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一种非晶纳米晶制带设备的组合式喷嘴系统

文献发布时间:2023-06-19 11:09:54


一种非晶纳米晶制带设备的组合式喷嘴系统

技术领域

本发明涉及非晶纳米晶合金的技术领域,具体涉及一种非晶纳米晶制带设备的组合式喷嘴系统。

背景技术

传统非晶纳米晶合金的喷嘴是通过高温胶固定在喷嘴包内,该方式存在以下缺点:首先是固定前需要人为找正或对中;其次是用高温胶固定前要人为固定位置,然后粘结,粘接效果不理想的情况下可能会导致喷嘴脱落,造成喷嘴损坏。

发明内容

针对现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种非晶纳米晶制带设备的组合式喷嘴系统,具有便于安装的优点,提升系统的稳定性。

为实现上述目的,本发明提供了如下技术方案:

一种非晶纳米晶制带设备的组合式喷嘴系统,包括喷嘴和喷嘴包,所述喷嘴包的内侧两端分别设置有定位件,所述喷嘴的上端固设有用于与所述定位件配合的配对件;所述定位件包括凸起于所述喷嘴包的定位筋,所述配对件包括有与所述喷嘴上端固定连接的挂件,所述挂件靠近所述喷嘴包的一端面开设有用于与所述定位筋配合的配对槽;

或者所述喷嘴包开设有用于与所述挂件配合的定位槽,所述定位筋位于所述定位槽的底端中部位置。

通过采用上述技术方案,挂件靠近喷嘴包的一端面开设有用于与定位筋配合的配对槽,喷嘴包的定位筋和喷嘴的配对槽之间可作为间隙配合,当需要安装喷嘴时,仅需要将配对槽与定位筋对合即可实现装配,无需人为找正或对中,具有便于操作人员安装的效果。通过在喷嘴包开设有用于与挂件配合的定位槽,使得挂件能够更好嵌入至喷嘴包上,提升系统结合的稳定性。

本发明进一步设置为:所述定位筋的形状为条状。

通过采用上述技术方案,定位筋和配对槽之间可作为间隙配合更为紧密,起到限制喷嘴动作的效果,提升了系统结合的稳定性。

本发明进一步设置为:所述挂件的高度与所述定位槽的深度相同设置。

通过采用上述技术方案,使得挂件远离喷嘴包的端面与喷嘴包的内侧端面之间平齐设置,使得喷嘴和喷嘴包之间结合更为平整紧密。

本发明进一步设置为:所述定位件和所述配对件之间结合面涂有均匀分布的密封胶。

通过采用上述技术方案,起到防止钢水顺定位筋和配对槽之间缝隙流出的效果;同时,则在定位筋和配对槽之间结合处涂密封胶即可,节省了密封胶的使用,降低喷嘴和喷嘴包之间的结合成本。

综上所述,本发明具有以下有益效果:

1.通过在挂件靠近喷嘴包的一端面开设有用于与定位筋配合的配对槽,喷嘴包的定位筋和喷嘴的配对槽之间可作为间隙配合,当需要安装喷嘴时,仅需要将配对槽与定位筋对合即可实现装配,无需人为找正或对中,具有便于操作人员安装的效果;

2.通过在定位件和配对件之间结合面涂有均匀分布的高温胶,起到防止钢水顺定位筋和配对槽之间缝隙流出的效果;同时,则在定位筋和配对槽之间结合处涂高温胶即可,节省了高温胶的使用,降低喷嘴和喷嘴包之间的结合成本。

附图说明

图1为本实施例1的系统示意图;

图2为本实施例2的系统示意图。

附图标记:1、喷嘴包;11、定位槽;2、喷嘴;21、挂件;211、配对槽;3、定位筋。

具体实施方式

以下结合附图及实施例,对本发明作进一步详细说明。

实施例1

如图1所示,本发明公开的一种非晶纳米晶制带设备的组合式喷嘴系统,包括喷嘴2和喷嘴包1,喷嘴包1的内侧两端分别设置有定位件,喷嘴2的上端固设有用于与定位件配合的配对件,便于喷嘴2安装于喷嘴包1,无需后期找正或对中。

定位件包括凸起于喷嘴包1的定位筋3,配对件包括有与喷嘴2上端固定连接的挂件21,挂件21靠近喷嘴包1的一端面开设有用于与定位筋3配合的配对槽211;所述定位筋3的形状为条状,定位件和配对件之间结合面涂有均匀分布的密封胶,密封胶采用耐高温胶水。

本实施例的工况及原理如下:

当需要安装喷嘴2时,先在挂件21靠近喷嘴包1的端面和喷嘴包1的端面分别均匀涂上密封胶,然后将挂件21挂设在喷嘴包1上,使得配对槽211与定位筋3之间配对结合,仅需要将配对槽211与定位筋3对合即可实现装配,无需人为找正或对中,具有便于操作人员安装的效果。

实施例2

本实施例与实施例1的区别在于:参见图2,喷嘴包1的内侧两端分别开设有用于与挂件21配合的定位槽11,定位槽11的深度和挂件21的高度相同设置,定位筋3位于定位槽11的底端中部位置。

本实施例的工况及原理如下:

当需要安装喷嘴2时,先在挂件21靠近喷嘴包1的端面和定位槽11的表面分别均匀涂上密封胶,然后将挂件21与定位槽11配对,使得配对槽211与定位筋3之间配对结合,仅需要将挂件21与定位槽11对合即可实现装配,无需人为找正或对中,具有便于操作人员安装的效果。

上述实施例只是为了说明本发明的技术构思及特点,其目的是在于让本领域内的普通技术人员能够了解本发明的内容并据以实施,并不能以此限制本发明的保护范围。凡是根据本发明内容的实质所做出的等效的变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围内。

相关技术
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  • 非晶制带设备用组合式喷嘴
技术分类

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