位柱；112、活动板；113、辅助弹簧；114、调节丝杆；115、隔热块；116、电热板；117、限制杆；118、第一磁块；12、清理机构；121、蓄气柱；122、连通管；123、引导杆；124、内置弹簧；125、调节块；126、驱动电机；127、传动丝杆；128、移动板；129、横杆；1210、第二磁块；1211、复位弹簧。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-图8，本发明提供如下两种实施例：

实施例一：现有的显影机在向硅片的表面进行涂覆胶液时，喷涂在硅片上表面的光刻胶会流到硅片的下表面，从而对硅片的下表面造成污染，为了解决这一技术问题，本实施例公开了如下技术内容，如图1-图3所示；

一种正压防滴落的硅片胶液侧吹机构，包括底座1，底座1的上端固定连接有导流罩2，且导流罩2的左右两侧设置有气泵3，气泵3通过输气管4和导流罩2相互连接，且导流罩2的上端侧边固定连接有侧吹管5，导流罩2的上端中部设置有电动吸盘6，且电动吸盘6的下端中部固定连接有支撑杆7，底座1的底部固定连接有伺服电机8，且伺服电机8的输出端和支撑杆7的下端通过传动齿轮9构成啮合传动结构；底座1的右侧固定连接有衔接架10，衔接架10上安装有预热机构11，通过预热机构11与出胶管的接触，从而对出胶管进行预热，提高出胶管内部胶液的流动性；侧吹管5沿着导流罩2的上端周向均匀分布有多个，且侧吹管5和导流罩2的内部相互连通，并且侧吹管5呈倾斜设置。预热机构11由定位柱111、活动板112、辅助弹簧113、调节丝杆114、隔热块115、电热板116、限制杆117和第一磁块118组成，且定位柱111固定在衔接架10的上端前后两侧， 定位柱111上安装有活动板112，且活动板112通过辅助弹簧113和定位柱111的端部相互连接，活动板112上安装有调节丝杆114，且调节丝杆114位于活动板112内侧的一端固定连接有隔热块115，隔热块115固定在电热板116上，且电热板116上固定连接有限制杆117，限制杆117贯穿安装在活动板112上，活动板112靠近衔接架10的一端内侧固定连接有第一磁块118。活动板112和定位柱111为垂直分布，且活动板112通过辅助弹簧113和定位柱111构成弹性伸缩结构。调节丝杆114和活动板112为螺纹连接，且调节丝杆114和电热板116之间固定连接有隔热块115，并且电热板116上的限制杆117能够在活动板112上滑动。

本实施例的工作原理是：当需要对硅片进行涂覆胶液时，将硅片放置在电动吸盘6上，通过电动吸盘6对硅片进行吸附固定，接着转动调节丝杆114，调节丝杆114转动后使其电热板116朝向出胶管的方向移动，使其电热板116与出胶管相互贴合，在涂覆胶液的过程中，胶液顺着出胶管滴落至硅片上，通过电热板116的开启将热量传递至出胶管上，通过对出胶管的预热，从而能够提高胶液经过出胶管时的流动性，在涂覆胶液时，开启伺服电机8，伺服电机8的开启能够利用传动齿轮9使其支撑杆7带动电动吸盘6进行旋转，同时开启气泵3，气泵3的开启将输气管4输送至导流罩2的内部，导流罩2的内部进入气流后通过倾斜的侧吹管5吹向硅片下表面，风沿着硅片下表面向外侧吹，将流在硅片下表面的光刻胶吹走，防止硅片下表面被污染。

实施例二：本实施例中公开的正压防滴落的硅片胶液侧吹机构是在上述实施例一的基础上做出的进一步改进，在通过胶管涂覆光刻胶时，不便于避免光刻胶在下流的过程中因温度影响导致流动性变差，且在涂覆完成之后，胶管内部容易残留部分胶液，当残留的胶液发生固化后，容易影响到后续的涂胶，为了进一步解决这一技术问题，本实施例公开了如下技术内容，如图1、图2和图4-图8所示；

衔接架10上还安装有清理机构12，通过清理机构12在胶液涂覆之后，使其预热机构11对出胶管进行敲击，将其出胶管内部残留的胶液震落。清理机构12由蓄气柱121、连通管122、引导杆123、内置弹簧124、调节块125、驱动电机126、传动丝杆127、移动板128、横杆129、第二磁块1210和复位弹簧1211组成，且蓄气柱121固定在衔接架10上，蓄气柱121通过连通管122和导流罩2相互连接，且蓄气柱121上贯穿安装有引导杆123，引导杆123的下端通过内置弹簧124和蓄气柱121的内部相互连接，且引导杆123的上端固定连接有调节块125，调节块125的下端侧边固定连接有驱动电机126，且驱动电机126的输出端固定连接有传动丝杆127，传动丝杆127上安装有两个移动板128，调节块125的左右两侧贯穿安装有横杆129，且横杆129的外端固定连接有第二磁块1210，并且横杆129的内端通过复位弹簧1211和移动板128相互连接。引导杆123的下端外壁和蓄气柱121的内壁相互贴合，且引导杆123和蓄气柱121为滑动连接。传动丝杆127的左右两端螺纹走向相反，且传动丝杆127和移动板128为螺纹连接，并且移动板128设置为矩形结构，移动板128的外壁和调节块125的内壁相贴合。横杆129在调节块125的左右两侧均匀分布有多个，且横杆129端部的第二磁块1210磁性和第一磁块118的磁性相同，并且横杆129能够在调节块125上滑动。

本实施例的工作原理是：当导流罩2的内部进入气流后，部分气流也会通过连通管122进入至蓄气柱121的内部，随着蓄气柱121内部的气流增多能够推动引导杆123向上移动，引导杆123向上移动后能够带动调节块125进行同步移动，调节块125在向上移动的过程中，其横杆129端部的第二磁块1210与活动板112上的第一磁块118相互靠近时，利用两者的排斥磁力使其横杆129在调节块125的侧边滑动，此时复位弹簧1211开始压缩形变，而辅助弹簧113并不发生形变，因此活动板112也不会发生移动，从而在调节块125向上移动的过程中不会使其电热板116与出胶管发生脱离，当胶液涂覆之后，开启驱动电机126，驱动电机126开启后使其传动丝杆127进行转动，传动丝杆127转动后能够在反向螺纹的作用下使其两个移动板128朝向调节块125的外侧移动，移动板128移动后即可对复位弹簧1211进行压缩，接着关闭气泵3，引导杆123没有气流推动支撑，引导杆123在内置弹簧124的作用下复位回弹，引导杆123复位后使其调节块125同步下移，当调节块125向下移动后其横杆129端部的第二磁块1210与活动板112上的第一磁块118相互靠近时，利用两者的排斥磁力使其活动板112朝向定位柱111的外侧方向移动，此时辅助弹簧113发生形变，而横杆129上的复位弹簧1211并不发生形变，当调节块125移动后其横杆129端部的第二磁块1210和活动板112上第一磁块118远离后，活动板112在辅助弹簧113的作用下复位回弹，由此即实现了活动板112的往复移动，通过活动板112的往复移动即可利用其上的电热板116对出胶管进行撞击，利用电热板116对出胶管撞击时产生的震动，即可将残留在出胶管内部的胶液震落，避免胶液的残留在一定时间后导致出胶管内部出现凝固堵塞。

本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。

尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。