自动分析装置

技术领域

本发明涉及对血液、尿液等液体试样中的规定成分的浓度等进行分析的自动分析装置。

背景技术

专利文献1中公开了一种将真空罐与真空泵连接，使真空罐内保持负压的状态，并利用真空罐内的真空压来对清洗反应容器时排出的清洗液等(废液)进行吸引的技术。

专利文献1中公开了在使用大量清洗液的反应容器清洗机构中，将反应液和清洗液暂时留存在抽吸瓶中，然后打开电磁阀排出抽吸瓶中留存的废液。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2005－308506号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

专利文献1公开的自动分析装置中，对取样探针进行清洗的清洗干燥槽与真空罐连接，因此，清洗取样探针所产生的废液会留存在真空罐中。

自动分析装置中，用取样探针吸引样本并吐出后，利用清洗液对探针的内侧和外侧进行清洗，以防止检体(检查试样)之间的污染。取样探针在吸引样本时是将取样探针的前端伸入样本容器中进行吸引，但有时会从取样探针伸入的深度距样本上表面为数毫米的位置开始吸引，有时也会从盛着样本的试管底部附近开始吸引。在后者的情况下，取样探针的清洗范围变得很大，因此，在取样探针碰到清洗液的同时进行升降来清洗整个取样探针。因此，清洗后附着在探针外侧的清洗液的量要比仅对前端进行清洗的前者情况多很多。如果在探针外侧附着有清洗液的情况下直接吸引下一个样本，则清洗液会稀释样本，因此，需要通过真空吸引来快速去除清洗液。

如果随着取样探针的清洗而产生的废液量很少，则专利文献1所公开的结构足矣，但由于废液留存在真空罐中，因此需要定期地排水。如果进行排水，则需要另外对真空罐进行吸真空，因此，在废液量预估有很多的情况下，通过真空瓶将清洗干燥槽与真空罐连接，从而希望尽可能地防止真空吸引所产生的清洗液(废液)被吸入到真空罐中。然而，随着清洗取样探针而产生的废液量并没有例如从反应容器清洗机构排出的废液量那么多。为了排出留存在真空瓶中的废液，打开设置在真空瓶中的电磁阀，从真空吸引口吸出空气从而将留存在真空瓶中的废液送出，但由于留存的废液量并不多从而通过电磁阀的流量很少的情况下，从真空吸引口吸入的空气中的灰尘等有可能堵塞电磁阀。当灰尘等附着在电磁阀的阀座上时，即使在电磁阀关闭的状态下运行真空泵，也可能会从电磁阀发生漏气从而真空罐的负压达不到规定值，从而在不同情况下监视负压状态的传感器等有可能引起装置警报。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明的一实施方式的自动分析装置包括：清洗槽，该清洗槽具有喷出用于清洗探针的清洗液的清洗液喷口、及用于探针插入的真空吸引口；留存清洗液的清洗罐；真空罐；使真空罐与大气压相比处于负压状态的真空泵；以及配置在真空吸引口与真空罐之间的真空瓶，作为清洗液流入真空瓶的流路，具有与真空吸引口相连接的第一流路和与清洗罐相连接的第二流路。

发明效果

将用于接受附着在探针上的清洗液的真空瓶中所留存的清洗液排出的电磁阀能够维持清洁的状态，因此，能够提供高可靠性的自动分析装置。

其它技术问题和新的特征可以从本说明书的记载和附图明确得知。

附图说明

图1是示出自动分析装置的整体结构的图。

图2是示出清洗槽的构造的图。

图3A是示出清洗槽的流路结构(第一比较例)的图。

图3B是示出清洗槽的流路结构(第二比较例)的图。

图4A是示出清洗槽的流路结构(实施例1)的图。

图4B是示出在清洗探针外侧时清洗槽的流路结构的动作的图。

图4C是示出在真空吸引时清洗槽的流路结构的动作的图。

图5是清洗探针和真空吸引时的时序图。

图6是维护时的时序图。

图7A是示出清洗槽的另一流路结构(实施例1)的图。

图7B是示出在清洗探针外侧时清洗槽的流路结构的动作的图。

图7C是示出在真空吸引时清洗槽的流路结构的动作的图。

图8是清洗探针和真空吸引时的时序图。

图9是维护时的时序图。

图10是示出清洗槽的流路结构(实施例2)的图。

具体实施方式

图1是自动分析装置的立体图。自动分析装置是在多个反应容器2中分别分注试样(样本)与试剂并使其反应，对该反应后的液体进行测定的装置。自动分析装置包括反应盘1、试剂盘9、试样传送机构17、试剂分注机构7、8、试剂用注射筒18、18a、样本分注机构11、12、试样用注射筒19、19a、清洗机构3、光源4a、分光光度计4、搅拌机构5、6、清洗用泵20、清洗槽13、14、30、31、32、33、真空吸引口40和控制器21。

反应盘1的圆周上排列着反应容器2。在反应盘1的附近设置有用于移动载放有试样容器15的支架16的试样传送机构17。试样容器15中容纳血液等检查试样(检体)，该试样容器15被载放在支架16上并通过试样传送机构17传输。反应盘1与试样传送机构17之间设置有可以旋转和上下移动的样本分注机构11和样本分注机构12。样本分注机构11、12分别具备连接有试样用注射筒19、19a的取样探针11a、12a，取样探针11a、12a分别以样本分注机构11、12的转轴为中心边画圆弧边移动，从试样容器15向反应容器2分注试样。

试剂盘9的圆周上可以载放多个试剂瓶10。试剂盘9进行了保冷处理。反应盘1与试剂盘9之间设置有能够旋转和上下移动的试剂分注机构7、8。试剂分注机构7、8分别具备连接有试剂用注射筒18、18a的试剂探针7a、8a，试剂探针7a、8a分别以试剂分注机构7、8的转轴为中心边画圆弧边移动，从而接近试剂盘9，从试剂瓶10向反应容器2分注试剂。

反应盘1的周围配置有对已经完成测定的反应容器进行清洗的清洗机构3、对反应容器内的试剂和试样的混合液(反应液)进行搅拌的搅拌机构5、6、以及对反应容器内的混合液(反应液)照射光并用于测定例如其吸光度的光源4a及分光光度计4。另外，清洗机构3与清洗用泵20相连接。样本分注机构11、12、试剂分注机构7、8、搅拌机构5、6的动作范围内分别设置有清洗槽13、14、33、32、31、30。自动分析装置的各机构与控制器21相连接，并受控制器21的控制。

自动分析装置对检查试样的分析处理一般按照以下的步骤进行。首先，对通过试样传送机构17传送到反应盘1附近的支架16上所载放的试样容器15内的试样，利用样本分注机构11的取样探针11a将其分注到反应盘1上的反应容器2中。然后，利用试剂分注机构7的试剂探针7a或试剂分注机构8的试剂探针8a，将分析要用的试剂从试剂盘9上的试剂瓶10分注到之前已经分注了试样的反应容器2中。接着，利用搅拌机构5对反应容器2内的试样和试剂的混合液进行搅拌。

之后，使从光源4a发出的光透过盛着混合液的反应容器2，利用分光光度计4测定透射光的光度。将利用分光光度计4测得的光度经由A/D转换器和接口发送到控制器21。在控制器21中进行例如根据混合液(反应液)的吸光度来计算与试剂相应的分析项目的规定成分的浓度等运算。所得到的测定结果被显示在显示部(未图示)等上。

本例中，用于吸引试样容器15内的试样的取样探针11a从试样容器15的上部开始吸引，取样探针12a从试样容器15的底部附近开始吸引。因此，为了防止已用于试样分注的取样探针12a对试样之间的污染，需要在清洗槽14中对取样探针进行大范围清洗。大范围清洗后会有大量清洗液附着在取样探针12a上，因此，在清洗槽14中设置真空吸引口40来去除附着在取样探针12a上的清洗液，从而防止试样被清洗液稀释。

图2中示出清洗槽14的构造。示出了剖视图、俯视图和侧视图。槽42的底部设有排液管43和真空吸引口40。槽42的附近设有清洗液喷口41。取样探针12a插入到清洗液喷口41附近的槽42内，使取样探针12a上下移动的同时，对取样探针12a外侧的整个污染范围进行清洗。清洗所用的清洗液从排液管43排出。然后，将取样探针12a移动到真空吸引口40并使其下降、上升，以去除附着在取样探针12a上的清洗液。本例中，从槽42上方观察时，真空吸引口40设置在与从清洗液喷口41喷出清洗液的位置不同的位置处，排液管43设置在从清洗液喷口41喷出清洗液的位置处。从而，能够将附着在取样探针12a外侧的检查试样进入真空吸引口40的可能性降到很低。

图3A示出清洗槽14的流路结构(第一比较例)。清洗液在清洗罐51中留存，并通过泵52被提供给清洗槽14的清洗液喷口41。泵52与清洗液喷口41之间设有第一电磁阀50a。排液管43与下水道53相连接。另外，为了真空吸引，设有真空泵54和真空罐55，真空罐55与真空吸引口40之间设有第二电磁阀50b。在该流路结构中，附着在取样探针12a侧面的清洗液直接留存在真空罐55内，因此，在反复进行真空吸引动作之后，需要将留存在真空罐55中的清洗液排出。此外，由于第二电磁阀50b从真空吸引口40吸入的大半是空气，因此，第二电磁阀50b的阀部很有可能夹带大气中的尘埃等，最坏的情况是第二电磁阀50b的密闭性能下降，在利用真空泵54使真空罐55处于负压的过程中，第二电磁阀50b有可能发生漏气从而导致真空性能下降。

图3B示出清洗槽14的另一流路结构(第二比较例)。与图3A的流路结构的不同点在于设置了真空瓶56以防止取样探针12a的侧面上所附着的清洗液直接积存在真空罐55中。取样探针12a上附着的清洗液被暂时留存在真空瓶56中，之后，通过打开设置在真空瓶56与下水道53之间的第三电磁阀50c，将该清洗液排出到下水道53。从而，不会有清洗液留存在真空罐55中，但在第三电磁阀50c中，与图3A中的电磁阀50b的情况相同，有夹带尘埃等的风险。若第三电磁阀50c的密闭性能下降，有可能导致真空吸引能力下降或者清洗液从下水道53倒流回真空瓶56的问题发生。

实施例1

图4A示出实施例1的清洗槽14的流路结构。实施例1的流路结构是在清洗罐51的清洗液通过泵52被送往清洗液喷口41的流路60中设置岔口61，并利用旁通流路62连接流路60和真空瓶56。即，清洗液流入真空瓶56的流路设置有两套，除了与真空吸引口40连接的流路之外，还设有使清洗液从清洗罐流入的流路。

图4B示出清洗取样探针12a外侧时清洗槽14的流路结构的动作。此时，从清洗液喷口41向插入到清洗槽14中的取样探针12a喷出清洗液，但不实施真空吸引动作。通过打开(open)第一电磁阀50a，从清洗液喷口41喷出清洗液。此时，经过岔口61被泵52抽取到旁通流路62的清洗液流入真空瓶56。箭头60v、62v分别通过其宽度来示意性地表示分岔后的流路60和旁通流路62中流过的清洗液的量，此时没有实施真空吸引动作，因此，第二电磁阀50b、第三电磁阀50c是关闭(close)的。然而，由于真空吸引口40处于向大气开放的状态，因此能够容易地将清洗液从旁通流路62送至真空瓶56。

接着，利用图4C说明真空吸引动作时清洗液的动作。为了去除附着在取样探针12a的侧面上的清洗液，使取样探针12a移动到真空吸引口40，并打开第二电磁阀50b之后，使取样探针12a下降、上升来去除清洗液。此时，在清洗取样探针12a的外侧时从清洗液喷口41到岔口61之间留存的清洗液60w和留存在旁通流路62中的清洗液62w、以及附着在取样探针12a的侧面上的清洗液40w通过真空吸引动作被吸入真空瓶56。由于清洗液喷口41的直径要比真空吸引口40的直径大得多，且真空吸引时真空吸引口40的很大部分都被取样探针12a堵住，因此，通过打开第二电磁阀50b，能够容易地将清洗液60w、62w吸入真空瓶56。

结果，在取样探针12a的干燥动作结束之后留存在真空瓶56中的清洗液是清洗液62v、60w、62w、40w之和。而在第二比较例(图3B)中，留存在真空瓶56中的清洗液只有清洗液40w。实施例1中，通过打开第三电磁阀50c，相比于比较例能够有更多的留存在真空瓶56中的清洗液冲刷过第三电磁阀50c的阀座，从而能够防止电磁阀因尘埃等而出现动作故障。另外，相比于第二比较例(图3B)，新增的结构只有从岔口61分出的旁通流路62，能够低成本地实现。

图5示出以上动作的时序图。本时序图示出按流程规定的与清洗槽14相关的一个周期的动作。实施例1的流路结构中，在取样探针12a的清洗、干燥动作结束之后，从清洗液喷口41到岔口61为止的流路处于通过真空吸引动作而没有清洗液残留在流路内的状态。因此，在下一个周期中，比取样探针12a的清洗开始时刻提前规定时间70来打开第一电磁阀50a。从而，能够确保预先按周期规定的清洗时间，防止因取样探针12a的清洗时间不足而导致污染。

在图5所示的取样探针清洗、干燥的一个周期中，使只能用来冲刷第三电磁阀50c的阀座的清洗液留存在真空瓶56中，以此方式来设计流路。例如，旁通流路62的清洗液的流量调整可以通过在旁通流路中设置节流阀来进行，也可以利用可变节流阀等来调整清洗液的流量。另外，还可以假定从清洗液喷口41到岔口61为止的流路长度较长等的情况，因此，在第二电磁阀50b被打开的期间，不需要将清洗液喷口41到岔口61之间留存的清洗液全都吸入真空瓶56。只要在一个周期内，有足够用于清洗第三电磁阀50c的清洗液留存在真空瓶56中即可。本动作除了在对已吸引过试样(检体)的取样探针进行清洗、干燥动作时进行以外，也可以在对没有吸引过试样(检体)的取样探针进行待机清洗动作或者维护动作时，在每一个周期内将清洗液留存于真空瓶并向下水道排出，从而能够清洗第三电磁阀50c。

图6示出维护动作时利用取样探针12a的内部清洗动作来清洗真空瓶56和第三电磁阀50c的例子。图6示出上述维护动作的时序图。当在维护动作中取样探针12a吸入洗剂进行内部清洗时，对于真空瓶56和第三电磁阀50c的清洗也是有效的。例如，洗剂瓶设置在反应盘1与试样传送机构17之间，取样探针12a从洗剂瓶吸入洗剂。取样探针12a移动到真空吸引口40后，进行下降动作。为了防止洗剂向周围飞散，取样探针12a的前端伸入真空吸引口40后开始喷射。取样探针12a的内部清洗时间设定为能够去除取样探针12a内部的洗剂的时间以上。通过在真空吸引口40处进行取样探针12a的内部清洗动作，能够使取样探针12a所排出的洗剂和清洗液留存在真空瓶56中。而且，通过在取样探针12a的下降过程中打开第一电磁阀50a，能够经由旁通流路62将来自清洗罐51的清洗液留存在真空瓶56中。

之后，在使取样探针12a上升时打开第二电磁阀50b，从而能够将从清洗液喷口41到岔口61之间的清洗液经由旁通流路62留存在真空瓶56中。然后，打开第三电磁阀50c，将留存在真空瓶56中的清洗液排出到下水道53，从而能够冲洗第三电磁阀50c的阀座。

在该时序图中，随着内部清洗动作的进行，洗剂和清洗液被提供给真空瓶56，从而能够减少从清洗罐51提供的清洗液，因此，能够从整体上抑制清洗液的过量使用，能够在短时间内将所需的清洗液积存在真空瓶56中。

内部清洗动作时洗剂的使用是任意的，自动分析装置的分析动作过程中的内部清洗动作时也可以通过进行与图6相同的动作，将取样探针内部清洗动作时排出的清洗液用于电磁阀的清洗动作。通过反复进行上述动作，能够保持第三电磁阀50c的清洁，能够防止电磁阀因尘埃等而出现动作故障。

图7A示出实施例1的清洗槽14的另一流路结构。与图4A的流路结构的不同点在于旁通流路62中设有第四电磁阀50d。

图7B示出清洗取样探针12a外侧时清洗槽14的流路结构的动作。第一电磁阀50a打开，与此相对而第四电磁阀50d关闭，因此，旁通流路62中没有清洗液流过。从而，在清洗取样探针12a时，清洗液不会有损失，从流路60提供的清洗水60v’能够全部用于清洗取样探针12a。

接着，利用图7C说明真空吸引动作时的清洗液的动作。为了去除附着在取样探针12a的侧面上的清洗液，使取样探针12a移动到真空吸引口40，并依次打开第四电磁阀50d、第二电磁阀50b之后，使取样探针12a上下移动来去除清洗液。此时，在清洗取样探针12a的外侧时从清洗液喷口41到岔口61之间留存的清洗液60w’和附着在取样探针12a的侧面上的清洗液40w’通过真空吸引动作被吸入真空瓶56。这种情况下，在取样探针12a的干燥动作结束之后留存在真空瓶56中的清洗液是清洗液60w’与40w’之和，从而与第二比较例(图3B)的情况下的清洗液40w’相比，本流路结构也能够将更多的清洗液留存在真空瓶56中。结果，在取样探针12a的干燥动作结束之后打开第三电磁阀50c，能够利用留存在真空瓶56中的清洗液冲刷第三电磁阀50c的阀座，从而能够防止电磁阀因尘埃等而出现动作故障。另外，本流路结构中，从清洗罐51提供的清洗液直接从清洗液喷口41喷出，因此能够进一步缩短外部清洗的时间。

图8示出以上动作的时序图。除了与第四电磁阀50d相关的控制以外都与图5的时序图相同，因此省略其重复说明。本动作除了在对已吸引过试样(检体)的取样探针进行清洗、干燥动作时进行以外，也可以用于对没有吸引过试样(检体)的取样探针进行待机清洗动作或者维护动作，这一点是相同的。

图9示出维护动作时利用取样探针12a的内部清洗动作来清洗真空瓶56和第三电磁阀50c的例子。图9是执行与图6相同的维护动作的时序图。因此，除了与第四电磁阀50d相关的控制以外都与图6的时序图相同，所以省略其重复说明。在第一电磁阀50a打开的期间内，将第四电磁阀50d也打开，以使来自清洗罐51的清洗液经由旁通流路62留存在真空瓶56中。此时，从清洗液喷口41排出的清洗液直接向下水道排出，因此，希望在第四电磁阀50d打开的期间内，在第一电磁阀50a打开的期间前后留有余裕。

实施例2

图10示出实施例2的清洗槽14的流路结构。实施例2的流路结构中设有利用泵52将清洗罐51中的清洗液提供给真空瓶56的流路63。为了在清洗液喷口41与真空瓶56之间切换清洗罐51的清洗液的供给对象，在泵52与清洗液喷口41之间的流路60中设置第一电磁阀50a，并在泵52与真空瓶56之间的流路63中设置第五电磁阀50e。

实施例2的流路结构中，能够控制第五电磁阀50e，使得在一个周期内有冲刷第三电磁阀50c的阀座所需的清洗液从清洗罐51留存在真空瓶56中。该流路结构中，由泵52提供的清洗液全部提供给真空瓶56，因此，能够在短时间内向真空瓶56提供所需量的清洗液。实施例2的时序图未特意示出，只要使在一个周期内将第五电磁阀50e打开的时间段、从清洗罐51向清洗液喷口41提供清洗液的时间段即为了清洗探针而打开第一电磁阀50a的时间段错开设置即可。

以上，基于实施方式对本发明作了具体的说明，但本发明并不限于上述实施方式，在不脱离其主旨的范围内可以进行各种变更。例如，作为实施例说明了取样探针的清洗槽，但由于是能够适用于在清洗探针后需要进行真空吸引动作的结构的技术，因此也能够适用于试剂探针等的清洗槽。

另外，本实施例中，说明了在取样探针移动到清洗液喷口后进行的清洗动作中使取样探针进行下降、上升动作的内容，但在取样探针的清洗范围较小从而不需要下降、上升的情况下，也是在真空吸引位置去除附着在取样探针侧面的清洗液，因此，本实施例的效果并不受取样探针的清洗动作的限制。

标号说明

1反应盘；2反应容器；3清洗机构；4分光光度计；4a光源；5、6搅拌机构；7、8试剂分注机构；7a、8a试剂探针；9试剂盘；10试剂瓶；11、12样本分注机构；11a、12a样本探针；13、14清洗槽；15试样容器；16支架；17试样传送机构；18、18a试剂用注射筒；19、19a试样用注射筒；20清洗用泵；21控制器；30、31搅拌机构用清洗槽；32、33试剂分注机构用清洗槽；40真空吸引口；41清洗液喷口；42槽；43排液管；50a、50b、50c、50d、50e电磁阀；43排液管；51清洗罐；52泵；53下水道；54真空泵；55真空罐；56真空瓶；60流路；61岔口；62旁通流路；60v、60v’、62v、40w、40w’、60w、62w、62w’清洗液(流量)；70规定时间。