底座组件、清洁方法以及自清洁方法

技术领域

本发明属于清洁装置技术领域，具体涉及一种底座组件、清洁方法以及自清洁方法。

背景技术

随着科技的发展，人们生活水平的提高，清洁设备也越来越多地应用于各个领域，例如清洁设备(扫地机器人、洗地机等等)等等，将人们从繁杂的清洁工作中释放出来，既能保持家居、办公等环境的洁净，又能让人们享有更多的空闲时间，而被人们所青睐。

以洗地机为例进行说明，现有技术中的洗地机自清洁过程中，所用的清水是冷水，特别是冬天，冷水非常不利于滚刷上的脏污清洗，滚刷上的脏污，比如油污，很难通过冷水清洗干净。

发明内容

本发明提供一种底座组件、清洁方法以及自清洁方法，以解决滚刷清洗时难以清洗干净。

为了实现上述目的，本发明提供一种底座组件，用于清洁系统，所述底座组件包括：

底座本体，具有用于容纳待清洁件的清洁凹槽；以及，

发热组件，所述发热组件包括发热体和密封件，所述发热体至少部分密封在所述密封件中，且所述发热体通过所述密封件安装在所述清洁凹槽的底壁，以对清洁凹槽中的液体进行加热。

优选地，在所述底座组件中，所述清洁凹槽的底壁贯设有安装孔；

所述发热体通过所述密封件密封设置在所述安装孔中，且部分露出所述密封件的顶部。

优选地，在所述底座组件中，所述发热体包括导热件、发热元件、以及绝缘件，所述导热件包覆在所述发热元件的外部，且所述导热件和所述发热元件之间设有绝缘件。

优选地，在所述底座组件中，所述导热件为导热铝管，所述导热铝管的两端密封设置；

所述导热铝管的顶部设有第一弧形结构，所述第一弧形结构与清洁凹槽的底壁相适配。

优选地，在所述底座组件中，所述导热件的一端设有用于走线的缺口，所述缺口在走线后通过密封胶密封设置。

为了实现上述目的，本发明提供一种清洁方法，应用于清洁系统，所述清洁系统包括清洁装置、以及如上述的底座组件，所述清洁装置包括滚刷、对所述滚刷吸液的吸液结构，包括如下步骤：

响应于清洁指令，控制开启放清洁液、滚刷以第一预设转速正转以及发热体工作对清洁凹槽内的水加热，其中，所述第一预设转速≥0r/min；

待放清洁液第一预设时长时停止放清洁液，控制滚刷以第一预设转速继续正转第二预设时长；

控制滚刷以第二预设转速正转，其中，第一预设转速≤第二预设转速；

控制吸液结构开启以进行吸液。

优选地，在所述清洁方法中，所述控制滚刷以第二预设转速正转的步骤，包括：

控制滚刷以第二预设转速正反转交替。

为了实现上述目的，本发明提供一种自清洁方法，应用于清洁系统，所述自清洁方法包括：

响应于清洁指令，确定清洁策略；

根据所述清洁策略，确定执行第二次清洁的次数，所述第二次清洁采用上述的清洁方法进行清洁；

按照确定的次数，控制执行第二次清洁。

优选地，在所述自清洁方法中，所述响应于清洁指令，确定清洁策略，包括：

响应于清洁指令，获取用户输入的清洁策略。

优选地，在所述自清洁方法中，所述响应于清洁指令，确定清洁策略，包括：

响应于清洁指令，获取滚刷的脏污信息；

根据滚刷的脏污信息，确定清洁策略；

优选地，在所述自清洁方法中，所述根据所述清洁策略，确定执行第二次清洁的次数的步骤之前，所述自清洁方法还包括：

控制滚刷以第三预设转速正转、发热体工作、以及吸液结构开启以进行吸液；

控制执行第一次清洁，所述第一次清洁采用上述的清洁方法进行清洁。

优选地，在所述自清洁方法中，所述控制执行第一次清洁的步骤之后，所述根据所述清洁策略，确定执行第二次清洁的次数的步骤之前，所述自清洁方法还包括：

控制滚刷以第四预设转速反转。

优选地，在所述自清洁方法中，所述按照确定的次数，控制执行第二次清洁的步骤之后，所述自清洁方法还包括：

控制滚刷正转、发热体停止工作、以及吸液结构开启以进行吸液。

为了实现上述目的，本发明提供一种自清洁装置，所述自清洁装置包括：

第一确定单元，用于响应于清洁指令，确定清洁策略；

第二确定单元，用于根据所述清洁策略，确定执行第二次清洁的次数，所述第二次清洁采用上述的清洁方法进行清洁；

第一控制单元，用于按照确定的次数，控制执行第二次清洁。

为了实现上述目的，本发明提供一种清洁系统，所述自移动机器人包括：

至少一个处理器；以及，

与所述至少一个处理器通信连接的存储器；其中，

所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令，所述指令被所述至少一个处理器执行，以使所述至少一个处理器能够执行如上述的清洁方法、和/或如上述的自清洁方法。

为了实现上述目的，本发明提供一种计算机可读存储介质，存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如上述的清洁方法、和/或如上述的自清洁方法。

本发明提供的技术方案，具有以下优点：

本发明在洗地机自清洁时，放水到清洁凹槽，滚刷转动并进行自清洁，此时发热体加热冷水，使冷水变成热水，滚刷旋转可进行热水洗，使自清洁清洗的更加干净；

进一步地，在洗地机自清洁后，清洁凹槽中会残留小部分水渍，发热体余热可使残留水快速挥发，避免增加水泵等额外成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明提供的底座组件在安装滚刷时的示意图；

图2为图1中底座组件未安装滚刷时一实施例的示意图；

图3为图2的一剖视图；

图4为图3中A处的放大示意图；

图5为图2中底座组件在另一视角的示意图；

图6为图2中发热组件一实施例的示意图；

图7为图6中发热组件的一剖视图；

图8为图6中发热组件的另一剖视图；

图9为图8中B处的放大示意图；

图10为本发明清洁方法在第一实施方式的示意图；

图11为本发明自清洁方法在第一实施方式的示意图；

图12为本发明自清洁方法在第二实施方式的示意图

图13为本发明自清洁方法在第三实施方式的示意图；

图14为本发明自清洁方法在第四实施方式的示意图；

图15为本发明自清洁装置的示意图；

图16为清洁系统一实施例的示意图。

100-底座组件，1-底座本体，11-清洁凹槽，111-安装孔，2-发热组件，21-发热体，211-导热件，2111-缺口，212-发热元件、213-绝缘件，22-硅胶密封隔热圈，23-线束，200-滚刷。

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

本发明实施例中术语“和/或”，描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。

本发明实施例中术语“多个”是指两个或两个以上，其它量词与之类似。

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的各实施例进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本发明各实施例中，为了使读者更好地理解本发明而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施例的种种变化和修改，也可以实现本发明所要求保护的技术方案。以下各个实施例的划分是为了描述方便，不应对本发明的具体实现方式构成任何限定，各个实施例在不矛盾的前提下可以相互结合相互引用。

本发明涉及一种底座组件，用于清洁系统，请参阅图1和图2，该底座组件100包括底座本体1、以发热组件2，底座本体1具有用于容纳待清洁件的清洁凹槽11；所述发热组件2包括发热体21和密封件，所述发热体21至少部分密封在所述密封件中，且所述发热体21通过所述密封件安装在所述清洁凹槽11的底壁，以对清洁凹槽11中的液体进行加热。

清洁系统可以是自移动式清洁系统、还可以是手持式清洁系统，在此不做具体限制。清洁系统包括清洁装置和底座组件100，清洁装置与底座组件100匹配使用。下面为了便于说明，以清洁装置为洗地机为例，但并不代表该清洁装置仅限于为洗地机。

在洗地机自清洁时，放水到清洁凹槽11，滚刷200转动并进行自清洁，此时发热体21加热冷水，使冷水变成热水，滚刷200旋转可进行热水洗，使自清洁清洗的更加干净；

进一步地，在洗地机自清洁后，清洁凹槽11中会残留小部分水渍，发热体21余热可使残留水快速挥发，避免增加水泵等额外成本。

需要说明的是，该底座组件100可以是具有充电、清洗功能的底座；底座组件100还可以是一清洁基站，在此不做具体限制。以底座组件100为单纯的具有充电、清洗功能的底座为例，当洗地机的滚刷200放置在清洁凹槽11上进行自清洁时，滚刷200喷射出的冷水流到清洁凹槽11，发热体21对该冷水加热，对滚刷200进行自清洁；在清洗完成去除清洁水时，通过吸液结构吸液，对于洗地机开启主风机即可。以底座组件100为清洁基站为例，可以是清洁基站的水箱喷射冷水到清洁凹槽11，也可以是滚刷200喷射出的冷水喷射到清洁凹槽11，再通过发热体21对该冷水加热，对滚刷200进行自清洁；在清洗完成去除清洁水时，通过吸液结构吸液，可以是开启洗地机的主风机，也可以是清洁基站上的吸液结构。

本发明通过设置发热组件2，可以在洗地机自清洁时，将冷水加热成热水，如此清洁的更干净，通过发热体21至少部分密封在所述密封件中，密封件安装在所述清洁凹槽11的底壁，如此可以防止对滚刷200进行自清洁时，清洁凹槽11上的水不会从清洁凹槽11的底壁漏出；另外，发热体21至少部分密封在密封件汇总可以有效阻隔位于密封件内部的发热体21向其他方向的导热，而仅仅从发热体21的顶部未密封部位(对应洗地机滚刷的部位)进行导热。

具体地，请参阅图3和图4，清洁凹槽11的底壁贯设有安装孔111；所述发热体21通过所述密封件密封设置在所述安装孔111中，且部分露出所述密封件的顶部。安装时，密封件包设在发热体21的外缘，再安装在安装孔111内完成密封，如此可以防止清洁凹槽11上的水漏出。在本实施例中，密封件为硅胶密封隔热圈22。具体安装时，硅胶密封隔热圈22套设在发热体21的外缘后再密封安装在安装孔111，再通过螺栓将硅胶密封隔热圈22安装在底座本体1，例如在硅胶密封隔热圈22开设一螺钉孔，在螺钉孔对应位置开设螺钉柱孔，再通过螺钉安装在螺钉柱孔、螺钉孔内，以使硅胶密封隔热圈22与底座本体1固定。

更具体地，请参阅图5至图7，发热体21包括导热件211、发热元件212、以及绝缘件213，所述导热件211包覆在所述发热元件212的外部，且所述导热件211和所述发热元件212之间设有绝缘件213。绝缘件213可以是常规的绝缘件213即可。在本实施例中，导热件211为导热铝管，安装时，所述导热铝管的两端密封设置。所述导热铝管的顶部设有第一弧形结构，所述第一弧形结构与清洁凹槽11的底壁相适配，如此清洁凹槽11的内壁面可以平滑过渡，而不会与放置在清洁凹槽11的滚刷200发生结构上的干涉，滚刷200旋转也更顺畅；另一方面，第一弧形结构迎合滚刷200的弧度，使导热铝管与滚刷200之间形成间隙或者局部相接触。

同样地，位于导热铝管两侧的密封件的顶部也具有第二弧形结构，第二弧形结构与导热铝管、清洁凹槽11的第一弧形结构处于同一弧面，清洁凹槽11的内壁面可以更平滑过渡，而不会与放置在清洁凹槽11的滚刷200发生结构上的干涉，滚刷200旋转也更顺畅。

为了便于走线，请参阅图8和图9，所述导热件211的一端设有用于走线的缺口2111，所述缺口2111在通过线束23走线后通过密封胶密封设置，如此可以保证线束连接处进水而漏电。

本发明通过在清洁凹槽11安装发热体21，自清洁时发热体21可加热清洁凹槽11中的冷水，使容置在清洁凹槽11中的滚刷200经过清洁凹槽11时进行热水清洗；在自清洁后清洁凹槽11中会残留小部分水渍，发热体21余热可使残留水快速挥发，避免增加水泵等额外成本。

本实施方式涉及一种清洁方法，应用于清洁系统，所述清洁系统包括清洁装置、以及上述的底座组件100，所述清洁装置包括滚刷200、对所述滚刷200吸液的吸液结构，清洁装置例如洗地机等等，在此不一一列举。

下面对本发明第一实施方式的清洁方法的实现细节进行说明，以下内容仅为方便理解而提供的实现细节，并非实施本方案的必须。

本实施方式的具体流程如图10所示，具体包括：

步骤S210，响应于清洁指令，控制开启放清洁液、滚刷200以第一预设转速正转以及发热体21工作对清洁凹槽11内的水加热，其中，所述第一预设转速≥0r/min；

应该理解的是，清洁液可以是水，也可以是混有清洁剂的清洁水，在此不做具体限制，下面为了便于说明，以清洁液为水为例进行说明。第一预设转速可以是一个较低的转速，例如转速为50-60r/min，此时开启放水、发热体21开始工作，滚刷200低速正转，可以将滚刷200充分润湿，并慢慢将水带出到清洁凹槽11便于水充分加热。第一预设转速≥0r/min，即滚刷200可以是暂停转动，也可以是以一大于0r/min的转速转动，还可以是以一大于0r/min的转速转动一时长后暂停另一时长，当然还可以是先暂停一时长后再开始转动另一时长，具体如何设置可以根据实际需要而定，在此不做具体限制。

另外，由于考虑到发热体21加热需要一定时间，在步骤S210放水阶段即需要提前开启发热体21，在其他实施例中，也可以不在放水阶段开启发热体21。

需要说明的是，该执行主体可以是清洁装置，也可以是清洁基站，在上述底座组件100可以是具有充电、清洗功能的底座时，执行主体只能是清洁装置，例如洗地机；在上述底座组件100是清洁基站时，执行主体可以是清洁基站，也可以是清洁装置，在此不做具体限制。

步骤S220，待放清洁液第一预设时长时停止放清洁液，控制滚刷200以第一预设转速继续正转第二预设时长；

应该理解的是，此时泵水的水泵停止泵水，滚刷200以第一预设转速正转，发热体21持续工作，以对清洁凹槽11中的水进行预热。

步骤S230，控制滚刷200以第二预设转速正转，其中，第一预设转速≤第二预设转速；

应该理解的是，控制滚刷200以第二预设转速正转，第一预设转速≤第二预设转速，以通过热水对滚刷200清洗，清洗时滚刷200高速转动(例如第二预设转速为500r/min)一方面提高清洗速度，另一方面加大清洗力度，提高清洗洁净度。

具体实现时，还可以是控制滚刷200以第二预设转速正反转交替。例如控制滚刷200以第二预设转速正转5s，再控制滚刷200以第二预设转速反转5s，……，如此交替，如此可以清洗更干净。

步骤S240，控制吸液结构开启以进行吸液。

应该理解的是，底座组件100可以是具有充电、清洗功能的底座；底座组件100还可以是一清洁基站。在底座组件100为单纯的具有充电、清洗功能的底座时，吸液结构为清洁装置上的洗液结构，对于洗地机开启主风机，水将通过主风机从吸口吸走，进入到自身的污水箱。在底座组件100为清洁基站时，吸液结构可以为清洁装置上的洗液结构，也可以为清洁基站上的吸液结构。

本实施方式涉及一种自清洁方法，应用于清洁系统，所述清洁系统包括清洁装置、以及上述的底座组件100，所述清洁装置包括滚刷200、对所述滚刷200吸液的吸液结构，清洁装置例如洗地机等等，在此不一一列举。

下面对本发明第一实施方式的自清洁方法的实现细节进行说明，以下内容仅为方便理解而提供的实现细节，并非实施本方案的必须。

本实施方式的具体流程如图11所示，具体包括：

步骤S310，响应于清洁指令，确定清洁策略；

应该理解的是，该清洁指令可以是用户输入的清洁模式的选项，例如清洁模式可以包括轻度自清洁、深度自清洁等等，不同的清洁模式，对应的清洁策略也可能不同。

清洁模式可以是用户自定义的，也可以是出厂设置，还可以是根据作业环境自动生成的，例如在不同的作业环境下对清洁度的要求也不同，如此可以设置对清洁度要求高的进入深度自清洁的阈值小一些；同时深度自清洁对应的第二次清洁的次数也可以根据作业环境而设置，例如对于常规环境，深度自清洁时第二次清洁的次数为2次，对于清洁度要求高的作用环境，深度自清洁时第二次清洁的次数为5次，甚至更多。

又例如，用户可以认为设置轻度自清洁或深度自清洁时第二次清洁的次数，甚至用户可以根据需要确定清洁模式(例如第1级清洁模式、第2级清洁模式、第3级清洁模式、……)以及对应的第二次清洁的次数，如此更贴近用户需要。在其他实施例中，还可以是系统自动根据用户认为设置的当前清洁度与需要进行的第二次清洁的次数进行默认设置。

步骤S320，根据所述清洁策略，确定执行第二次清洁的次数，所述第二次清洁采用上述清洁方法进行清洁；

应该理解的是，不同的清洁策略，对应的第二次清洁的次数可能不同，例如在轻度自清洁时第二次清洁的次数＜在深度自清洁时第二次清洁的次数。

步骤S330，按照确定的次数，控制执行第二次清洁。

应该理解的是，控制执行第二次清洁N次，其中N为确定的次数。

需要说明的是，步骤S330之后，还包括：

步骤S340，控制滚刷200正转、发热体21停止工作、以及吸液结构开启以进行吸液。

需要说明的是，控制滚刷200正转、发热体21停止工作、以及吸液结构开启以进行吸液，如此可以甩干滚刷200。滚刷200正转，可以是滚刷200先低速正转(例如转速50r/min)一时长(例如2s-3s)，再高速正转(例如转速为500r/min以上)一时长(例如20s-25s)，如此来达到甩干滚刷200。

另外，本发明所述的“正转”、“反转”为一相对概念，例如正转可以是逆时针转动，反转为顺时针转动；而在正转为顺时针转动，反转则为逆时针转动，故采用“正转”和“反转”的概念仅仅是为了便于说明。还可以是清洁装置在清洁过程中滚刷的转动方向定义为正转，而与该正转方向相反的方向为反转。

如图12所示，第二实施方式涉及的自清洁方法，步骤S310还可以是具体包括：

步骤S311，响应于清洁指令，获取用户输入的清洁策略。

应该理解的是，用户输入的清洁策略，可以是用户选择的清洁模式，例如轻度自清洁模式、深度自清洁模式。用户输入的方式可以是按键选择，也可以是触摸屏选择，还可以是用户设置的清洁模式(例如用户根据需要设置A清洁模式，对应的第二次清洁的次数为3次)，在此不做具体限制。

如图13所示，第三实施方式涉及的自清洁方法，步骤S310还可以是具体包括：

步骤S312，响应于清洁指令，获取滚刷200的脏污信息；

应该理解的是，该清洁指令，可以仅仅是用户输入的需要自清洁的指令，例如按压自清洁按钮，或者点击自清洁的选项等等。获取滚刷200的脏污信息，可以是通过脏污传感器进行检测获取，其中脏污传感器可以是设置在洗地机回收污水的管道，例如洗地机的吸口与污水箱之间的管道。滚刷200的脏污信息可以是根据脏污值进行划分，例如轻度脏污、中度脏污、高度脏污；还可以是根据洗地机在清洁地面时脏污比较重的时候的第一时长(脏污值大于第一预设值的第一时长)，例如在洗地机在清洗地面时，脏污比较严重(脏污值大于第一预设值)的时长达到10min以上，则需要进行深度自清洁，第一时长可以是累计得到，也可以是单次清洗时长；还可以是根据洗地机运行的时间(通常认为是清洁待清洁表面的时间)长短来确定滚刷200的脏污程度，例如脏污值小于第一预设值但洗地机运行的时间大于第二时长时，也可以认为是高度脏污来确定清洁策略。

步骤S313，根据滚刷200的脏污信息，确定清洁策略；

应该理解的是，根据滚刷200的脏污信息，确定清洁策略，可以是根据脏污值、工作时长(例如洗地机的清洁待清洁面的时长)、脏污值大于第一预设值的第一时长等等中的一种或多种结合在一起确定清洁策略。

由于不同的清洁环境对滚刷200的清洁程度的要求也不同，故清洁策略还可以是根据清洁环境以及滚刷200的脏污信息结合考虑，例如对于清洁环境为较为干净的家庭地面，对于滚刷200的清洁程度要求会要求较高。

在其他实施例中，也可以是根据清洁环境确定第一预设值的大小。

如图14所示，第五实施方式涉及的自清洁方法，步骤S320之前，所述自清洁方法还包括：

步骤S321，控制滚刷200以第三预设转速正转、发热体21工作、以及吸液结构开启以进行吸液；

步骤S322，控制执行第一次清洁，所述第一次清洁采用上述的清洁方法进行清洁。

具体地，所述步骤S322之前，所述自清洁方法还包括控制滚刷200以第四预设转速反转。如此，由于滚刷200先正转，通过控制滚刷200逆向转动可以使滚刷200的滚刷200毛竖起，以此来清洁滚刷盖板，此时发热体21处于工作状态，可以通过热水对滚刷盖板进行清洗。

为了实现上述目的，本发明还提供一种自清洁装置，如图15所示，该自清洁装置包括第一确定单元401、第二确定单元402、以及第一控制单元403；

其中，

第一确定单元401用于响应于清洁指令，确定清洁策略；

应该理解的是，该清洁指令可以是用户输入的清洁模式的选项，例如清洁模式可以包括轻度自清洁、深度自清洁等等，不同的清洁模式，对应的清洁策略也可能不同。

第二确定单元402用于根据所述清洁策略，确定执行第二次清洁的次数，所述第二次清洁采用上述清洁方法进行清洁；

应该理解的是，不同的清洁策略，对应的第二次清洁的次数可能不同，例如在轻度自清洁时第二次清洁的次数＜在深度自清洁时第二次清洁的次数。

第一控制单元403用于按照确定的次数，控制执行第二次清洁。

应该理解的是，控制执行第二次清洁N次，其中N为确定的次数。

为了实现上述目的，本发明还提供一种清洁系统，如图16所示，该清洁系统包括至少一个处理器501；以及，与所述至少一个处理器501通信连接的存储器502；其中，所述存储器502存储有可被所述至少一个处理器501执行的指令，所述指令被所述至少一个处理器501执行，以使所述至少一个处理器501能够执行上述的清洁方法、和/或如上述的自清洁方法。

其中，存储器502和处理器501采用总线方式连接，总线可以包括任意数量的互联的总线和桥，总线将一个或多个处理器501和存储器502的各种电路连接在一起。总线还可以将诸如外围设备、稳压器和功率管理电路等之类的各种其他电路连接在一起，这些都是本领域所公知的，因此，本文不再对其进行进一步描述。总线接口在总线和收发机之间提供接口。收发机可以是一个元件，也可以是多个元件，比如多个接收器和发送器，提供用于在传输介质上与各种其他装置通信的单元。经处理器501处理的数据通过天线在无线介质上进行传输，进一步，天线还接收数据并将数据传送给处理器501。

处理器501负责管理总线和通常的处理，还可以提供各种功能，包括定时，外围接口，电压调节、电源管理以及其他控制功能。而存储器502可以被用于存储处理器501在执行操作时所使用的数据。

为了实现上述目的，本发明提供一种计算机可读存储介质，存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述的清洁方法、和/或如上述的自清洁方法。

即，本领域技术人员可以理解，实现上述实施方式方法中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件来完成，该程序存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一个设备(可以是单片机，芯片等)或处理器(processor)执行本申请各个实施方式所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、移动硬盘、只读存储器(ROM，Read-On ly Memory)、随机存取存储器(RAM，Random Access Memory)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。

显然，上述所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，可以做出其它不同形式的变化或变动，都应当属于本发明保护的范围。