硅片表面亲疏水性判定装置及方法

技术领域

本发明涉及硅片测试领域，具体涉及一种硅片表面亲疏水性判定装置及方法。

背景技术

硅片在生产中存在诸多应用，不同类型的硅片应用范围不同，例如，亲水性的硅片能够有效阻止污染物进入硅片内部，从而可以防止硅片受污染，继而提高了制得的硅片的品质；而疏水性的硅片可以吸收炉管内的污染物。利用疏水性硅片对炉管进行清洗，去除炉管内的污染物，且不影响晶舟的寿命等。因此，在抛光或清洗工艺过程中，就需要及时准确地发现硅片表面出现亲疏水性的变化，以便后续根据需要选择相应类型的硅片。

发明内容

因此，为了克服上述现有技术的缺点，本发明提供了一种硅片表面亲疏水性判定装置及方法。

为了实现上述目的，本发明提供一种硅片表面亲疏水性判定装置，包括：硅片承载件，用于放置硅片；多组喷淋水管，位于所述硅片转轮的上方，设置在所述硅片的两侧，用于清洗所述硅片；收集组件，用于在喷淋结束后收集所述硅片滴落的液体；亲疏水性判定组件，用于根据收集的液体判断硅片的亲疏水性。

在其中一个实施例中，所述收集组件包括：挡水盘，用于聚集所述硅片滴落的液体；收集罐，位于所述挡水盘下方，与所述挡水盘连通，用于收集所述硅片滴落的液体；固定支架，用于固定所述挡水盘和所述收集罐。

在其中一个实施例中，所述收集组件还包括与所述固定支架连接的滑轨，通过所述滑轨将所述挡水盘移动到所述硅片的下方。

在其中一个实施例中，所述亲疏水性判定组件包括：测量罐，与所述收集组件连通，用于汇集收集的液体；液位检测器，设置在所述测量罐内，用于判断硅片的亲疏水性。

在其中一个实施例中，所述硅片承载件为硅片转轮，所述喷淋水管位于所述硅片的斜上方且不高于所述硅片的高度。

本发明还提供了一种硅片表面亲疏水性判定方法，包括：将硅片放置在硅片承载件上，对硅片进行喷淋冲洗，此时收集组件未开始收集液体；待冲洗结束，所述收集组件收集预定时间内从所述硅片上滴露的液体；亲疏水性判定组件根据收集的液体判断硅片的亲疏水性。

在其中一个实施例中，所述预定时间为10s～1min。

与现有技术相比，本发明的优点在于：可以结合现有的抛光设备，通过收集预定时间内硅片表面滴落的液滴，根据收集到的液体体积来判别硅片表面的亲疏水性状况，整个设备及检测过程简单，无需其他操作，即可以完成检测，快速定性各硅片的亲疏水性且准确率高。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1是本发明的实施例中硅片表面亲疏水性判定装置的结构示意图；

图2是本发明的实施例中硅片表面亲疏水性判定装置的侧视图；以及

图3a、3b是本发明的实施例中硅片的表面示意图；

图4a、4b、4c是本发明的实施例中硅片表面亲疏水性判定方法的示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本申请实施例进行详细描述。

以下通过特定的具体实例说明本申请的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本申请的其他优点与功效。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。本申请还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本申请的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

要说明的是，下文描述在所附权利要求书的范围内的实施例的各种方面。应显而易见，本文中所描述的方面可体现于广泛多种形式中，且本文中所描述的任何特定结构及/或功能仅为说明性的。基于本申请，所属领域的技术人员应了解，本文中所描述的一个方面可与任何其它方面独立地实施，且可以各种方式组合这些方面中的两者或两者以上。举例来说，可使用本文中所阐述的任何数目和方面来实施设备及/或实践方法。另外，可使用除了本文中所阐述的方面中的一或多者之外的其它结构及/或功能性实施此设备及/或实践此方法。

还需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本申请的基本构想，图式中仅显示与本申请中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。

另外，在以下描述中，提供具体细节是为了便于透彻理解实例。然而，所属领域的技术人员将理解，可在没有这些特定细节的情况下实践方面。

如图1和图2所示，本申请实施例提供一种硅片表面亲疏水性判定装置100包括硅片承载件10、多组喷淋水管20、收集组件30和亲疏水性判定组件40。

硅片承载件10用于放置硅片1。硅片承载件可以是与硅片形状贴合的支撑轮或者支撑卡槽等。

多组喷淋水管20位于硅片转轮的上方，设置在硅片的两侧，用于清洗硅片。喷淋水管可以和现有抛光设备的清洗水管为同一水管，也可以是不同水管。

收集组件30用于在喷淋结束后收集硅片滴落的液体。收集组件可以具有收集罐以及固定收集罐的固定支架。在其中一个实施例中，收集组件30包括挡水盘31、收集罐32和固定支架33。挡水盘31用于聚集硅片滴落的液体，避免液体滴出收集罐可以收集的区域。收集罐32位于挡水盘31下方，与挡水盘31连通，用于收集硅片滴落的液体。固定支架33用于固定挡水盘31和收集罐32。在其中一个实施例中，收集组件30还包括与固定支架连接的滑轨34，通过滑轨将挡水盘移动到硅片的下方。

亲疏水性判定组件40用于根据收集的液体判断硅片的亲疏水性。在其中一个实施例中，亲疏水性判定组件40包括测量罐41和液位检测器42。测量罐41与收集组件30中的收集罐32可以通过连通阀连通，用于汇集收集的液体。液位检测器42设置在测量罐32内，用于判断硅片的亲疏水性。

如图3a和3b所示，硅片1亲水性好的，表面形成的是水膜2，硅片1疏水性好的，表面形成的是水滴3。收集结束后，液位检测器42判断此时所收集到液体液位，到达一定高度的，则认为该硅片亲水性状态良好；未到达该高度的，则可视为亲水性状态不佳。

在一个实施例中，测量罐41和收集罐32可以是同一个罐体。

上述硅片表面亲疏水性判定装置，可以结合现有的抛光设备，通过收集预定时间内硅片表面滴落的液滴，根据收集到的液体体积来判别硅片表面的亲疏水性状况，整个设备及检测过程简单，无需其他操作，即可以完成检测，快速定性各硅片的亲疏水性且准确率高。

在其中一个实施例中，硅片承载件为硅片转轮，喷淋水管位于硅片的斜上方且不高于硅片的高度。

如图4所示，本申请实施例还提供了一种硅片表面亲疏水性判定方法，包括：

将硅片放置在硅片承载件上，对硅片进行喷淋冲洗，此时收集组件未开始收集液体；

待冲洗结束，收集组件收集预定时间内从硅片上滴露的液体；

亲疏水性判定组件根据收集的液体判断硅片的亲疏水性。

在其中一个实施例中，预定时间为10s～1min。

以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。