反射式显示面板及其制备方法、及显示装置

技术领域

本公开实施例涉及但不限于显示技术领域，尤其涉及一种反射式显示面板及其制备方法、及显示装置。

背景技术

目前，依据显示器件所利用的光源类型(包括：背光源或者环境光)的不同，显示器件可以分为透射式、反射式和半透半反式三种。其中，反射式显示器件通过对入射至反射式显示器件内的环境光进行反射来实现显示。由于反射式显示器件无需额外设置背光模组来为其显示提供背光，因此，反射式显示器件得到了广泛的关注和应用。然而，一些技术中的反射式显示器件在亮态显示时存在反射率低以及显示效果较差的问题。

发明内容

以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

第一方面，本公开实施例提供了一种反射式显示面板，包括：相对设置的第一基板和第二基板、以及位于所述第一基板与所述第二基板之间的墨水结构层；所述墨水结构层包括：包括黑色微粒子的墨水；

还包括：相对设置的第一反射结构和第二反射结构，其中，所述第一反射结构，位于所述第一基板的靠近所述第二基板的一侧，被配置为使入射到所述第一反射结构的光线中的一部分光线向靠近所述第一基板的方向反射；所述第二反射结构，位于所述第二基板的靠近所述第一基板的一侧，被配置为使从所述第一反射结构出射至所述第二反射结构的另一部分光线向靠近所述第一基板的方向反射。

第二方面，本公开实施例提供了一种显示装置，包括：上述实施例中所述的反射式显示面板。

第三方面，本公开实施例提供了一种反射式显示面板的制备方法，所述反射式显示面板为上述实施例中所述的反射式显示面板，所述制备方法包括：

提供第一基板和第二基板；

在所述第一基板上形成第一反射结构；

在所述第二基板上形成第二反射结构；

对盒所述第一基板和所述第二基板，在所述第一基板和所述第二基板之间填充包括黑色微粒子的墨水，以形成墨水结构层。

第四方面，本公开实施例提供了一种反射式显示面板的制备方法，所述反射式显示面板为上述实施例中所述的反射式显示面板，所述制备方法包括：

提供第一基板和第二基板；

在所述第一基板上形成第一反射结构和所述挡墙结构，并在所述第二基板上形成第二反射结构，或者，在所述第一基板上形成第一反射结构，并在所述第二基板上形成第二反射结构和所述挡墙结构；

对盒所述第一基板和所述第二基板，在所述第一基板和所述第二基板之间填充包括黑色微粒子的墨水，以形成墨水结构层。

本公开实施例提供的反射式显示面板及其制备方法、及显示装置，该反射式显示面板可以包括：相对设置的第一基板和第二基板、位于所述第一基板与所述第二基板之间的墨水结构层以及相对设置的第一反射结构和第二反射结构，其中，第一反射结构，位于第一基板的靠近第二基板的一侧，被配置为使入射到第一反射结构的光线中的一部分光线向靠近第一基板的方向反射；第二反射结构，位于第二基板的靠近第一基板的一侧，被配置为使从第一反射结构出射至第二反射结构的另一部分光线向靠近第一基板的方向反射。如此，本公开示例性实施例提供的反射式显示面板，通过在第二基板上制备第二反射结构，可以对第一反射结构的漏光再次进行反射利用，从而，可以提高反射式显示面板的亮态反射率，可以提高反射式显示面板的对比度以及亮态亮度，进而可以提升反射式显示面板的显示质量。

本公开的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本公开而了解。本公开的其他优点可通过在说明书以及附图中所描述的方案来实现和获得。

在阅读并理解了附图和详细描述后，可以明白其他方面。

附图说明

附图用来提供对本公开技术方案的理解，并且构成说明书的一部分，与本公开的实施例一起用于解释本公开的技术方案，并不构成对本公开技术方案的限制。附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本公开内容。

图1A为一种反射式显示器件在亮态显示下的结构示意图；

图1B为一种反射式显示器件在暗态显示下的结构示意图；

图1C为另一种反射式显示器件的结构示意图；

图1D为另一种反射式显示器件在亮态显示下的结构示意图；

图1E为另一种反射式显示器件在暗态显示下的结构示意图；

图1F为另一种反射式显示器件在亮态显示下的第一种漏光示意图；

图1G为另一种反射式显示器件在亮态显示下的第二种漏光示意图；

图2为本公开示例性实施例中的反射式显示面板的结构示意图；

图3为本公开示例性实施例中的反射式显示面板在亮态显示下的结构示意图；

图4为本公开示例性实施例中的挡墙结构的示意图；

图5A为本公开示例性实施例中的第二反射结构的一种示意图；

图5B为本公开示例性实施例中的第二反射结构的另一种示意图；

图5C为本公开示例性实施例中的第二反射结构的又一种示意图；

图6为本公开示例性实施例中的在第一基板上形成第一反射结构和挡墙结构后的示意图；

图7为本公开示例性实施例中的在第二基板上形成第二反射结构后的示意图；

图8为本公开示例性实施例中的在第一基板上形成第一反射结构后的示意图；

图9为本公开示例性实施例中的在第二基板上形成第二反射结构和挡墙结构后的示意图。

具体实施方式

为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本公开的实施例进行详细说明。注意，实施方式可以以多个不同形式来实施。所属技术领域的普通技术人员可以很容易地理解一个事实，就是方式和内容可以在不脱离本公开的宗旨及其范围的条件下被变换为各种各样的形式。因此，本公开不应该被解释为仅限定在下面的实施方式所记载的内容中。在不冲突的情况下，本公开中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

在附图中，有时为了明确起见，夸大表示了各构成要素的大小、层的厚度或区域。因此，本公开的一个方式并不一定限定于该尺寸，附图中各部件的形状和大小不反映真实比例。此外，附图示意性地示出了理想的例子，本公开的一个方式不局限于附图所示的形状或数值等。

本说明书中的“第一”、“第二”、“第三”等序数词是为了避免构成要素的混同而设置，而不是为了在数量方面上进行限定的。

在本说明书中，为了方便起见，使用“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系的词句以参照附图说明构成要素的位置关系，仅是为了便于描述本说明书和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。构成要素的位置关系根据描述各构成要素的方向适当地改变。因此，不局限于在说明书中说明的词句，根据情况可以适当地更换。

在本说明书中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解。例如，可以是固定连接，或可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或通过中间件间接相连，或两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。

反射式显示器件是利用自然环境光来显示的器件结构，在强光或者弱光下利用环境光均可实现清晰显示，具有驱动电压小、节能以及对眼睛损伤较小的优点。目前反射式显示器件可以包括：电子墨水(E-Ink)反射显示器件以及Clear-Ink(CID)反射显示器件。

一种E-Ink反射式显示器件的工作原理为：当给反射式显示器件中的电极施加电压时，墨水中的白色粒子会移动到位于显示侧的介质层的表面，墨水中的黑色粒子会移动到与显示侧相反的一侧，此时光会被反射以实现亮态显示；当给反射式显示器中的电极施加电压时，墨水中的白色粒子会移动到位于显示侧相反的一侧，墨水中的黑色粒子会移动到位于显示侧的介质层的表面，此时光会直接被吸收以实现暗态显示。

图1A为一种反射式显示器件在亮态显示下的结构示意图，图1B为一种反射式显示器件在暗态显示下的结构示意图。如图1A和图1B所示，该反射式显示器件可以包括：相对设置的第一衬底111和第二衬底121、设置在第一衬底111的靠近第二衬底121的一侧的第一电极112、设置在第二衬底121的靠近第一衬底111的一侧的第二电极122以及设置在第一电极112和第二电极122之间的微胶囊13，微胶囊13可以包括：包含有白色微粒子141(又可称为白色墨水粒子或者白色微球粒子)和黑色微粒子142(又可称为黑色墨水粒子或者黑色微球粒子)的墨水14，其中，黑色微粒子142和白色微粒子141所携带的电荷不同。例如，当第一电极112和第二电极122不加电时，黑色微粒子142带负电荷，白色微粒子141带正电荷，整体微胶囊13呈现电平衡状态。例如，如图1A所示，当第一电极112加正电压时，黑色微粒子142向第一电极112靠近，白色微粒子141分布在微胶囊13的上方，从第二衬底121入射的环境光在微胶囊13中白色微粒子141处发生反射，此时，显示器件可以呈现亮态显示。例如，如图1B所示，当第一电极112加负电压时，白色微粒子141向第一电极112靠近，黑色微粒子142分布在微胶囊13的上方，从第二衬底121入射的环境光在微胶囊13中黑色微粒子142处吸收，此时，显示器件可以呈现暗态显示。

另一种CID反射式显示器件的工作原理为：当给反射式显示器件中的电极施加电压时，墨水中的黑色粒子会移动到与显示侧相反的一侧，此时利用介质层的高折射率与电子墨水的低折射率实现的全反射实现亮态显示；当给反射式显示器件中的电极施加电压时，墨水中的黑色粒子会移动到位于显示侧的介质层的表面，这样光会直接被吸收以实现暗态显示。

图1C为另一种反射式显示器件的结构示意图，图1D为另一种反射式显示器件在亮态显示下的结构示意图，图1E为另一种反射式显示器件在暗态显示下的结构示意图。其中，在图1D和图1E中，以一个透镜为例进行示意。

例如，如图1C所示，该反射式显示器可以包括：相对设置的第一基板21和第二基板22、设置在第一基板21的靠近第二基板22的一侧的滤光层29、设置在滤光层29的的靠近第二基板22的一侧的透明的透镜28、设置在透镜28的靠近第二基板22的一侧的第一电极23、设置在第一电极23的靠近第二基板22的一侧的第一介电层24、设置在第二基板22的靠近第一基板21的一侧的第二电极25、设置在第二电极25的靠近第一基板21的一侧的第二介电层26、填充在第一基板21和第二基板22之间的墨水20(包括黑色微粒子)、以及设置在第一基板21和第二基板22之间的挡墙结构27。其中，墨水20中的黑色微粒子有两个主要特性：(1)对电压或电场敏感，在电场或电压下能够发生快速移动；(2)黑色微粒子本身有吸光能力。例如，如图1C和图1D所示，当第一电极23施加黑色微粒子排斥电压，第二电极25施加黑色微粒子吸引电压时，黑色微粒子向远离第一基板21的方向迁移，由于第一介电层24的折射率大于墨水20的折射率，使得至少从该反射式显示器第一基板21入射的光在第一介电层24与墨水20之间的交界面上可以发生全反射，反射光被用户的眼睛吸收识别，从而，可以实现反射式显示器的亮态显示。例如，如图1C和图1E所示，当第一电极23施加黑色微粒子吸引电压，第二电极25施加黑色微粒子排斥电压时，墨水20中的黑色微粒子向靠近第一基板21的方向迁移，墨水20中的黑色微粒子会吸附到第一介电层24的表面，由于第一介电层24的折射率小于黑色微粒子的折射率，在第一介电层24的表面的全反射条件被破坏，使得至少从该反射式显示器第一基板21入射的光在第一介电层24与墨水20之间的交界面时，光线虽然可以穿过第一介电层24，但是光线从第一介电层24逸出后会被墨水20中的黑色微粒子直接吸收，此时，无反射光逸出，呈现暗态显示。

CID反射式显示器件相比于E-ink反射式显示器件具有驱动电压低、耗能小以及可实现彩色化显示的优点，但是，经本公开发明人研究发现：一方面，如图1F所示，当第一介电层24的弧顶位置被外部环境光垂直入射时，因入光线射角小于第一介电层24与墨水20之间界面的全反射角，光线无法在第一介电层24与墨水20之间界面发生全反射，光线从界面“漏过”进入墨水20后会被黑色微粒子吸收，从而导致外部光线整体反射率下降，使得反射式显示面板的对比度以及亮态亮度降低，导致反射式显示面板的显示质量下降。另一方面，如图1G所示，第一介电层24一般是通过压印和热回流的工艺方法进行制作，由于工艺限制，在制作过程中第一介电层24顶部弧度最难控制，当第一介电层24制作过程中顶部弧度小于预先设计值时，发生“漏光”的比例会进一步增大，导致CID反射式显示器件的亮态反射率会更为下降。因此，由于CID反射式显示器件在亮态显示时会存在部分环境入射光在第一介电层24和墨水20之间界面未发生全反射的问题，从而导致CID反射式显示器件在亮态显示时出现反射率低的问题，使得反射式显示面板的对比度以及亮态亮度降低，进而会降低反射式显示面板的显示质量。

本公开至少一示例性实施例提供一种反射式显示面板。该反射式显示面板，可以包括：相对设置的第一基板和第二基板、以及位于第一基板与第二基板之间的墨水结构层；墨水结构层包括：包括黑色微粒子的墨水；该反射式显示面板还可以包括：相对设置的第一反射结构和第二反射结构，其中，第一反射结构，位于第一基板的靠近第二基板的一侧，被配置为使入射到第一反射结构的光线中的一部分光线向靠近第一基板的方向反射；第二反射结构，位于第二基板的靠近第一基板的一侧，被配置为使从第一反射结构出射至第二反射结构的另一部分光线向靠近第一基板的方向反射。

如此，本公开示例性实施例所提供的反射式显示面板，通过在第二基板上制备的第二反射结构，可以对第一基板上制备的第一反射结构的漏光再次进行反射利用，从而，可以提高反射式显示面板的亮态反射率，可以提高反射式显示面板的对比度以及亮态亮度，进而可以提升反射式显示面板的显示质量。

本公开示例性实施例提供一种反射式显示面板，例如，图2为本公开示例性实施例中的反射式显示面板的结构示意图，图3为本公开示例性实施例中的反射式显示面板在亮态显示下的结构示意图。这里，在图3中，以第一反射结构包括：一个透镜为例、并以第二反射结构中的一个反射柱为例进行示意。其中，在图3中，带箭头的实线所表示光线为入射光线和从第一反射结构漏出的光线，带箭头的虚线所表示的光线为第一反射结构反射出的一次反射光线，带箭头的点划线所表示的光线为第二反射结构反射出的二次反射光线。

如图2和图3所示，该反射式显示面板，可以包括：相对设置的第一基板21和第二基板22、以及位于第一基板21与第二基板22之间的墨水结构层；墨水结构层可以包括：包含黑色微粒子的墨水20；该反射式显示面板还可以包括：相对设置的第一反射结构30和第二反射结构31，其中，第一反射结构30，位于第一基板21的靠近第二基板22的一侧，被配置为使入射到第一反射结构30的光线中的一部分光线向靠近第一基板21的方向反射；第二反射结构31，位于第二基板22的靠近第一基板21的一侧，被配置为使从第一反射结构30出射至第二反射结构31的另一部分光线向靠近第一基板21的方向反射。

在一种示例性实施例中，如图2所示，该反射式显示面板，还可以包括：设置在第一基板21和第二基板22之间的挡墙结构27。如图4所示，其中，挡墙结构27可以包括：多个像素开口区域271以及设置在相邻像素开口区域271之间的不透光区272。

在一种示例性实施例中，可以通过纳米压印制备挡墙结构。

在一种示例性实施例中，如图2所示，该反射式显示面板，还可以包括：滤光层29，滤光层29可以包括：多个彩色滤光片291以及设置在相邻彩色滤光片291之间的遮光层292，遮光层292与不透光区272对应，多个彩色滤光片291可以与多个像素开口区域271对应。如此，当反射式显示面板进行显示时，对应这些像素开口区域的位置可显示与彩色滤光片的颜色对应的颜色，即可实现反射式显示面板的彩色显示。

在一种示例性实施例中，遮光层可以为黑矩阵(Black Matrix，BM)，遮光层被配置为避免相邻像素间的串扰，以及遮挡照射在薄膜晶体管上的光线。例如，如图3所示，像素开口区域以外的区域均被黑矩阵覆盖。

在一种示例性实施例中，在垂直于反射式显示面板的平面，挡墙结构的高度与第二反射结构的高度满足如下关系式：

其中，H表示挡墙结构的高度，h表示第二反射结构的高度。其中，挡墙结构的高度和第二反射结构的高度可以是指沿垂直于第一基板的方向上的最大的高度。这里，当h高度较小时从第一反射结构30逸出的光线到达第二反射结构31的行程较长，从第一反射结构30逸出的光线被黑色微球吸收的比率增加，二次反射效率低；当h高度较大时从第一反射结构30逸出的光线到达第二反射结构31的行程较短，二次反射效果较好，但在CID显示暗态时，由于反射柱与第一反射结构30间距较小，会影响黑色微粒子对第一反射结构30的附着速度与附着效果。因此，设置挡墙结构的高度与第二反射结构的高度满足上述关系式可以更好地提高反射效率，并且保证较好的附着速度与附着效果。

在一种示例性实施例中，为了避免第一电极和第二电极导通，该挡墙结构的材料可以为绝缘材料，例如聚酰亚胺、树脂(例如，丙烯酸树脂和环氧树脂中的任意一种)或者二氧化硅等。这里，本公开实施例对此不做限定。

在一种示例性实施例中，如图2所示，第一反射结构30的靠近第二基板22的一面为朝向靠近第二基板22的方向凸起的第一曲面，第一曲面为球面的一部分。例如，第一曲面可以为圆球面和椭球面中的任意一种中的一部分。

在一种示例性实施例中，第二反射结构31的靠近第一基板21的一面为平面和第二曲面中的任意一种，第二曲面为球面的一部分、锥面的一部分和凹凸不平的表面中的任意一种。例如，如图2所示，第二反射结构31的靠近第一基板21的一面可以为凹型弧面；或者，如图5A所示，第二反射结构31的靠近第一基板21的一面可以为平整反射面，或者，如图5B所示，第二反射结构31的靠近第一基板21的一面可以为锯齿型反射面，或者，如图5C所示，第二反射结构31的靠近第一基板21的一面可以为凸型弧面。这里，图5A至图5B仅示意出第二反射结构中反射柱的形状，并未示意出反射柱的曲面上所设置的反射膜。

在一种示例性实施例中，在垂直于反射式显示面板的平面，第一曲面结构的截面形状可以为圆形和椭圆形中任意一种的一部分，第二反射结构的曲面结构的截面形状为圆形、椭圆形和三角形中任意一种的一部分。

在一种示例性实施例中，可以通过纳米压印制备第二反射结构。

在一种示例性实施例中，第二反射结构和挡墙结构可以通过一次构图工艺制备。

在一种示例性实施例中，如图2所示，当第一反射结构30的第一曲面和第二反射结构31的第二曲面均为球面的一部分时，第一曲面所在球面的直径与第二曲面所在球面的直径可以满足如下关系式：

其中，D表示第一曲面所在球面的直径，d表示第二曲面所在球面的直径。其中，反射柱的存在一定程度上会对墨水中的黑色粒子的扩散产生一定阻碍影响，在保证对第一反射结构30的弧顶漏光进行二次反射前提下，反射柱直径越小越好，最大不超过透镜的口径1/2。如此，设置大于第二反射结构31的第二曲面所在球面的直径不超过第一反射结构30的第一曲面所在球面的直径的1/2倍，可以保证较好的二次反射，并且还可保证对黑色粒子的扩散阻碍较小。

在一种示例性实施例中，如图2所示，第一反射结构30可以包括：阵列排布的多个透镜28以及位于多个透镜28的远离第一基板21的一侧的第一介电层24，其中，第一介电层24的折射率大于墨水20的折射率，且第一介电层24的折射率小于黑色微粒子的折射率。

在一种示例性实施例中，如图2所示，第一反射结构30还可以包括：位于多个透镜28与第一介电层24之间的第一电极23。

在一种示例性实施例中，如图2所示，第二反射结构31可以包括：与多个透镜28中的至少一个对应的至少一个反射柱311以及位于至少一个反射柱311的靠近第一基板21的一侧的反射膜312，其中，反射膜312的折射率可以小于墨水20的折射率。

在一种示例性实施例中，至少一个反射柱的材料可以为丙烯酸树脂和环氧树脂中的任意一种。例如，当至少一个反射柱的材料为丙烯酸树脂时，由于粘度低纳米压印填充效果较好，如此，可以使得至少一个反射柱的曲面形貌完成性良好。例如，当至少一个反射柱的材料为环氧树脂时，由于环氧树脂粘度较高，如此，可以使得至少一个反射柱的曲面固化后的机械强度较高。

在一种示例性实施例中，反射膜可以为单层结构或多层结构，例如，反射膜可以为Ag(银)膜、白反材料膜、白油等高反射率的材料的单层结构。例如，反射膜可以为ITO/Ag/ITO等高反射率的材料的多层结构。如此，能够将入射到反射膜的光线反射，以获得高亮度的出光效果。

在一种示例性实施例中，在至少一个像素开口区域中，反射柱的总个数可以少于透镜的总个数。

在一种示例性实施例中，多个彩色滤光片中相同颜色的彩色滤光片所对应像素开口区域中的反射柱的个数相同，和/或，多个彩色滤光片中至少两种不同颜色的彩色滤光片所对应像素开口区域中的反射柱的个数不同。如此，每个子像素所对应的像素开口区域中反射柱的个数可以根据显示效果进行调整。例如，反射式显示面板完成制作后，若整体显示颜色偏绿，在制备反射柱时可以减少绿色子像素所对应的像素开口区域中的反射柱个数，以减少绿色子像素的亮度，来对反射式显示面板画像色度进行优化调整。进而，参照该方法，可以根据器件反馈显示效果，针对性地设计不同颜色的子像素所对应的像素开口区域中反射柱个数，实现对反射式显示面板显示效果进行调整优化。

在一种示例性实施例中，如图2所示，透镜28可以为透明材质，如此，可使反射式显示器件的透光率更高。例如，如图2所示，透明的透镜28可以设置在第一电极23和第一基板21之间，且该透镜28的靠近第二基板22的一面为曲面。例如，该曲面可以采用纳米压印工艺或者光刻工艺等制备而成。例如，如图2所示，透镜28的靠近第二基板22的一面可以为朝向靠近第二基板22的方向凸起的曲面。例如，该曲面可以为球面(例如，圆球面或者椭球面)的一部分。例如，该曲面可以为半球形曲面。当然，透镜28的曲面也可以为其它形状，可根据反射至显示器件的厚度需求(如第一基板21的入光面到第一介电层24的反射面之间的距离)来设定。这里，本公开实施例对此不做限定。

在一种示例性实施例中，该透镜28的材料可以为透明的无机材料或有机材料，且形成该透明介质层204的无机材料或有机材料的折射率为1.5至2.0，例如，该透镜28的折射率可以为1.5、1.6、1.7、1.8、1.9或2.0。例如，形成该透镜28有机材料可以包括聚苯乙烯和丙烯酸树脂中的至少之一，形成该透镜28的无机材料可以包括二氧化硅、氮氧化硅和氮化硅中的至少之一，该透镜28还可以由二氧化钛材料形成。当然，还可以为其它材料，只要满足其折射率为1.5至2.0，具有透明的特点，具有一定的硬度即可，例如折射率与第一介电层24的折射率相同或基本相同的材料。这里，本公开实施例对此不做限定。如图3所示，透镜28的折射率以及第一电极23的折射率可以与第一介电层24的折射率相同或基本相同，这样，从该第一基板21侧入射的光通过透镜28后，再通过第一电极23以及第一介电层24时，光的传播方向基本不变，由于第一介电层24的折射率可以大于墨水20的折射率，该入射光可以在第一介电层24和墨水20的界面处发生全反射。

在一种示例性实施例中，该透镜的厚度可以为10μm(微米)至20μm，例如为10μm、15μm或20μm。这里，透镜的厚度为沿垂直于第一基板的方向上的最大厚度。

在一种示例性实施例中，如图2所示，该反射式显示面板还可以包括：位移第一基板21的靠近第二基板的一侧的第二电极25以及位于第二电极25的靠近第二基板的一侧的第二介电层26。

在一种示例性实施例中，第一电极23可以设置在透镜28的靠近第二基板22的一侧，或者，可以设置在第一基板21的靠近第二基板22的一侧，或者，可以设置在第一基板21的远离第二基板22的一侧。例如，如图2所示，将第一电极23设置在透镜28的远离第一基板21的一侧，即靠近第二电极25的一侧，可以减少对第一电极23和第二电极25施加电压形成电场时的功耗。在下面的描述中，均以第一电极23设置在透镜28的远离第一基板21的一侧为例加以说明。

在一种示例性实施例中，第一电极可以为公共电极和像素电极中的一种，第二电极可以为公共电极和像素电极中的另一种。像素电极与阵列基板中的驱动电路连接，被施加数据电压。不同的数据电压使得第一电极和第二电极之间的电压差不同，使得黑色微粒子向远离第一基板的方向迁移的速度不同，从而，实现不同的显示灰度。

在一种示例性实施例中，第一电极和第二电极可以包括：整块电极和多块块状电极中的一种或多种。例如，第一电极和第二电极可以均为整块电极，如此，当对第一电极和第二电极施加电压时，从而，通过对黑色微粒子的精准调控，实现对光线的精准调控。

在一种示例性实施例中，第一电极和第二电极可以为由相同材料制成的透明电极。例如，该透明电极可以采用如铟锡氧化物(Indium Tin Oxide，ITO)、铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide，IZO)等透明的导电氧化物材料制成。例如，第一电极和第二电极均可采用ITO材料形成，如此，可使反射式显示器件的透光率更高。

在一种示例性实施例中，第一基板可以为对置基板，第二基板可以为阵列基板。例如，对置基板可以是彩膜(CF)基板。例如，阵列基板可以包括按阵列排布的像素驱动电路，每个像素驱动电路例如用于驱动一个像素，以控制相应像素中第一电极和第二电极之间的电压差，从而实现显示。光线从反射式显示器件的第一基板入射，则第一基板为透明基板，例如为玻璃基板，如此，可使反射式显示器件的透光率更高。例如，第二基板的材料可以包括树脂。例如，第二基板的材料可以为聚二甲基硅氧烷(PEMS)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)和聚酰亚胺(PI)中的一种。

在一种示例性实施例中，当环境光的亮度较大时，从反射式显示器件第一基板侧入射的光可以是环境光，此时，环境光起到显示用光源的作用；当环境光的亮度较低时，可以在第一基板上额外设置发光元件，从反射式显示器正面入射的光可以是发光元件发射的光线。

本公开实施例还提供一种显示装置，该显示装置可以包括：上述一个或多个实施例中的反射式显示面板。

在一种示例性实施例中，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑或者导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。这里，本公开实施例对显示装置的类型不做限定。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本公开的限制。

此外，本公开实施例中的显示装置除了可以包括上述的结构以外，还可以包括其它必要的组成和结构，例如，像素驱动电路等，本领域技术人员可根据该显示面板的种类进行相应地设计和补充，在此不再赘述。

下面通过显示面板的制备过程的示例说明本公开实施例的技术方案。本公开实施例中所说的“构图工艺”包括沉积膜层、涂覆光刻胶、掩模曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等处理，是已知的成熟的制备工艺。沉积可采用溅射、蒸镀、化学气相沉积等已知工艺，涂覆可采用已知的涂覆工艺，刻蚀可采用已知的方法，在此不做限定。在本公开实施例的描述中，“薄膜”是指将某一种材料在基底上利用沉积或涂覆工艺制作出的一层薄膜。若在整个制作过程当中该“薄膜”无需构图工艺或光刻工艺，则该“薄膜”还可以称为“层”。若在整个制作过程当中该“薄膜”还需构图工艺或光刻工艺，则在构图工艺前称为“薄膜”，构图工艺后称为“层”。经过构图工艺或光刻工艺后的“层”中包含至少一个“图案”。本公开中所说的“A和B同层设置”是指，A和B通过同一次构图工艺同时形成。

本公开至少一实施例还提供一种反射式显示面板的制备方法。该制备方法包括如下步骤：

步骤11：提供第一基板和第二基板。

例如，第一基板和第二基板可以分别为对置基板和阵列基板，例如，对置基板可以是彩膜基板。光能入射至反射式显示面板，则第一基板为透明基板，例如为玻璃基板。

步骤12：在第一基板上形成第一反射结构。

步骤13：在第二基板上形成第二反射结构。

在一种示例性实施例中，步骤13可以包括：步骤131：采用纳米压印法制备第二反射结构。

在一种示例性实施例中，步骤131可以包括：在第二基板上涂布纳米压印胶；采用纳米压印法，压印形成带有反射凹槽的反射柱；在反射凹槽内制备反射膜。

在一种示例性实施例中，反射膜可以为单层结构或多层结构，例如，反射膜可以为Ag(银)膜等高反射率的材料的单层结构。例如，反射膜可以为ITO/Ag/ITO等高反射率的材料的多层结构。如此，能够将入射到反射膜的光线反射，以获得高亮度的出光效果。

在一种示例性实施例中，压印形成的反射柱的顶端形状包括但不限于为凹形弧面，或者，可以为凸型弧面、锯齿型反射面以及平整反射面等结构。

在一种示例性实施例中，纳米压印胶水可选丙烯酸树脂以及环氧树脂中的任意一种。例如，丙烯酸树脂粘度低纳米压印填充效果较好，第二反射结构的曲面结构的微观形貌完成性良好。例如，环氧树脂粘度高固化后机械强度高。

步骤14：对盒第一基板和第二基板，在第一基板和第二基板之间填充包括黑色微粒子的墨水，以形成墨水结构层。

在一种示例性实施例中，以第一反射结构和挡墙结构采用一次工艺制备为例，该制备方法可以包括步骤21至步骤24：

步骤21：提供第一基板和第二基板。

步骤22：如图6所示，在第一基板上形成第一反射结构30和挡墙结构27。

步骤23：如图7所示，在第二基板上形成第二反射结构31。

步骤24：如图2所示，对盒第一基板和第二基板，在第一基板和第二基板之间填充包括黑色微粒子的墨水，以形成墨水结构层。

在一种示例性实施例中，以第二反射结构和挡墙结构采用一次工艺制备为例，该制备方法可以包括步骤31至步骤34：

步骤31：提供第一基板和第二基板。

步骤32：如图8所示，在第一基板上形成第一反射结构30。

步骤33：如图9所示，在第二基板上形成第二反射结构31和挡墙结构27。

在一种示例性实施例中，步骤33可以包括：采用纳米压印法制备第二反射结构和挡墙结构。如此，通过纳米压印的方式同时制备二次反射结构和挡墙，不但可以提高CID器件对比度低和亮态亮度低难题的同时，而且不会增加工序与工艺难度。

步骤34：如图2所示，对盒第一基板和第二基板，在第一基板和第二基板之间填充包括黑色微粒子的墨水，以形成墨水结构层。

对于本公开制备方法实施例中未披露的技术细节，本领域的技术人员请参照本公开显示面板实施例中的描述而理解，这里不再赘述。

虽然本公开所揭露的实施方式如上，但上述的内容仅为便于理解本公开而采用的实施方式，并非用以限定本公开。任何本公开所属领域内的技术人员，在不脱离本公开所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本公开的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。