提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机
文献发布时间:2023-06-19 10:54:12
技术领域提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机。
背景技术
背景技术描述段落。提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机。
发明内容
发明内容描述段落。(下面有形象图)将螺丝头镶嵌在一个圆盘A中心,螺母位置不变,圆盘A旋转一周,螺丝杆A就会向前伸出(此处只讲向前)1毫米,(伸出长短与螺丝扣大小成正比,此处假设为1毫米)圆盘A外周长如果是1米,那么圆盘A外周长旋转1毫米,螺丝杆A就会向前伸出1微米,圆盘外周长如果是1000米,那么圆盘A旋转1毫米,螺丝杆A就会向前伸出1纳米,(螺丝杆向前伸出或向后缩回1纳米,取决于圆盘旋转的方向)利用这个原理机床就可以实现1纳米精度雕刻。螺丝杆A伸出尖端安装一个尖端为1纳米的刻刀,就可以生产1纳米级芯片了,此方法可用于芯片制作替代光刻机。如果希望圆盘小一点便于生产,可用多个周长小的组合,也可实现,如圆盘A周长为1米的外周有螺丝扣,用另一个外周长为1米的圆盘B上的螺丝杆B推动旋转圆盘A,圆盘B旋转1毫米,螺杆B伸出1微米,推动圆盘A旋转1微米,圆盘A的螺丝杆A就伸出1纳米,(和1000米周长单个圆盘效果相同)。以此类推螺丝杆A伸出1纳米不变的情况下,圆盘越多圆盘就可以越小,反之圆盘不变圆盘越多螺丝杆A伸出就越小。在1纳米刻刀的推杆上加装三维坐标轴(也用同原理推动的1纳米级精度的),尖端为1纳米的刻刀就可以实现上下,左右,前后自由刻画,刻画精度就是1纳米级的。
附图说明
图1是本发明提高机床精度到1纳米级或更高级的方案的结构示意图。
- 提高机床精度到1纳米级或更高级的方案可用于高级芯片生产替代光刻机
- 一种使用OCC浆替代DIP浆生产高级涂布灰底白板纸的生产方法