显示装置

本申请是申请日为2017年7月27日、申请号为201710624079.9、题为“显示装置”的专利申请的分案申请。

技术领域

在这里，本公开涉及一种包括触摸检测单元的显示装置。

背景技术

正在开发诸如电视、移动电话、平板计算机、导航和游戏机的多媒体装置的各种显示装置。包括键盘或鼠标作为显示装置的输入装置。另外，目前的显示装置包括触摸检测单元作为输入装置。

发明内容

本公开提供一种包括触摸检测单元的显示装置。

发明构思的实施例提供一种显示装置，该显示装置包括：有机发光显示面板，限定用于显示图像的显示区域和与显示区域相邻的非显示区域，并且包括基础层、在基础层上的电路层、在电路层上的发光器件层以及在发光器件层上的薄膜密封层，其中，薄膜密封层分为第一薄膜密封区域和与第一薄膜密封区域相邻的第二薄膜密封区域；触摸检测单元，包括在薄膜密封层的第一薄膜密封区域上的第一传感器部和在薄膜密封层的第二薄膜密封区域上的第二传感器部，其中，薄膜密封层的面对触摸检测单元的上表面包括在第一薄膜密封区域中的第一上表面和在第二薄膜密封区域中并且远离基础层而突起的第二上表面。

触摸检测单元可以直接位于薄膜密封层上。

第一薄膜密封区域和第二薄膜密封区域可以在平面上与显示区域叠置，第二薄膜密封区域可以在平面上位于第一薄膜密封区域与非显示区域之间。

第二传感器部可以与第二上表面的形状对应地弯曲。

第一上表面与基础层之间的平均距离可以是第一距离，第二上表面与基础层之间的最大距离可以是比第一距离大的第二距离。

第二上表面与基础层之间的最小距离可以是比第一距离小的第三距离。

第一传感器部中的多个点之中的每个点与基础层之间的平均间距可以具有第一间距，第二传感器部中的多个点之中的每个点与基础层之间的平均距离可以基本等于第一间距。

薄膜密封层可以包括：第一无机层，在发光器件层上；第一有机层，在第一无机层上；以及第二无机层，在第一有机层上。

第一有机层的接触第二无机层的上表面可以包括：第一表面，在第一薄膜密封区域中；第二表面，在第二薄膜密封区域中并远离基础层而突出。

薄膜密封层还可以包括：第二有机层，在第二无机层上；以及第三无机层，在第二有机层上。

第一有机层和第二有机层中的至少一个的上表面可以包括：第一表面，在第一薄膜密封区域中；以及第二表面，在第二薄膜密封区域中并远离基础层而突出。

薄膜密封层还可以包括有机涂覆层，所述有机涂覆层在第二薄膜密封区域中并且位于第二无机层与第二传感器部之间，所述有机涂覆层包括远离基础层而突出的上表面。

第一传感器部和第二传感器部可以位于同一层上。

薄膜密封层的第二上表面可以包括：峰部，具有离所述基础层最远的距离；第一倾斜表面，连接第一上表面与峰部并且远离基础层延伸；以及第二倾斜表面，从峰部到基础层延伸。

第二薄膜密封区域可以在平面上围绕第一薄膜密封区域，峰部可以在平面上与第二传感器部叠置。

发明构思的实施例提供一种显示装置，该显示装置包括：基础层；电路层，位于基础层上；发光器件层，位于电路层上；薄膜密封层，位于发光器件层上，并且分为包括第一上表面的第一薄膜密封区域和包括第二上表面的第二薄膜密封区域，其中，第二上表面具有峰部，所述峰部在远离基础层的方向上从作为第一上表面的延伸的参考表面突起；第一传感器部，位于第一上表面上；第二传感器部，位于第二上表面上，与第二上表面的形状对应地弯曲并且与峰部叠置。

第二薄膜密封区域可以在平面上围绕第一薄膜密封区域。

第一上表面与基础层之间的平均距离可以是第一距离，峰部与基础层之间的距离可以是比第一距离大的第二距离，第二上表面与基础层之间的最小距离可以是比第一距离小的第三距离。

薄膜密封层可以包括至少一个有机层，第二上表面的形状可以与所述至少一个有机层对应。

第一传感器部和第二传感器部可以在同一层上。

发明构思的实施例提供一种显示装置，该显示装置包括：有机发光显示面板，限定了用于显示图像的显示区域和与显示区域相邻的非显示区域，有机发光显示面板包括：基础层；电路层，位于基础层上；发光器件层，位于电路层上；薄膜密封层，位于发光器件层上，并且分为第一薄膜密封区域和与第一薄膜密封区域相邻的第二薄膜密封区域；触摸检测单元，包括在第一薄膜密封区域和第二薄膜密封区域上的触摸电极，其中，第二薄膜密封区域包括具有距离基础层最远的距离的峰部，其中，在触摸电极之中最靠近非显示区域的外围触摸电极与峰部叠置。

触摸电极可以包括沿第一方向延伸并且沿着与第一方向交叉的第二方向顺序地布置的M个第一触摸电极以及沿第二方向延伸并且沿着第一方向顺序地布置的N个第二触摸电极，峰部可以与第一第一触摸电极和第M第一触摸电极叠置。

峰部可以与第一第二触摸电极和第N第二触摸电极叠置。

第一薄膜密封区域的面对触摸检测单元的上表面与基础层之间的平均距离可以是第一距离，峰部与基础层之间的距离可以比第一距离大。

薄膜密封层可以包括至少一个有机层，可以通过调整有机层的厚度来提供峰部。

附图说明

包括附图以提供对发明构思的进一步理解，并且附图并入该说明书中且组成该说明书的一部分。附图示出了发明构思的示例性实施例，并与说明一起用于解释发明构思的原理，在附图中：

图1A是根据依据发明构思的实施例的显示装置的第一操作的透视图；

图1B是根据依据发明构思的实施例的显示装置的第二操作的透视图；

图1C是根据依据发明构思的实施例的显示装置的第三操作的透视图；

图2是根据发明构思的实施例的显示装置的剖视图；

图3A和图3B是根据发明构思的实施例的显示装置的透视图；

图4是根据发明构思的实施例的显示装置的透视图；

图5A是根据发明构思的实施例的有机发光显示面板的平面图；

图5B是根据发明构思的实施例的显示模块的剖视图；

图6A是根据发明构思的实施例的像素的等效电路图；

图6B是根据发明构思的实施例的有机发光显示面板的一部分的剖视图；

图6C是根据发明构思的实施例的有机发光显示面板的一部分的剖视图；

图7A是根据发明构思的实施例的有机发光显示面板的一部分的剖视图；

图7B是根据发明构思的实施例的薄膜密封层的示意性平面图；

图7C是根据发明构思的实施例的薄膜密封层的示意性平面图；

图8A是沿图7B的线I-I'截取的剖视图；

图8B是沿图7B的线I-I'截取的剖视图；

图8C是沿图7B的线I-I'截取的剖视图；

图8D是沿图7B的线I-I'截取的剖视图；

图9A是图5B的区域AA的局部放大图；

图9B至图9E是根据发明构思的实施例的触摸检测单元的平面图；

图9F是图9E的区域BB的局部放大图；以及

图10是沿图9B的线II-II'截取的剖视图。

具体实施方式

通过参照下面对实施例和附图的详细描述，可以更容易地理解发明构思及实现该发明构思的方法的特征。在下文中，将参照附图来更详细地描述示例实施例，在附图中，同样的附图标记始终表示同样的元件。然而，本发明可以以各种不同的形式来实施，而不应被解释为仅受限于在这里示出的实施例。相反，提供这些实施例作为示例，使得该公开将是彻底的和完整的，并且将向本领域技术人员充分地传达本发明的多个方面的特征。因此，可以不描述对于本领域普通技术人员来说完全地理解本发明的多个方面和特征所不需要的工艺(过程)、元件和技术。除非另外注明，否则贯穿附图和说明书，同样的附图标记表示同样的元件，因此，将不重复对其的描述。在附图中，为了清楚，可以夸大元件、层和区域的相对尺寸。

将理解的是，尽管可以在这里使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应该受这些术语限制。这些术语用来将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分区分开。因此，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，下面描述的第一元件、组件、区域、层或部分可被命名为第二元件、组件、区域、层或部分。

出于说明的目的，在这里可以使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“下”、“在……下面”、“在……上方”、“上”等空间相对术语，来描述如附图中所示的一个元件或特征与另外的元件或特征的关系。将理解的是，空间相对术语意图包含除了图中描绘的方位之外装置在使用或操作中的不同方位。例如，如果图中的装置被翻转，则描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”或“下面”的元件随后将被定位“在”所述其它元件或特征“上方”。因此，示例术语“在……下方”和“在……下面”可包含上方和下方两种方位。装置可以被另外定位(例如，旋转90度或在其它方位)，并且应当相应地解释在这里使用的空间相对描述语。

将理解的是，当元件、层、区域或组件被称作“在”另一元件、层、区域或组件“上”、“连接到”或“结合到”另一元件、层、区域或组件时，该元件、层、区域或组件可直接在所述另一元件、层、区域或组件上、直接连接到或直接结合到所述另一元件、层、区域或组件，或者可以存在一个或更多个中间元件、层、区域或组件。另外，还将理解的是，当元件或层被称作“在(位于)”两个元件或层“之间”时，该元件或层可以是所述两个元件或层之间的唯一的元件或层，或者还可以存在一个或更多个中间元件或层。

在下面示例中，x轴、y轴和z轴不限于直角坐标系的三个轴，而是可以以较宽的含义来解释。例如，x轴、y轴和z轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。

在这里使用的术语是出于描述特定实施例的目的而不意图是限制本发明。如在这里使用的，除非上下文另有明确指示，否则单数形式“一个”、“一种”和“该(所述)”也意图包括复数形式。还将理解的是，术语“包括”和/或“包含”及其变型用在该说明书中时，说明存在陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组，但是不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。如在这里使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项目的任何和所有组合。当诸如“……中的至少一个(种/者)”的表述在一列元件之后时，修饰整列元件，而不是修饰该列的个别元件

如在这里使用的，术语“基本上”、“大约”和类似术语被用作近似的术语而不是程度的术语，并意图解释将被本领域普通技术人员所认识到的测量或计算值中的固有偏差。此外，当描述本发明的实施例使用“可以”时，表示“本发明的一个或更多个实施例”。如这里使用的，可以认为术语“使用”及其变型分别与术语“利用”及其变型同义。另外，术语“示例性”意图表示例子或例示。

当可以不同地实施某个实施例时，可以以与所描述的顺序不同的顺序来执行具体的工艺顺序。例如，两个连续描述的工艺可以基本同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行。

在这里描述的根据本发明的实施例的电子或电气装置和/或任何其它相关装置或组件可以利用任何合适的硬件、固件(例如，专用集成电路)、软件或者软件、固件和硬件的组合来实现。例如，这些装置的各种组件可以形成在一个集成电路(IC)芯片上或形成在多个独立的IC芯片上。此外，这些装置的各种组件可以在柔性印刷电路膜、载带封装(TCP)、印刷电路板(PCB)上实施或形成在一个基底上。此外，这些装置的各种组件可以是在一个或更多个计算装置中的一个或更多个处理器上运行的，执行计算机程序指令并且与用于执行在这里描述的各种功能的其它系统组件进行交互的进程或线程。计算机程序指令被存储在可以利用诸如以随机存储取存储器(RAM)为例的标准存储装置来在计算装置中实施的存储器中。计算机程序指令也可以被存储在诸如以CD-ROM或闪存驱动器等为例的其它非瞬时性计算机可读介质中。另外，本领域技术人员应认识到的是，在不脱离本发明的示例性实施例的精神和范围的情况下，各种计算装置的功能可以组合或集成在单个计算装置中，或者具体的计算装置的功能可以分布在一个或更多个其它计算装置中。

除非另外定义，否则在这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。除非在这里如此明确地定义，否则还将理解的是，诸如在通用字典中定义的术语应当被解释为具有与在相关领域的背景下的它们的含义一致的含义，而不将按理想化或过于形式化的形式来解释。

图1A是根据依据发明构思的实施例的显示装置DD的第一操作的透视图。图1B是根据依据发明构思的实施例的显示装置DD的第二操作的透视图。图1C是根据依据发明构思的实施例的显示装置DD的第三操作的透视图。

如图1A中所示，在第一操作模式中，显示图像IM的显示表面IS与第一方向DR1和第二方向DR2限定的表面平行。显示表面IS的法线方向(即，显示装置DD的厚度方向)表示第三方向DR3。每个构件的前表面(或上表面)和后表面(或下表面)相对于第三方向DR3分离开。然而，作为相对概念，第一至第三方向DR1、DR2和DR3表示的方向可以转换为其它方向。在下文中，作为由相应的第一至第三方向DR1、DR2和DR3表示的方向的第一方向至第三方向适用于相同的参考标号。

图1A至图1C示出了作为显示装置DD的一个示例的柔性可折叠显示装置。然而，发明构思可以涉及可卷曲显示装置或可弯曲显示装置，并且不受具体限制。另外，虽然柔性显示装置在该实施例中示出，但发明构思不限于此。根据该实施例的显示装置DD可以是平坦的刚性显示装置或弯曲的刚性显示装置。显示装置DD可以用于除了诸如电视机和监视器的大型电子装置之外的小型和中型的电子装置，诸如移动电话、平板电脑、汽车导航、游戏控制台和智能手表。

如图1A中所示，显示装置DD的显示表面IS可以包括多个区域。显示装置DD可以包括显示图像IM的显示区域DD-DA和与显示区域DD-DA相邻的非显示区域DD-NDA。非显示区域DD-NDA是不显示图像的区域。图1A示出了作为图像IM的一个示例的花瓶。作为一个示例，显示区域DD-DA可以具有矩形形状。非显示区域DD-NDA可以围绕显示区域DD-DA。然而，发明构思不限于此，可以相对地设计显示区域DD-DA的形状和非显示区域DD-NDA的形状。

如图1A至图1C中所示，显示装置DD可以包括根据操作形式定义的多个区域。显示装置DD可以包括可以基于弯曲轴BX弯曲的弯曲区域BA，并且还可以包括第一非弯曲区域NBA1和第二非弯曲区域NBA2。

如图1B中所示，显示装置DD可以是内弯曲/向内弯曲，以允许第一非弯曲区域NBA1的显示表面IS与第二非弯曲区域NBA2的显示表面IS彼此面对。如图1C中所示，显示装置DD可以是外弯曲/向外弯曲，以允许显示表面IS暴露到外部。

虽然在图1A至图1C中示出了仅一个弯曲区域BA，但发明构思不限于此。例如，根据发明构思的实施例，显示装置DD可以包括多个弯曲区域BA。

根据发明构思的实施例，显示装置DD可以被构造为仅以图1A和图1B中示出的操作模式来操作。然而，发明构思不限于此，弯曲区域BA可以与用户操控显示装置DD的形式对应。例如，与图1B和图1C不同，弯曲区域BA可以限定为平行于第一方向DR1，或者可以在其它实施例中限定在对角线方向上。弯曲区域BA的面积不固定，并且可以根据曲率半径来确定。

图2是根据发明构思的实施例的显示装置DD的剖视图。图2示出了第二方向DR2和第三方向DR3限定的截面。

如图2中所示，显示装置DD包括保护膜PM、显示模块DM、光学构件LM、窗口WM、第一粘合构件AM1、第二粘合构件AM2和第三粘合构件AM3。显示模块DM位于保护膜PM与光学构件LM之间。光学构件LM位于显示模块DM与窗口WM之间。第一粘合构件AM1将显示模块DM与保护膜PM结合，第二粘合构件AM2将显示模块DM与光学构件LM结合，第三粘合构件AM3将光学构件LM与窗口WM结合。

保护膜PM保护显示模块DM。保护膜PM提供暴露到外部的第一外表面OS-L，并且提供粘附到第一粘合构件AM1的粘合表面。保护膜PM防止外部湿气渗透显示模块DM并且吸收外部冲击。

保护膜PM可以包括塑料膜作为基础基底。保护膜PM可以包括具有从由聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、聚(亚芳基醚砜)和它们的组合组成的组中选择的一种材料的塑料膜。

构成保护膜PM的材料不限于塑料树脂，并且可以包括有机/无机复合材料。保护膜PM可以包括有机层和填充在多孔有机层的孔中的无机材料。保护膜PM还可以包括形成在塑料膜处的功能层。功能层可以包括树脂层。可以通过涂覆方法来形成功能层。根据发明构思的实施例，可以省略保护膜PM。

窗口WM可以保护显示模块DM免受外部冲击，并且向用户提供输入表面。窗口WM提供暴露到外部的第二外表面OS-U，并且提供了粘附到第三粘合构件AM3的粘合表面。在图1A至图1C中示出的显示表面IS可以是第二外表面OS-U。

窗口WM可以包括塑料膜。窗口WM可以具有多层结构。窗口WM可以具有从玻璃基底、塑料膜和塑料基底中选取的多层结构。窗口WM还可以包括边框图案。可以使用粘合层通过连续工艺或粘合工艺形成多层结构。

光学构件LM减少外部光反射率。光学构件LM可以包括至少偏光膜。光学构件LM还可以包括相位差膜。根据发明构思的实施例，可以省略光学构件LM。

显示模块DM可以包括有机发光显示面板(或显示面板)DP和触摸检测单元TS。触摸检测单元TS直接位于有机发光显示面板DP上。在该说明书中，“直接位于”意味着通过连续的工艺来“形成”，排除通过附加的粘合层来“附着”。

有机发光显示面板DP产生与输入的图像数据对应的图像IM(见图1A)。有机发光显示面板DP提供了在厚度方向DR3上面对的第一显示面板表面BS1-L和第二显示面板表面BS1-U。在该实施例中，虽然将有机发光显示面板DP作为示例来描述，但显示面板不限于此。

触摸检测单元TS获得外部输入的坐标信息。触摸检测单元TS可以通过电容法来检测外部输入。

虽然未单独示出，但根据发明构思的实施例的显示模块DM还可以包括抗反射层。抗反射层可以包括滤色器或导电层/绝缘层/导电层的层叠结构。抗反射层可以通过吸收、相消干涉或使从外部入射的光偏振来减少外部光反射率。抗反射层可以代替光学构件LM的功能。

第一粘合构件AM1、第二粘合构件AM2和第三粘合构件AM3中的每个可以是诸如光学透明粘合剂(OCA)膜、光学透明树脂(OCR)或者压敏粘合剂(PSA)膜的有机粘合层。有机粘合层可以包括诸如聚氨酯、聚丙烯酸、聚酯、聚环氧树脂和聚醋酸乙烯酯的粘合材料。

在其它实施例中，显示装置DD还可以包括用于支撑功能层以维持图1A至图1C中所示的状态的框架结构。框架结构可以包括铰接结构(articulated structure)或铰链结构(hinge structure)。

图3A和图3B是根据发明构思的实施例的显示装置DD-1的透视图。图3A示出了展开状态的显示装置DD-1，图3B示出了弯曲状态的显示装置DD-1。

显示装置DD-1可以包括一个弯曲区域BA和一个非弯曲区域NBA。显示装置DD-1的非显示区域DD-NDA可以弯曲。然而，根据发明构思的实施例，可以改变显示装置DD-1的弯曲区域。

与图1A至图1C中示出的显示装置DD不同，本实施例的显示装置DD-1可以以用于操作的一种形式来固定。如图3B中所示，显示装置DD-1可以以弯曲状态操作。显示装置DD-1可以以弯曲状态固定到框架处，框架可以结合到电子装置的外壳。

显示装置DD-1可以具有与图2中示出的截面结构相同的截面结构。然而，非弯曲区域NBA和弯曲区域BA可以具有不同的层叠结构。非弯曲区域NBA可以具有与图2中示出的截面结构相同的截面结构，弯曲区域BA可以具有与图2中所示的截面结构不同的截面结构。光学构件LM和窗口WM可以从弯曲区域BA省略。即，光学构件LM和窗口WM可以仅位于非弯曲区域NBA中。第二粘合构件AM2和第三粘合构件AM3也可以从弯曲区域BA省略。

图4是根据发明构思的实施例的显示装置DD-2的透视图。

显示装置DD-2包括显示主图像的非弯曲区域(或平坦区域)NBA作为前表面，并且包括显示子图像的弯曲区域(或侧区域)BA作为侧表面。例如，子图像可以包括用于提供信息的图标。根据本实施例，术语“非弯曲区域NBA”和术语“弯曲区域BA”通过使用多个被划分的区域来限定显示装置DD-2。

根据本实施例，将包括从非弯曲区域NBA的一侧弯曲的一个弯曲区域BA的显示装置DD-2作为示例示出。根据发明构思的实施例，显示装置DD-2可以包括在非弯曲区域NBA的各个侧边处弯曲的两个弯曲区域。

从非弯曲区域NBA弯曲的弯曲区域BA在与第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3相交的第四方向DR4上显示子图像。然而，作为相对概念，第一方向DR1至第四方向DR4表示的方向可以转换为其它方向。

图5A是根据发明构思的实施例的有机发光显示面板DP的平面图，图5B是根据发明构思的实施例的显示模块DM的剖视图。

如图5A中所示，有机发光显示面板DP包括在平面上的显示区域DA和非显示区域NDA。有机发光显示面板DP的显示区域DA和非显示区域NDA分别与显示装置DD(见图1A)的显示区域DD-DA和非显示区域DD-NDA对应。有机发光显示面板DP的显示区域DA和非显示区域NDA可不等同于显示装置DD(见图1A)的显示区域DD-DA见图1A)和非显示区域DD-NDA见图1A)，并且可以根据有机发光显示面板DP的结构/设计而改变。

有机发光显示面板DP包括多个像素PX。可以将多个像素PX所位于的区域限定为显示区域DA。在该实施例中，可以沿显示区域DA的轮廓/周长来限定非显示区域NDA。

有机发光显示面板DP包括栅极线GL、数据线DL、发光线EL、控制信号线SL-D、初始化电压线SL-Vint、电压线SL-VDD和焊盘部PD。

栅极线GL分别连接到多个像素PX之中对应的像素PX，数据线DL分别连接到多个像素PX之中对应的像素PX。每条发光线EL可以与栅极线GL之中对应的栅极线GL平行地设置。控制信号线SL-D可以将控制信号提供到栅极驱动电路GDC。初始化电压线SL-Vint可以将初始化电压提供到多个像素PX。电压线SL-VDD可以连接到多个像素PX，并且可以将第一电压提供到多个像素PX。电压线SL-VDD可以包括在第一方向DR1上延伸的多条线和在第二方向DR2上延伸的多条线。

连接栅极线GL和发光线EL的栅极驱动电路GDC可以位于非显示区域NDA的一侧处。栅极线GL、数据线DL、发光线EL、控制信号线SL-D、初始化电压线SL-Vint和电压线SL-VDD中的一些位于同一层处，且它们中的一些位于其它层处。

焊盘部PD可以连接到数据线DL、控制信号线SL-D、初始化电压线SL-Vint和电压线SL-VDD的端部。

如图5B中所示，有机发光显示面板DP包括基础层SUB、位于基础层SUB上的电路层DP-CL、发光器件层DP-OLED和薄膜密封层TFE。

基础层SUB可以包括至少一个塑料膜。基础层SUB可以包括塑料基底、玻璃基底、金属基底或者作为柔性基底的有机/无机复合材料基底。塑料基底可以包括丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、聚异戊二烯树脂、乙烯树脂、环氧树脂、尿烷树脂、纤维素树脂、硅氧烷类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂和苝类树脂中的至少一种。

电路层DP-CL可以包括多个绝缘层、多个导电层和半导体层。电路层DP-CL的多个导电层可以构成像素的信号线或控制电路。

发光器件层DP-OLED包括有机发光二极管。

薄膜密封层TFE密封发光器件层DP-OLED。薄膜密封层TFE包括多个无机层和位于多个无机层之间的至少一个有机层。无机层保护发光器件层DP-OLED免受湿气/氧的影响，有机层保护发光器件层DP-OLED免受诸如尘粒的异物的影响。在发明构思中，触摸检测单元TS通过调整有机层的厚度来提供基本均匀的触摸敏感度。随后将对其进行详细描述。

触摸检测单元TS位于薄膜密封层TFE上。触摸检测单元TS包括触摸传感器和触摸信号线。触摸传感器和触摸信号线可以具有单层或多层结构。

触摸传感器和触摸信号线可以包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锡锌(ITZO)、PEDOT、金属纳米线或石墨烯。触摸传感器和触摸信号线可以包括例如钼、银、钛、铜、铝或它们的合金的金属层。触摸传感器和触摸信号线可以具有相同或不同的层结构。随后将描述关于触摸检测单元TS的具体内容。

图6A是根据发明构思的实施例的像素PX的等效电路图。

图6A示出了连接到多条数据线DL(见图5A)之中的第k数据线DLk的第i像素PXi的示例。

第i像素PXi包括有机发光二极管OLED，并且包括用于控制有机发光二极管OLED的像素驱动电路。像素驱动电路可以包括七个薄膜晶体管T1至T7以及一个电容器Cst。

驱动晶体管/第二晶体管T2控制供应到有机发光二极管OLED的驱动电流。第二晶体管T2的输出电极电连接到有机发光二极管OLED。第二晶体管T2的输出电极可以直接接触有机发光二极管OLED的阳极，或者可以通过另一晶体管(例如，在本实施例中的第六晶体管T6)连接到有机发光二极管OLED的阳极。

控制晶体管的控制电极可以接收控制信号。施加到第i像素PXi的控制信号可以包括第i-1栅极信号Si-1、第i栅极信号Si、第i+1栅极信号Si+1、数据信号Dk和第i发光控制信号Ei。根据发明构思的实施例，控制晶体管可以包括第一晶体管T1和第三晶体管T3至第七晶体管T7。

第一晶体管T1包括连接到第k数据线DLk的输入电极、连接到第i栅极线GLi的控制电极和连接到第二晶体管T2的输出电极的输出电极。第一晶体管T1通过施加到第i栅极线GLi的栅极信号Si(在下文中被称作第i栅极信号)来导通，并且将施加到第k数据线DLk的数据信号Dk提供到电容器Cst。

图6B是根据发明构思的实施例的有机发光显示面板的一部分的剖视图。图6C是根据发明构思的实施例的有机发光显示面板的一部分的剖视图。详细地，图6B是与图6A中示出的等效电路图的第一晶体管T1对应的部分的剖视图。图6C是与图6A中示出的等效电路图的第二晶体管T2、第六晶体管T6和有机发光二极管OLED对应的部分的剖视图。

参照图6B和图6C，缓冲层BFL可以位于基础层SUB上。缓冲层BFL改善了基础层SUB和导电图案或半导体图案的结合强度。缓冲层BFL可以包括无机层。在一些实施例中，用于防止异物进入的阻挡层还可以位于基础层SUB的上表面上。可以选择性地设置或省略缓冲层BFL和阻挡层。

第一晶体管T1的半导体图案OSP1(在下文中被称作第一半导体图案)、第二晶体管T2的半导体图案OSP2(在下文中被称作第二半导体图案)和第六晶体管T6的半导体图案OSP6(在下文中被称作第六半导体图案)位于缓冲层BFL上。第一半导体图案OSP1、第二半导体图案OSP2和第六半导体图案OSP6可以从非晶硅、多晶硅和金属氧化物半导体中选取。

第一绝缘层10可以位于第一半导体图案OSP1、第二半导体图案OSP2和第六半导体图案OSP6上。虽然在图6B和图6C中示出了第一绝缘层10覆盖第一半导体图案OSP1、第二半导体图案OSP2和第六半导体图案OSP6，但在其它实施例中，第一绝缘层10可以提供为与第一半导体图案OSP1、第二半导体图案OSP2和第六半导体图案OSP6对应设置的图案。

第一绝缘层10可以包括多个无机薄层。多个无机薄层可以包括氮化硅层、氮氧化硅层和氧化硅层。

第一晶体管T1的控制电极GE1(在下文中被称作第一控制电极)、第二晶体管T2的控制电极GE2(在下文中被称作第二控制电极)和第六晶体管T6的控制电极GE6(在下文中被称作第六控制电极)位于第一绝缘层10上。第一控制电极GE1、第二控制电极GE2和第六控制电极GE6可以与栅极线GL(见图5A)根据同一光刻工艺来制造。

用于覆盖第一控制电极GE1、第二控制电极GE2和第六控制电极GE6的第二绝缘层20可以位于第一绝缘层10上。第二绝缘层20可以提供平坦的、平的上表面。第二绝缘层20可以包括有机材料和/或无机材料。

第一晶体管T1的输入电极SE1(在下文中被称作第一输入电极)和输出电极DE1(在下文中被称作第一输出电极)、第二晶体管T2的输入电极SE2(在下文中被称作第二输入电极)和输出电极DE2(在下文中被称作第二输出电极)和第六晶体管T6的输入电极SE6(在下文中被称作第六输入电极)和输出电极DE6(在下文中被称作第六输出电极)位于第二绝缘层20上。

第一输入电极SE1和第一输出电极DE1中的每个通过穿透第一绝缘层10和第二绝缘层20的第一穿孔CH1和第二穿孔CH2中相应的一个来连接到第一半导体图案OSP1。第二输入电极SE2和第二输出电极DE2中的每个通过穿透第一绝缘层10和第二绝缘层20的第三穿孔CH3和第四穿孔CH4中相应的一个来连接到第二半导体图案OSP2。第六输入电极SE6和第六输出电极DE6中的每个通过穿透第一绝缘层10和第二绝缘层20的第五穿孔CH5和第六穿孔CH6中相应的一个来连接到第六半导体图案OSP6。在另一个方面，根据发明构思的另一实施例，第一晶体管T1、第二晶体管T2和第六晶体管T6中的一些可以修改为底栅结构并且实施。

用于覆盖第一输入电极SE1、第二输入电极SE2、第六输入电极SE6、第一输出电极DE1、第二输出电极DE2和第六输出电极DE6的第三绝缘层30位于第二绝缘层20上。第三绝缘层30可以包括有机层和/或无机层。特别地，第三绝缘层30可以包括用于提供平坦表面的有机材料。

第一绝缘层10、第二绝缘层20和第三绝缘层30中的一个可以根据像素的电路结构而省略。第二绝缘层20和第三绝缘层30中的每个可以限定为层间绝缘层。层间绝缘层位于在以该层间绝缘层为基础的下部处的导电图案与上部处的导电图案之间以使导电图案绝缘。

像素限定层PDL和有机发光二极管OLED位于第三绝缘层30上。阳极AE位于第三绝缘层30上。阳极AE通过穿透第三绝缘层30的第七穿孔CH7连接到第六输出电极DE6。开口部OP限定在像素限定层PDL中。像素限定层PDL的开口部OP使阳极AE的至少一部分暴露。

像素PX可以位于平面上的像素区域中。像素区域可以包括发光区域PXA，并且可以包括与发光区域PXA相邻的非发光区域NPXA。非发光区域NPXA可以围绕发光区域PXA。根据本实施例，对应于阳极AE的通过开口部OP暴露的局部区域来限定发光区域PXA。

空穴控制层HCL可以公共地位于发光区域PXA和非发光区域NPXA中。在一些实施例中，诸如空穴控制层HCL的公共层可以公共地形成在多个像素PX中(见图5A)。

有机发光层EML位于空穴控制层HCL上。有机发光层EML可以位于与开口部OP对应的区域中。即，有机发光层EML可以划分到并且形成在多个像素PX中的每个处。虽然根据该实施例示出了图案化的有机发光层EML，但有机发光层EML可以公共地位于多个像素PX处。此时，有机发光层EML可以产生白光。此外，有机发光层EML可以具有多层结构。

电子控制层ECL位于有机发光层EML上。在一些实施例中，电子控制层ECL可以公共地形成在多个像素PX处(见图5A)。

阴极CE位于电子控制层ECL上。阴极CE公共地位于多个像素PX处。

薄膜密封层TFE位于阴极CE上。薄膜密封层TFE公共地位于多个像素PX处。薄膜密封层TFE包括至少一个无机层和至少一个有机层。薄膜密封层TFE可以包括交替地堆叠的多个无机层和多个有机层。

根据本实施例，薄膜密封层TFE直接覆盖阴极CE。根据发明构思的实施例，用于覆盖阴极CE的覆盖层还可以位于薄膜密封层TFE与阴极CE之间。此时，薄膜密封层TFE可以直接覆盖覆盖层。

图7A是根据发明构思的实施例的有机发光显示面板DP的局部剖视图。更详细地，图7A是图5B的有机发光显示面板DP的显示区域DA的放大的剖视图。

参照图7A，薄膜密封层TFE可以分为第一薄膜密封区域TFA1和第二薄膜密封区域TFA2。

薄膜密封层TFE的面对触摸检测单元TS(见图5B)的上表面TFE-U可以包括位于第一薄膜密封区域TFA1中的第一上表面TFE-U1和位于第二薄膜密封区域TFA2中的第二上表面TFE-U2。

第一上表面TFE-U1可以平行于基础层SUB。例如，第一上表面TFE-U1可以与基础层SUB的上表面平行。如果有机发光显示面板DP具有平坦的形状，则第一上表面TFE-U1和基础层SUB两者可以具有平坦的形状。此外，如果有机发光显示面板DP沿着预定方向弯曲，则第一上表面TFE-U1和基础层SUB两者可以具有沿着该预定方向弯曲的形状。

如在该说明书中描述的，“平行”不仅意味着字典的含义(即，无论两条线延伸多长，它们都不会彼此相交)。例如，第一上表面TFE-U1可以具有不平坦的上表面。更详细地，在一个截面上限定以字典的含义平行于基础层SUB的参考表面。第一上表面TFE-U1可以在参考表面的基础上关于第三方向DR3振动(例如，具有波/波纹)，该振动(波/波纹)可以沿着参考表面延伸。第一上表面TFE-U1与基础层SUB之间的距离和参考表面与基础层SUB之间的距离之间的差可以是0到一些误差范围。误差范围可以是几百纳米或更小。

第二上表面TFE-U2可以在渐渐远离基础层SUB的方向(例如，第三方向DR3)上凸起地突出。更详细地，第二上表面TFE-U2可以在渐渐远离基础层SUB的方向(例如，第三方向DR3)上从自第一上表面TFE-U1延伸的参考表面RL突出。

第一上表面TFE-U1与基础层SUB之间的距离可以是第一距离DT1。例如，因为第一上表面TFE-U1平行于基础层SUB，所以第一上表面TFE-U1上的每个点与基础层SUB之间的距离可以在误差范围之内基本上相等。例如，预定的误差范围可以是几百纳米或更小。更详细地，误差范围可以在500纳米以下。

如在该说明书中使用的，“距离”意味着在与有机发光显示面板DP的厚度方向平行的方向上测量的距离。例如，当有机发光显示面板DP是平坦的时，“距离”可以是与第三方向DR3平行的距离。此外，当有机发光显示面板DP是弯曲的时，“距离”可以是沿着与弯曲表面的在测量点处的切线垂直的法线方向测量的距离。

第二上表面TFE-U2与基础层SUB之间的距离可以具有在大于第一距离DT1的第二距离DT2至小于第一距离DT1的第三距离DT3的范围内的各种距离。即，第二上表面TFE-U2与基础层SUB之间的最大距离是第二距离DT2，第二上表面TFE-U2与基础层SUB之间的最小距离是第三距离DT3。

第二上表面TFE-U2可以包括峰部PK、第一倾斜表面IS1和第二倾斜表面IS2。峰部PK可以被限定为第二上表面TFE-U2中与基础层SUB分隔开第二距离DT2的区域。即，峰部PK可以是具有距离基础层SUB最远距离(例如，第二距离DT2)的区域。第一倾斜表面IS1可以在渐渐远离基础层SUB的方向上延伸，并且可以连接第一上表面TFE-U1和峰部PK。第二倾斜表面IS2可以从峰部PK到基础层SUB延伸。

在该实施例中，术语“第一薄膜密封区域TFA1和第二薄膜密封区域TFA2”限定了具有通过其上表面的形状而分开的多个区域的薄膜密封层TFE。第一薄膜密封区域TFA1和第二薄膜密封区域TFA2可以限定在除了由第一方向DR1和第二方向DR2限定的平面之外的截面上。即，第一薄膜密封区域TFA1和第二薄膜密封区域TFA2可以是在三维上限定的区域。

图7B是根据发明构思的实施例的薄膜密封层TFE的示意性平面图。更详细地，图7B示出了在从厚度方向上观察时第一薄膜密封区域TFA1、第二薄膜密封区域TFA2、显示区域DA和非显示区域NDA的关系。

第一薄膜密封区域TFA1和第二薄膜密封区域TFA2可以在平面上与显示区域DA叠置。在平面上，第一薄膜密封区域TFA1可以被第二薄膜密封区域TFA2围绕。因此，第二薄膜密封区域TFA2可以位于非显示区域NDA与第一薄膜密封区域TFA1之间。

图7C是根据发明构思的实施例的薄膜密封层TFEa的示意性平面图。当比较图7C和图7B时，不同之处在于第一薄膜密封区域TFA1和第二薄膜密封区域TFA2的位置关系。

参照图7C，第二薄膜密封区域TFA2a可以位于第一薄膜密封区域TFA1a的两侧处。例如，如图7C所示，第二薄膜密封区域TFA2a的第一部分、第一薄膜密封区域TFA1a和第二薄膜密封区域TFA2a的第二部分可以沿第二方向DR2顺序地布置。

第一薄膜密封区域TFA1a和第二薄膜密封区域TFA2a的布置关系不限于如上所述的图7B和图7C中示出的实施例。例如，第二薄膜密封区域TFA2a可以位于第一薄膜密封区域TFA1a的仅一侧处，或者可以位于第一薄膜密封区域TFA1a的三侧处。

图8A是沿图7B的线I-I'截取的剖视图。

参照图8A，薄膜密封层TFE可以包括第一无机层IOL1、第二无机层IOL2和第一有机层OL1。

第一无机层IOL1可以位于阴极CE(见图6C)上。第一有机层OL1可以位于第一无机层IOL1上。第二无机层IOL2可以位于第一有机层OL1上。

第一无机层IOL1和第二无机层IOL2可以是包括一种材料的单层或包括各不相同的材料的多层。第一有机层OL1可以包括包含单体的聚合物。可以使用喷墨打印方法或者可以通过涂覆包含丙烯酸单体的化合物来形成第一有机层OL1。薄膜密封层TFE的第二上表面TFE-U2的形状可以由第一有机层OL1提供。第一有机层OL1可以包括下表面OL1-B和上表面OL1-U。第一有机层OL1的下表面OL1-B是接触第一无机层IOL1的表面，第一有机层OL1的上表面OL1-U是接触第二无机层IOL2的表面。第一有机层OL1的下表面OL1-B可以具有与第一无机层IOL1的形状对应的形状。

第一有机层OL1的上表面OL1-U可以包括第一表面OL1-U1和第二表面OL1-U2。第一表面OL1-U1可以位于第一薄膜密封区域TFA1中并且与基础层SUB(见图7A)平行。第二表面OL1-U2可以位于第二薄膜密封区域TFA2中，并且可以在渐渐远离基础层SUB(见图7A)的方向上突出。可以通过调整在第二薄膜密封区域TFA2中打印的包含单体的化合物的量或者通过调整打印时间来形成第二表面OL1-U2。

图8B和图8C是沿图7B的线I-I'截取的剖视图。

参照图8B和图8C，薄膜密封层TFE-1和薄膜密封层TFE-2中的每个可以包括第一无机层IOL1、第二无机层IOL2、第三无机层IOL3、第一有机层OL1和第二有机层OL2。

第一无机层IOL1可以位于阴极CE(见图6C)上。第一有机层OL1可以位于第一无机层IOL1上。第二无机层IOL2可以位于第一有机层OL1上。第二有机层OL2可以位于第二无机层IOL2上。第三无机层IOL3可以位于第二有机层OL2上。

第一有机层OL1和第二有机层OL2中的至少一个的上表面可以包括位于第一薄膜密封区域TFA1中并且与基础层SUB(见图7A)平行的第一表面以及位于第二薄膜密封区域TFA2中并且在渐渐远离基础层SUB(见图7A)的方向上突出的第二表面。

如图8B中所示，薄膜密封层TFE-1的第二有机层OL2包括上表面OL2-U。上表面OL2-U可以包括位于第一薄膜密封区域TFA1中并且与基础层SUB(见图7A)平行的第一表面OL2-U1以及位于第二薄膜密封区域TFA2中并且在渐渐远离基础层SUB(见图7A)的方向上突出的第二表面OL2-U2。

如图8C中所示，薄膜密封层TFE-2的第一有机层OL1包括上表面OL1-U。上表面OL1-U可以包括位于第一薄膜密封区域TFA1中并且与基础层SUB(见图7A)平行的第一表面OL1-U1以及位于第二薄膜密封区域TFA2中并且在渐渐远离基础层SUB(见图7A)的方向上突出的第二表面OL1-U2。

薄膜密封层TFE-2的第二有机层OL2包括上表面OL2-U。上表面OL2-U可以包括位于第一薄膜密封区域TFA1中并且与基础层SUB(见图7A)平行的第一表面OL2-U1以及位于第二薄膜密封区域TFA2中并且在渐渐远离基础层SUB(见图7A)的方向上突出的第二表面OL2-U2。

当薄膜密封层包括多个有机层时，可以通过调整多个有机层之中的一个有机层的厚度或者多个有机层之中的两个或更多个有机层的厚度来控制薄膜密封层的上表面的形状。

虽然在图8B和图8C中示出了薄膜密封层包括三个无机层和两个有机层，当发明构思不限于此。例如，薄膜密封层可以包括三个或更多个无机层和两个或更多个有机层，并且可以交替地设置有机层和无机层。有机层的平均厚度可以比无机层的平均厚度大。

图8D是沿图7B的线I-I'截取的剖视图。

参照图8D，薄膜密封层TFE-3可以包括第一无机层IOL1、第二无机层IOL2、第一有机层OL1和有机涂覆层OC。

第一无机层IOL1可以位于阴极CE(见图6C)上。第一有机层OL1可以位于第一无机层IOL1上。第二无机层IOL2可以位于第一有机层OL1上。有机涂覆层OC可以位于第二无机层IOL2上。

有机涂覆层OC可以包括在渐渐远离基础层SUB(见图7A)的方向上突出的上表面。虽然在该实施例中示例性地示出了有机涂覆层OC仅位于第二薄膜密封区域TFA2上，但发明构思不限于此。例如，有机涂覆层OC可以位于第一薄膜密封区域TFA1和第二薄膜密封区域TFA2中。

图9A是图5B的区域AA的局部放大图。图9B至图9E是根据发明构思的实施例的触摸检测单元TS的平面图。

如图9A中所示，触摸检测单元TS包括第一导电层TS-CL1、第一绝缘层TS-IL1(在下文中被称作第一触摸绝缘层)、第二导电层TS-CL2和第二绝缘层TS-IL2(在下文中被称作第二触摸绝缘层)。第一导电层TS-CL1位于薄膜密封层TFE上。触摸检测单元TS可以在部分区域中与薄膜密封层TFE的上表面TFE-U的形状对应地具有弯曲形状。

第一导电层TS-CL1和第二导电层TS-CL2中的每个可以包括单层结构或者沿第三方向DR3堆叠的多层结构。多层结构的导电层可以包括多个透明导电层和多个金属层中的至少两个。多层结构的导电层可以包括具有不同金属的金属层。透明导电层可以包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟锡锌(ITZO)、PEDOT、金属纳米线或石墨烯。金属层可以包括银、钛、铜、铝或它们的合金。

第一导电层TS-CL1和第二导电层TS-CL2中的每个包括多个图案。在下文中，第一导电层TS-CL1包括第一导电图案，第二导电层TS-CL2包括第二导电图案。第一导电图案和第二导电图案中的每个可以包括触摸电极和触摸信号线。

第一触摸绝缘层TS-IL1和第二触摸绝缘层TS-IL2中的每个可以具有单层或多层结构。第一触摸绝缘层TS-IL1和第二触摸绝缘层TS-IL2中的每个可以包括无机层和有机层中的至少一种。

第一触摸绝缘层TS-IL1使第一导电层TS-CL1和第二导电层TS-CL2绝缘即可，第一触摸绝缘层TS-IL1的形状不受限制。根据第一导电图案和第二导电图案的形状，可以改变第一触摸绝缘层TS-IL1的形状。第一触摸绝缘层TS-IL1可以完全覆盖薄膜密封层TFE或者可以包括多个绝缘图案。多个绝缘图案与随后描述的第一连接部CP1或第二连接部CP2叠置即可。

虽然在本实施例中示出了两层/多层触摸检测单元，但发明构思不限于此。单层触摸检测单元包括导电层和用于覆盖导电层的绝缘层。导电层包括触摸传感器和连接到触摸传感器的触摸信号线。单层触摸检测单元可以通过自电容方法获得坐标信息。

如图9B中所示，触摸检测单元TS可以包括第一触摸电极TE1-1至TE1-4、连接到第一触摸电极TE1-1至TE1-4的第一触摸信号线SL1-1至SL1-4、第二触摸电极TE2-1至TE2-5、连接到第二触摸电极TE2-1至TE2-5的第二触摸信号线SL2-1至SL2-5以及连接到第一触摸信号线SL1-1至SL1-4和第二触摸信号线SL2-1至SL2-5的焊盘部PADa。

第一触摸电极TE1-1至TE1-4中的每个可以沿第一方向DR1延伸并且可以沿第二方向DR2布置，第二触摸电极TE2-1至TE2-5中的每个可以沿第二方向DR2延伸并且可以沿第一方向DR1布置。

虽然在图9B的实施例中示出了包括四个第一触摸电极TE1-1至TE1-4和五个第二触摸电极TE2-1至TE2-5的触摸检测单元TS，但是发明构思不限于此。例如，M(M是1或更大的整数)个第一触摸电极可以沿第二方向DR2顺序地布置，N(N是1或更大的整数)个第二触摸电极可以沿第一方向DR1顺序地布置。

在图9B中，第一触摸电极中的第一个可以是第一触摸电极TE1-1，第M个第一触摸电极可以是第一触摸电极TE1-M。此外，第二触摸电极中的第一个可以是第二触摸电极TE2-1，第N个第二触摸电极可以是第二触摸电极TE2-N。

第一触摸电极TE1-1至TE1-4中的每个可以具有限定多个触摸开口部的网格形状。第一触摸电极TE1-1至TE1-4中的每个包括多个第一触摸传感器部SP1和多个第一连接部CP1。第一触摸传感器部SP1沿着第一方向DR1布置。每个第一连接部CP1将第一触摸传感器部SP1之中相邻的两个第一触摸传感器部SP1连接。虽然未在附图中单独示出，但第一触摸信号线SL1-1至SL1-4也可以具有网格形状。

第二触摸电极TE2-1至TE2-5与第一触摸电极TE1-1至TE1-4绝缘地交叉。第二触摸电极TE2-1至TE2-5中的每个可以具有限定多个触摸开口部的网格形状。第二触摸电极TE2-1至TE2-5中的每个包括多个第二触摸传感器部SP2和多个第二连接部CP2。第二触摸传感器部SP2沿第二方向DR2布置。每个第二连接部CP2将第二触摸传感器部SP2之中一对相邻的第二触摸传感器部SP2连接。第二触摸信号线SL2-1至SL2-5也可以具有网格形状。

第一触摸电极TE1-1至TE1-4静电结合到第二触摸电极TE2-1至TE2-5。当触摸检测信号施加到第一触摸电极TE1-1至TE1-4时，在第一触摸传感器部SP1与第二触摸传感器部SP2之间形成电容器。

多个第一触摸传感器部SP1、多个第一连接部CP1、第一触摸信号线SL1-1至SL1-4、多个第二触摸传感器部SP2、多个第二连接部CP2和第二触摸信号线SL2-1至SL2-5中的一部分可以通过使图6A中示出的第一导电层TS-CL1图案化来形成，其它部分可以通过使图6A中示出的第二导电层TS-CL2图案化来形成。

第一触摸传感器部SP1和第二触摸传感器部SP2中的每个可以限定为第一传感器部SP-C或第二传感器部SP-S。根据触摸传感器部所位于的位置来限定术语“第一传感器部SP-C和第二传感器部SP-S”。

在第一触摸传感器部SP1之中，在平面上与第一薄膜密封区域TFA1叠置的触摸传感器部可以限定为第一传感器部SP-C。在第一触摸传感器部SP1之中，在平面上与第二薄膜密封区域TFA2叠置的传感器部可以限定为第二传感器部SP-S。此外，在第二触摸传感器部SP2之中，在平面上与第一薄膜密封区域TFA1叠置的触摸传感器部可以限定为第一传感器部SP-C，在平面上与第二薄膜密封区域TFA2叠置的触摸传感器部可以限定为第二传感器部SP-S。即，第一传感器部SP-C和第二传感器部SP-S根据触摸传感器部的位置来分类。

参照图9B，可以将平面上(外围上)位于最外部处的构成第一触摸电极TE1-1和TE1-4中的两个第一触摸电极的第一触摸传感器部SP1限定为第二传感器部SP-S。此外，可以将平面上(外围上)位于最外部处的构成第二触摸电极TE2-1和TE2-5中的两个第二触摸电极的第二触摸传感器部SP2限定为第二传感器部SP-S。

第一触摸电极TE1-1至TE1-4之中的两个第一触摸电极TE1-1和TE1-4可以在平面上最靠近非显示区域NDA。此外，第二触摸电极TE2-1至TE2-5之中的两个第二触摸电极TE2-1和TE2-5可以在平面上最靠近非显示区域NDA。两个第一触摸电极TE1-1和TE1-4以及两个第二触摸电极TE2-1和TE2-5可以限定为外围触摸电极。

外围触摸电极中的一些可以在平面上与峰部PK(见图7A)叠置。例如，如图7B中所示，当第二薄膜密封区域TFA2围绕第一薄膜密封区域TFA1的所有侧边时，四个外围触摸电极TE1-1、TE1-4、TE2-1和TE2-5可以与峰部PK(见图7A)叠置。此外，如图7C中所示，当第二薄膜密封区域TFA2围绕第一薄膜密封区域TFA1的仅两侧时，两个外围触摸电极TE1-1和TE1-4可以与峰部PK(见图7A)叠置。

为了电连接位于另一层上的导电图案，可以形成图9A中示出的穿透第一触摸绝缘层TS-IL1的接触孔。在下文中，参照图9C至图9E描述根据发明构思的实施例的触摸检测单元TS。

如图9C中所示，第一导电图案位于薄膜密封层TFE上。第一导电图案可以包括桥接图案CP2。桥接图案CP2位于薄膜密封层TFE上。桥接图案CP2与图9B中示出的第二连接部CP2对应。

如图9D中所示，用于覆盖桥接图案CP2的第一触摸绝缘层TS-IL1位于薄膜密封层TFE上。用于部分地暴露桥接图案CP2的接触孔CH限定在第一触摸绝缘层TS-IL1中。接触孔CH可以通过光刻工艺来形成。

如图9E中所示，第二导电图案位于第一触摸绝缘层TS-IL1上。第二导电图案可以包括多个第一触摸传感器部SP1、多个第一连接部CP1和第一触摸信号线SL1-1至SL1-4，并且还可以包括多个第二触摸传感器部SP2和第二触摸信号线SL2-1至SL2-5。在一些实施例中，用于覆盖第二导电图案的第二触摸绝缘层TS-IL2位于第一触摸绝缘层TS-IL1上。

根据发明构思的另一实施例，第一导电图案可以包括第一触摸电极TE1-1至TE1-4和第一触摸信号线SL1-1至SL1-4。第二导电图案可以包括第二触摸电极TE2-1至TE2-5和第二触摸信号线SL2-1至SL2-5。此时，接触孔CH未限定在第一触摸绝缘层TS-IL1中。

另外，根据发明构思的实施例，第一导电图案和第二导电图案可以互换。即，第二导电图案可以包括桥接图案CP2。

图9F是图9E的区域BB的局部放大图。

如图9F所示，第一触摸传感器部SP1与非发光区域NPXA叠置。第一触摸传感器部SP1包括在与第一方向DR1和第二方向DR2相交的第五方向DR5上延伸的多个第一延伸部SP1-A，并且还包括在与第五方向DR5相交的第六方向DR6上延伸的多个第二延伸部SP1-B。多个第一延伸部SP1-A和多个第二延伸部SP1-B可以由网格线限定。网格线的线宽可以为几微米。

多个第一延伸部SP1-A和多个第二延伸部SP1-B彼此连接以形成多个触摸开口部TS-OP。即，第一触摸传感器部SP1具有包括多个触摸开口部TS-OP的网格形状。虽然示出了每个开口部TS-OP分别对应于发光区域PXA中的一个，但发明构思不限于此。例如，一个触摸开口部TS-OP可以对应于两个或更多个发光区域PXA。

发光区域PXA的尺寸可以不同。例如，在发光区域PXA之中用于提供蓝光的发光区域PXA和用于提供红光的发光区域PXA的尺寸可以不同。因此，触摸开口部TS-OP的尺寸也可以不同。虽然在图9F中示出了发光区域PXA的尺寸不同，但发明构思不限于此。发光区域PXA的尺寸可以彼此相等，触摸开口部TS-OP的尺寸也可以彼此相等。

图10是沿图9B的线II-II'截取的剖视图。

参照图10，它示出了位于薄膜密封层TFE上的一个第一传感器部SP-C和位于薄膜密封层TFE上的一个第二传感器部SP-S的截面。第一传感器部SP-C可以位于薄膜密封层TFE的第一薄膜密封区域TFA1上，第二传感器部SP-S可以位于薄膜密封层TFE的第二薄膜密封区域TFA2上。第一传感器部SP-C可以具有与薄膜密封层TFE的第一上表面TFE-U1的形状相对应的形状，第二传感器部SP-S可以具有与薄膜密封层TFE的第二上表面TFE-U2的形状相对应的形状。即，第二传感器部SP-S可以对应于第二上表面TFE-U2的形状而弯曲。

第二薄膜密封区域TFA2在第二方向DR2上的宽度可以等于一个第二传感器部SP-S在第二方向DR2上的宽度。例如，第二薄膜密封区域TFA2在第二方向DR2上的宽度可以是4μm，一个第二传感器部SP-S在第二方向DR2上的宽度可以为4μm。然而，发明构思不限于此。

第二薄膜密封区域TFA2的峰部PK可以在平面上与第二传感器部SP-S叠置。峰部PK的位置可以在平面上与第二传感器部SP-S叠置的区域中进行调整。

第一传感器部SP-C中的每个点与基础层SUB之间的间距可以是第一间距SD1。因为第一上表面TFE-U1平行于基础层SUB，所以第一传感器部SP-C与基础层SUB之间的间距在每个点处可以在误差范围内基本上彼此相等。例如，误差范围可以在几百纳米以下。更详细地，误差范围可以是500纳米或更小。

第二传感器部SP-S中的每个点与基础层SUB之间的间距可以不同。图10示出了第二传感器部SP-S的两个点与基础层SUB之间的间距SD2a和SD2b。间距SD2a和SD2b可以在两个点处不同。

可以通过喷墨打印工艺来形成薄膜密封层TFE的有机层。在这种情况下，根据有机层的流动，与非显示区域NDA(见图5B)相邻的区域中的有机层的厚度会减小。当有机层的厚度变薄时，位于薄膜密封层TFE上的触摸检测单元TS与位于基础层SUB上的发光器件层DP-OLED之间的间距会比较接近。即，触摸检测单元TS与施加有第二电压ELVSS(见图6A)阴极CE(见图6C)之间的距离会比较短。在这种情况下，会发生的现象是，形成在触摸检测单元TS中的电场相比于触摸检测单元TS的上部分更集中在阴极CE(见图6C)上。因此，随着有机层的厚度变得越薄，触摸检测单元TS的灵敏度会进一步劣化。

根据发明构思的实施例，为了补偿薄膜密封层TFE的薄的厚度，可以调整薄膜密封层TFE的与第二薄膜密封区域TFA2叠置的厚度。例如，可以通过调整在与非显示区域NDA(见图5B)相邻的区域中打印的包括单体的化合物的量或者调整打印时间，以使得薄膜密封层TFE在第二薄膜密封区域TFA2中具有凸起形状。通过调整第二薄膜密封区域TFA2的厚度，可以将第二传感器部SP-S的每个点与基础层SUB之间的平均间距SD2-a调整为在预定误差范围内基本上等于第一传感器部SP-C与基础层SUB之间的第一间距SD1。预定的误差范围可以在几百纳米以下。更详细地，预定的误差范围可以是500纳米以下。结果，可以减小第二传感器部SP-S的触摸灵敏度与第一传感器部SP-C的触摸灵敏度之间的差，可以提供具有均匀触摸灵敏度的触摸检测单元TS。

根据发明构思的实施例，调整薄膜密封层的有机层的厚度。因此，可以控制由薄膜密封层中的厚度改变所另外引起的触摸检测单元的触摸灵敏度偏差。

虽然已经描述了本发明的各种实施例，但将理解的是，本发明不应受这些实施例限制，本领域普通技术人员在本发明的如在下文中权利要求及其功能等同物所要求保护的精神和范围内可以进行各种改变和修改。