显示面板及制备方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及制备方法、显示装置。

背景技术

显示面板(也可称为显示屏)可以有很多类型，例如，有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode，简称OLED)显示面板、量子点发光二极管(Quantum Dot Light-Emitting Diodes，简称QLED)显示面板等。

例如，OLED显示面板的发光器件是一种多层薄膜层叠设置的结构，由于发光器件中的功能材料层，例如空穴注入层、空穴传输层、空穴阻挡层、电子注入层、电子传输层、电子阻挡层等中的一层或多层，是通过真空蒸镀技术制作出来的一整层，通电时，电流会沿着这些层横向传输，使得一个子像素的发光驱动电流传输到与其相邻的子像素上，因此就会产生发光串扰和偏色问题。

发明内容

本发明的实施例提供一种显示面板及制备方法、显示装置，用以解决显示面板中电流沿功能材料层横向传输导致的发光串扰和偏色问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

第一方面，提供了一种显示面板，包括衬底基板、第一电极层、像素界定层、第一功能材料层、以及发光层。其中，第一电极层设置于衬底基板上，第一电极层包括多个第一电极。像素界定层设置于一电极层远离衬底基板的一侧，像素界定层上具有多个开口，每个开口露出第一电极的至少一部分，述开口的侧壁上设置有凹陷部，第一功能材料层设置于像素界定层远离衬底基板的一侧，且第一功能材料层位于开口中的部分在凹陷部处不连续。发光层设置于第一功能材料层远离衬底基板的一侧。

在一些实施例中，凹陷部设置于开口的侧壁的底部。

在一些实施例中，凹陷部沿开口的侧壁边沿延伸。凹陷部的内壁的横截面中两端点的连线与像素界定层的底面之间的夹角大于90°，且小于或等于160°。其中，横截面垂直于凹陷部的延伸方向。

在一些实施例中，凹陷部的内壁为平面或凹弧面。

在一些实施例中，凹陷部的高度大于或等于0.2μm，且小于或等于1μm。

在一些实施例中，一个开口对应间隔分布的多个凹陷部，或者，一个开口对应一个凹陷部，该凹陷部为环形，并且，该凹陷部围绕第一功能材料层中的孤岛部，孤岛部与开口中露出的第一电极接触。

在一些实施例中，间隔分布的多个凹陷部至少设置在开口的侧壁的相对两侧上。

在一些实施例中，发光层包括多个发光图案，每个发光图案的至少一部分位于一个开口中。多个开口中至少两个开口排成一排。在这一排中，位于每相邻两个开口处的发光图案的发光颜色不同。并且，一个开口对应间隔分布的多个凹陷部，多个凹陷部至少设置在开口的侧壁的相对两侧上，开口的侧壁的相对两侧为开口的侧壁中沿一排的延伸方向的两侧。

在一些实施例中，显示面板还包括第二功能材料层。第二功能材料层设置于发光层远离衬底基板的一侧，且第二功能材料层位于开口中的部分在凹陷部处不连续。

在一些实施例中，显示面板还包括第二电极层。第二电极层设置于第二功能材料层远离衬底基板的一侧，第二电极层为一体膜层。

在一些实施例中，第二电极层覆盖第二功能材料层中位于开口的侧壁上的部分的侧面。

第二方面，还提供了一种显示装置，显示装置包括上述任一实施例提供的显示面板。

第三方面，还提供了一种显示面板的制备方法，包括以下步骤：

在衬底基板上形成第一电极层，第一电极层包括多个第一电极；

在衬底基板上形成像素界定层，像素界定层设置于第一电极层远离衬底基板的一侧，像素界定层上具有多个开口，每个开口露出第一电极的至少一部分，开口的侧壁上设置有凹陷部；

在衬底基板上形成第一功能材料层，第一功能材料层设置于像素界定层远离衬底基板的一侧，且第一功能材料层位于开口中的部分在凹陷部处不连续；

在衬底基板上形成发光层，发光层设置于第一功能材料层远离衬底基板的一侧。

在一些实施例中，在衬底基板上形成像素界定层包括以下步骤：

在衬底基板上形成初始像素界定层，初始像素界定层上具有多个第一开口，每个第一开口露出第一电极的至少一部分；

在形成有初始像素界定层的衬底基板上形成掩膜层，掩膜层上具有多个第二开口，每个第二开口对应于一个第一开口，并将第一开口的侧壁的底部露出；

对初始像素界定层中多个第二开口露出的部分进行刻蚀，形成凹陷部，以得到像素界定层。

在本发明实施例提供的显示面板中，像素界定层上具有多个开口，每个开口可以露出第一电极的至少一部分，这样，一个开口便可以对应一个子像素。在一个子像素中，在像素界定层开口的侧壁上可以设置有凹陷部，设置在该开口中的第一功能材料层可以在凹陷部处不连续。这样，当子像素通电时，电流在第一功能层不连续处无法通过第一功能层传输，电流也就无法通过第一功能材料层从一个子像素横向传输至相邻子像素中。这样，便可以解决显示面板中电流沿功能材料层横向传输导致的发光串扰和偏色问题。

可以理解地，第二方面所述的显示装置包括上述的显示面板，第三方面所述的显示面板的制备方法用于制备上述显示面板，因此，其所能达到的有益效果可参考上文中显示面板的有益效果，此处不再赘述。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视图；

图2A为本发明实施例提供的显示面板的局部俯视图；

图2B为图2A中沿AA’剖面线的剖视图；

图2C为本发明实施例提供的另一种显示面板沿AA’剖面线的剖视图；

图2D为本发明实施例提供的另一种显示面板的局部俯视图；

图3A为本发明实施例提供的显示面板中像素界定层的一个开口的结构图；

图3B为本发明实施例提供的显示面板中像素界定层的一个开口的结构图；

图4为本发明实施例提供的显示面板中，沿图3A中SS’剖面线的凹陷部内壁的截面图；

图5为本发明实施例提供的显示面板中像素界定层的一个开口的结构图；

图6为本发明实施例提供的显示面板的部分剖视图；

图7为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程图；

图8A～图8F为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的工艺流程图；

图9为本发明实施例提供的显示面板的制备方法中部分步骤的流程图；

图10A～图10D为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的部分工艺流程图；

图11是不同夹角下侧向漏电程度的示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明实施例的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

除非上下文另有要求，否则，在整个说明书和权利要求书中，术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一个实施例(one embodiment)”、“一些实施例(some embodiments)”、“示例性实施例(exemplary embodiments)”、“示例(example)”、“特定示例(specific example)”或“一些示例(some examples)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本公开的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。

以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本公开实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在描述一些实施例时，可能使用了“耦接”和“连接”及其衍伸的表达。例如，描述一些实施例时可能使用了术语“连接”以表明两个或两个以上部件彼此间有直接物理接触或电接触。又如，描述一些实施例时可能使用了术语“耦接”以表明两个或两个以上部件有直接物理接触或电接触。然而，术语“耦接”或“通信耦合(communicatively coupled)”也可能指两个或两个以上部件彼此间并无直接接触，但仍彼此协作或相互作用。这里所公开的实施例并不必然限制于本文内容。

“A、B和C中的至少一个”与“A、B或C中的至少一个”具有相同含义，均包括以下A、B和C的组合：仅A，仅B，仅C，A和B的组合，A和C的组合，B和C的组合，及A、B和C的组合。

“A和/或B”，包括以下三种组合：仅A，仅B，及A和B的组合。

“多个”是指至少两个。

本文中“适用于”或“被配置为”的使用意味着开放和包容性的语言，其不排除适用于或被配置为执行额外任务或步骤的设备。

另外，“基于”的使用意味着开放和包容性，因为“基于”一个或多个所述条件或值的过程、步骤、计算或其他动作在实践中可以基于额外条件或超出所述的值。

如本文所使用的那样，“约”、“近似”或“大致”包括所阐述的值以及处于特定值的可接受偏差范围内的平均值，其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)所确定。

本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如，示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状，并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。

本发明的实施例提供了一种显示装置。显示装置可以用于实现显示图像(即画面)功能。显示装置可以包括显示器或包含显示器的产品。其中，显示器可以是平板显示器(Flat Panel Display，FPD)或微型显示器。若按照用户能否看到显示器背面的场景划分，显示器可以是透明显示器或不透明显示器。若按照显示器能否弯折或卷曲，显示器可以是柔性显示器或普通显示器(可以称为刚性显示器)。示例的，包含显示器的产品可以包括：计算机显示器，电视，广告牌，具有显示功能的激光打印机，电话，手机，个人数字助理(Personal Digital Assistant，PDA)，膝上型计算机，数码相机，便携式摄录机，取景器，车辆，大面积墙壁，监视器，剧院的屏幕或体育场标牌等。

显示装置可以包括显示面板。显示面板可以是OLED(Organic Light EmittingDiode，有机发光二极管)显示面板、QLED(Quantum Dot Light Emitting Diodes，量子点发光二极管)显示面板等。

此外，显示装置还可以包括其他部件，例如，用于向显示面板提供电信号，以驱动该显示面板发光的电路，该电路可以称为控制电路，其可以包括与显示面板电连接的电路板和/或IC(Integrate Circuit，集成电路)；又如，对显示面板进行供电的电源系统等。

图1是本发明的一些实施例提供的显示面板的俯视图。参见图1，显示面板100包括多个子像素P。每个子像素P包括多个相互耦接的部件，示例性地，一个子像素可以包括一个发光器件E和控制发光器件E发光的像素驱动电路M，使得每个子像素P均可以发出光。

其中，显示面板100中的多个子像素P可以包括多个第一子像素P1、多个第二子像素P2、以及多个第三子像素P3。其中，第一子像素P1、第二子像素P2、以及第三子像素P3可以发出不同颜色的光。例如，一个显示面板中的三种子像素发出的光的颜色可以是光的三原色：红(R)、绿(G)、蓝(B)，相应地，第一子像素P1可以发出红光，第二子像素P2可以发出绿光，第三子像素P3可以发出蓝光。在此，为了便于描述，把显示面板100中发出红(R)、绿(G)、蓝(B)颜色的光的子像素分别称为R子像素、G子像素和B子像素，例如，第一子像素P1可以是R子像素，第二子像素P2可以是G子像素，第三子像素P3可以是B子像素。

发光器件E可以包括两个电极，例如，阳极和阴极，以及设置在两个电极之间的发光层。

其中，发光层可以发出光，不同的发光层可以发出不同颜色的光，使得第一子像素P1、第二子像素P2、第三子像素P2可以相应地发出不同颜色的光。例如，R子像素中，发光器件的发光层可以发出红光；G子像素中，发光器件的发光层可以发出绿光；B子像素中，发光器件的发光层可以发出蓝光。

图2A是本发明的一些实施例提供的显示面板的部分俯视图，图2B是图2A中的显示面板沿AA’剖面线的剖视图。参见图2A和图2B，显示面板100可以包括衬底基板110、第一电极层120、像素界定层130、第一功能材料层140、以及发光层150。显示面板100还可以包括第二功能材料层160和/或第二电极层170。为了方便说明，图2A仅示出了第一电极层120以及凹陷部40的结构和位置关系，而省略了显示面板的其他一些结构。

下面，将分别对显示面板100的上述各层进行介绍。

衬底基板110可以是刚性的，也可以是柔性的。当衬底基板110为刚性衬底基板时，形成该刚性衬底基板的材料可以是玻璃，当衬底基板为柔性衬底基板时，形成该柔性衬底基板的材料可以是PI(聚酰亚胺)、PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、超薄玻璃等。

衬底基板110为显示面板100中的其他结构提供基础，显示面板中的例如第一电极层120、像素界定层130、第一功能材料层140、发光层150、第二功能材料层160、以及第二电极层170等结构可以在衬底基板110上形成。其中，第一电极层120、第一功能材料层140、发光层150、第二功能材料层160、以及第二电极层170中的多层可以形成发光器件E，即，衬底基板110上可以设置有多个发光器件E。示例性地，衬底基板110上设置有发光器件E1、发光器件E2、以及发光器件E3。相应地，在多个发光器件E中，各个发光器件E的相应的结构可以同层设置。示例性地，发光器件E1的一个电极120a、发光器件E2的相应电极120b、以及发光器件E3的相应电极120c可以同层设置，例如，均设置在第一电极层120上。对于发光器件E的其他结构，亦可以按照上述模式同层设置，在此不再赘述。

第一电极层120设置于衬底基板110上。第一电极层120的材料可以包括金属及合金，例如Al、Mg、Ag等，还可以包括金属氧化物，例如ITO(氧化铟锡)、IZO(氧化铟锌)等。

第一电极层120可以包括多个第一电极，每个第一电极可以对应一个发光器件，作为该发光器件的一个电极，例如，第一电极可以是发光器件的阳极。示例性地，第一电极120a可以是发光器件E1的一个电极，例如，第一电极120a可以是发光器件E1的阳极；第一电极120b可以是发光器件E2的一个电极，例如，第一电极120b可以是发光器件E2的阳极；第一电极120c可以是发光器件E3的一个电极，例如，第一电极120c可以是发光器件E3的阳极。

像素界定层130设置于衬底基板上，进一步地，像素界定层130可以设置于第一电极层120远离衬底基板110的一侧。像素界定层130被配置为界定显示面板100中的各个子像素P中发光器件E的位置，进一步地还可以界定各个发光器件E的发光区域的形状和大小。

像素界定层130可以具有多个开口H，示例性地，像素界定层130包括开口H1、开口H2、以及开口H3。像素界定层130的开口H是指像素界定层130的部分材料被去除后在像素界定层130中产生的空隙(或者说是通孔)。像素界定层130的各个开口H的形状、大小可以根据实际需要配置。示例性地，当像素界定层130的每个开口H的形状、大小均相同时，像素界定层130可以形成均匀网格结构；又示例性地，像素界定层130包括至少两个大小和/或形状不同的开口H。

在像素界定层130的多个开口H中，每个开口H可以露出第一电极的至少一部分。示例性地，开口H1可以对应发光器件E1，开口H1可以露出发光器件E1的第一电极120a的一部分，使得发光器件E1的其他结构可以位于该开口中。示例性地，发光器件E1可以包括：第一电极120a；第一功能材料层140位于开口H1中的部分，例如包括第一功能材料层部分141a、第一功能材料层部分142a；发光层150中位于开口H1中的部分150a、以及第二电极层170位于开口H1中的部分170a。

进一步地，图3A示出了像素界定层130的一个开口H的结构。参见图3A，由于像素界定层130具有一定的厚度d1，因此，像素界定层130的一个开口H也可以包括沿其厚度方向(例如y方向)上分布的上开口10和下开口20、以及上开口10与下开口20之间的侧壁30。其中，开口H的侧壁30可以包括至少一个子侧壁，示例性地，开口H可以具有4个子侧壁，即子侧壁30a、子侧壁30b、子侧壁30c、以及子侧壁30d。

在像素界定层130的开口H的侧壁30上设置有凹陷部40。相比于侧壁30的其他部分，凹陷部40可以向远离开口H的方向缩进，示例性地，相比于侧壁30的其他部分，凹陷部40可以在平行于x方向上，并且在远离开口H的方向缩进。例如，图2A示出了凹陷部40的上边沿42在衬底基板上的正投影、以及凹陷部40的下边沿43在衬底基板上的正投影，其中，参见图2B，凹陷部40的上边沿42可以是凹陷部40远离衬底基板110的边沿，凹陷部40的下边沿43可以是凹陷部40靠近衬底基板110的边沿。继续参见图2A，在凹陷部40中，其下边沿43相比于上边沿42沿平行于x的方向且远离开口的方向缩进。

在一些实施例中，参见图3B，凹陷部40可以设置在开口H的侧壁30的中部，示例性地，子侧壁30a的中部设置有凹陷部40a，子侧壁30d的中部设置有凹陷部40b。在另一些实施例中，参见图3A，凹陷部40可以设置在开口H的侧壁30的底部。示例性地，子侧壁30a的底部设置有凹陷部40a，子侧壁30d的底部设置有凹陷部40b。由于凹陷部40设置在开口H的侧壁30的底部，在工艺上容易实现凹陷部40的制作，例如，可以使用过刻工艺实现凹陷部40的制作。

本发明对侧壁30上一个子侧壁上设置的凹陷部40的数量不做限制，一个子侧壁上可以设置有一个或多个凹陷部40，例如，参见图3A，一个子侧壁30a上设置有一个开口40。

参见图2B，第一功能材料层140以及发光层150可以设置在衬底基板110上。其中，第一功能材料层140可以设置于像素界定层130远离衬底基板110的一侧。并且，发光层150可以设置于第一功能材料层140远离衬底基板110的一侧，即，在显示面板100的厚度方向(例如y方向)上，第一功能材料层140可以位于发光层150与衬底基板110之间。

第一功能材料层140可以是单层结构，也可以是多层结构。第一功能材料层140可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层中的一种或多种，层数不限，只要能实现空穴的注入与传输即可。第一功能材料层还可以包括电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层中的一种或多种，层数不限，只要能实现电子的注入与传输即可。

在一些实施例中，第一功能材料层140可以包括功能材料层141和功能材料层142。其中，示例性地，功能材料层141可以是空穴注入层，功能材料层142可以是空穴传输层。又示例性地，功能材料层141可以是电子注入层，功能材料层142可以是电子传输层。

其中，空穴注入层和空穴传输层分别用来注入和传输空穴，空穴注入层可以使用p型掺杂的材料制成，例如，将2,3,5,6-四氟-7,7',8,8'-四氰二甲基对苯醌(F4-TCNQ)掺杂到空穴传输型材料中形成空穴注入层，空穴传输层可以使用具有高空穴迁移率的一类材料制成，例如，芳胺类和枝聚物族类低分子材料，如N'-二(1-萘基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺(NPB)、1,1'-联苯-4,4'-二胺(TPD)等；电子注入层和电子传输层分别用来注入和传输电子，其中，电子传输层的材料通常为具有大共轭平面的芳香族化合物，例如，恶唑衍生物，恶二唑衍生物，三唑衍生物等；电子注入层可采用注入性能较好的金属或无机材料，如Yb，Li，LiF等；电子阻挡层和空穴阻挡层可以分别用来阻挡电子和空穴朝向某一特定方向的传输；电子阻挡型材料和空穴传输型材料类似，但具有更深的HOMO能级和LUMO能级，空穴阻挡层材料和电子传输型材料类似，但具有更浅的HOMO能级和LUMO能级。

发光层150是实际发出光的膜层，制作发光层150的发光材料可以在空穴与电子复合产生的能量下被激发，进而辐射发光，不同颜色的光对应不同的发光材料，例如，发蓝光的材料可以选用9-(1-萘基)-10-(2-萘基)蒽及其衍生物，并掺杂蓝色荧光材料。发红、绿光的材料可以选用双主体材料共蒸或预混蒸镀，即由具有空穴传输和电子传输的两种材料组成，其中空穴型材料通常为咔唑类及其衍生物，电子型材料通常为三嗪类衍生物。

在一些实施例中，发光层150包括多个发光图案，例如，发光图案150a、发光图案150b、以及发光图案150c。一个发光图案可以对应一个发光器件E，每个发光图案的至少一部分位于一个开口H中。例如，发光图案150a对应发光器件E1，位于开口H1中；发光图案150b对应发光器件E2，位于开口H2中；发光图案150c对应发光器件E3，位于开口H3中。位于不同开口H中的不同发光图案可以发射不同颜色的光。例如，位于开口H1中的发光图案150a可以发射红光，位于开口H2中的发光图案150b可以发射绿光，位于开口H3中的发光图案150c可以发射蓝光。

在本发明实施例提供的显示面板中，由于像素界定层130的开口H中设置有凹陷部40，使得第一功能材料层140中位于像素界定层130的开口H中的部分在凹陷部40处不连续。在第一功能材料层140不连续处，电流无法通过第一功能材料层140从一个发光器件E流至另一个发光器件E，可以解决由于电流通过第一功能材料层140在不同发光器件之间横向流动而引起的串扰和偏色问题。

在一些实施例中，参见图3A，凹陷部40a沿开口H中子侧壁30a的边沿31延伸。图4示出了图3A中的凹陷部沿SS’剖面线的横截面，其中，横截面S垂直于凹陷部40a的延伸方向(例如平行于图3A中的z方向)。参见图3A和图4，横截面S中两端点A、B的连线与像素界定层130的底面131之间的具有夹角α，并且，夹角α大于90°且小于或等于160°。由于夹角α大于90°且小于或等于160°，因此，凹陷部40a的形状可以使得第一功能材料层140更易于在凹陷部40a处不连续，进而实现本发明的目的。并且，参见图11，夹角α越大，侧向漏电的程度越小，示例性地，当夹角α为135°时，相比于夹角α为0°和90°，侧向漏电的程度更小。由于夹角α越大，凹陷部40沿远离开口的方向的缩进程度越大，越容易使得第一功能材料层140断开，因此，能够改善侧向漏电的程度。

在一些实施例中，参见图3A，凹陷部40的高度d2大于或等于0.2μm，且小于或等于1μm。由于凹陷部40具有一定的高度，例如，d2大于第一功能材料层140的厚度，因而可以实现第一功能材料层140在凹陷部40处不连续。

在一些实施例中，参见图3A，凹陷部40的内壁41可以是凹弧面。在另一些实施例中，参见图5，凹陷部40的内壁41还可以是平面。

在一些实施例中，一个开口H可以对应间隔分布的多个凹陷部40。可以在像素界定层130的开口H的一个子侧壁上设置有凹陷部40，还可以在像素界定层130的开口H的多个(例如，两个；又如，每个)子侧壁上设置有凹陷部40。

在一些可能的实现方式中，参见图3A，多个凹陷部40可以至少设置在开口H的侧壁的相对两侧上。例如，子侧壁30a与子侧壁30d为开口H的侧壁中位于相对两侧的两个子侧壁，在子侧壁30a上设置有凹陷部40a，并且，在子侧壁30d上也设置有凹陷部40b。

进一步地，参见图6，像素界定层130的多个开口H中，至少两个开口H可以排成一排。示例性地，开口H1、开口H2、以及开口H3可以沿平行于x方向排成一排。并且，在这一排开口H中，位于每相邻两个开口H处的发光图案的发光颜色不同。示例性地，位于开口H1中的发光图案150a可以发射红光，位于开口H2中的发光图案150b可以发射绿光，位于开口H3中的发光图案150c可以发射蓝光。在这种情况下，对于每个开口H的侧壁，可以侧壁的沿这一排开口的延伸方向(例如平行于x方向)的两侧上设置凹陷部40。示例性地，以开口H2为例，可以在开口H2的靠近开口H1的子侧壁30a上设置有凹陷部40a，在开口H2的靠近开口H3的子侧壁30d上设置有凹陷部40b。第一功能材料层140可以在凹陷部40a、以及凹陷部40b处不连续，使得电流无法在凹陷部40a处通过第一功能材料层140从发光器件E2流至发光器件E1，也无法在凹陷部40b处通过第一功能材料层140从发光器件E2流至发光器件E3，可以解决由于电流通过第一功能材料层140在不同发光器件之间横向流动而引起的串扰和偏色问题。

在一些实施例中，参见图2D，一个开口可以对应一个凹陷部40，该凹陷部40可以是环形。图2D中示出了第一功能材料层的孤岛部140a在衬底基板上的正投影。参见图2B，以开口H1部分为例，第一功能材料层140的孤岛部140a可以是第一功能材料层140中位于开口H1中的、与第一电极120a接触的部分。即，在开口H1中，孤岛部140a与开口H1露出的第一电极120a接触。由于凹陷部40是环形，因此，第一功能材料层120位于开口H1中的部分可以在凹陷部40处不连续，使得凹陷部40可以围绕第一功能材料层中的孤岛部140a。这样，电流既无法在凹陷部40处通过第一功能材料层120沿平行于x的方向横向传输，又无法在凹陷部40处通过第一功能材料层120沿平行于y方向纵向传输，可以解决由于电流通过第一功能材料层140在不同发光器件之间横向和/或纵向流动而引起的串扰和偏色问题。

继续参见图2B，本公开实施例提供的显示面板100还可以包括第二功能材料层160。第二功能材料层160可以设置在发光层150远离衬底基板110的一侧。第二功能材料层160的性质和功能与第一功能材料层140类似，在此不再赘述。需要说明的是，在一个发光器件E中，第一功能材料层140与第二功能材料层160可以相互配合地发挥功能。例如，当第一功能材料层140起到注入和/或传输空穴的作用时，第二功能材料层160则可以起到注入和/或传输电子的作用；当第一功能材料层140起到注入和/或传输电子的作用时，第二功能材料层160则可以起到注入和/或传输空穴的作用。

在一些实施例中，第二功能材料层160位于开口H中的部分在凹陷部40处不连续。当凹陷部40的高度d2较大时，例如d2大于第二功能材料层160、以及第二功能材料层160与第一电极层120之间各个层(例如图2中的发光层150和第一功能材料层140)的厚度之和，此时，第二功能材料层160位于开口H中的部分可以在凹陷部40处不连续，可以进一步地解决由于电流通过第二功能材料层160在不同发光器件之间横向流动而引起的串扰和偏色问题。

在一些实施例中，参见图2B和图2C，本公开实施例提供的显示面板100还可以包括第二电极层170。第二电极层170可以设置在衬底基板110上，并且，可以设置在第二功能材料层160远离衬底基板110的一侧。第二电极层170可以是一体膜层。其中，一体膜层是该膜层仅具有一个封闭的外轮廓线，即该膜层在衬底基板上的正投影仅具有一个封闭的外轮廓线。由于第二电极层170是一体膜层，因此，第二电极层170位于各个开口中的部分可以是相互连接的。这样，向第二电极层170输入一个电信号，便可以向第二电极层170位于各个开口中的相应部分输入相同的电信号。

在一些可能的实现方式中，第二电极层170位于开口H中的部分可以在凹陷部40处不连续。示例性地，参见图3A，由于开口H的子侧壁30a和子侧壁30d上均设置有凹陷部40，因此，在该开口H中，第二电极层170可以在平行于x方向上不连续。又因为开口H的子侧壁30c和30d上没有设置凹陷部40，因此，第二电极层170在平行于y方向上可以是连续的，使得在开口H带有凹陷部40的情况下，第二电极层170仍可以是一体膜层。

在另一些可能的实现方式中，参见图2C，以开口H1中对应的部分为例，第二功能材料层160中位于开口H1的侧壁上的部分可以具有侧面，例如侧面161a’以及侧面162a’，第二电极层170可以覆盖该侧面。示例性地，第二功能材料层170位于开口H1中的部分可以连续，即在开口H中，第二电极层170可以是连续的一整层。这样，可以降低第二电极层170上的电阻，进而提升显示面板的显示效果。

本发明的一些实施例还提供了一种显示面板的制备方法，使用该方法可以制备上述任一实施例提供的显示面板。图7是该方法的流程图，图8A～图8F是该方法的工艺流程图。该方法包括以下步骤：

S100、在衬底基板上形成第一电极层。

其中，参见图8A，第一电极层120可以设置于衬底基板110上，第一电极层120可以包括多个第一电极，例如第一电极120a、第一电极120b、以及第一电极120c。

在一些实施例中，可以采用溅射工艺制作第一电极层120。

在一些实施例中，可以采用蚀刻工艺，利用光刻胶材料，将第一电极层120图案化，形成多个第一电极。

S200、在衬底基板上形成像素界定层。

其中，参见图8B，像素界定层130可以设置于第一电极层120远离衬底基板110的一侧。像素界定层130上可以具有多个开口H，每个开口H露出第一电极(例如第一电极120a、第一电极120b、以及第一电极120c)的至少一部分。并且，开口H的侧壁上设置有凹陷部40。

在一些实施例中，可以采用蚀刻工艺，利用光刻胶材料，在像素界定层130上形成多个开口H。

在一些实施例中，像素界定层130的材料可以是光刻胶材料，此时，可以直接采用蚀刻工艺，通过曝光工艺和显影工艺在像素界定层130上形成多个开口H。

在一些实施例中，参见图9，S200可以包括以下步骤：

S211、在衬底基板上形成初始像素界定层。

其中，参见图10A，初始像素界定层200上具有多个第一开口210，每个第一开口210可以露出第一电极(例如第一电极120a、第一电极120b、以及第一电极120c)的至少一部分。

在一些实施例中，可以采用蚀刻工艺，利用光刻胶材料，在初始像素界定层200上形成第一开口210。

在一些实施例中，初始像素界定层200可以是光刻胶材料，此时，可以直接采用蚀刻工艺，通过曝光工艺和显影工艺在初始像素界定层200上形成第一开口210。示例性地，初始像素界定层200可以是负性光刻胶，其材料可以是聚酰亚胺或其他具有光敏感特性的有机材料，此有机材料具有照光分解的特性。

S212、在形成有初始像素界定层的衬底基板上形成掩膜层。

其中，参见图10B，掩膜层300上具有多个第二开口310，每个第二开口310对应于第一开口210，并将第一开口210的侧壁的底部露出，例如，第一开口210中，以第一开口210a为例，其侧壁的底部211没有被掩膜层300覆盖，使得第二开口310a可以露出第一开口210a中的底部211。

在一些实施例中，掩膜层300的材料可以是光刻胶材料，可以通过曝光显影工艺在掩膜层300上形成第二开口310。当初始像素界定层200也是光刻胶材料时，掩膜层300的材料和初始像素界定层200的材料不同，并且，可以使用不同刻蚀液，这样，在蚀刻掩膜层300而形成第二开口310时，可以使得初始像素界定层200的结构不被破坏。

S213、对初始像素界定层中多个第二开口露出的部分进行刻蚀，形成凹陷部，以得到像素界定层。

其中，参见图10B和图10C，对初始像素界定层200中多个第二开口210露出的部分进行刻蚀，例如，对第一开口210a的底部211进行刻蚀，形成凹陷部40，以得到像素界定层130。

在一些实施例中，由于初始像素界定层200的材料是负性光刻胶，因此，可以继续使用曝光显影工艺对初始像素界定层200进一步刻蚀，以得到凹陷部40。

在一些实施例中，参见图10C和图10D，在对第二开口210刻蚀完成后，可以将掩膜层300洗掉，以得到如图10D所示的结构。

继续参见图7，本发明实施例提供的显示面板的制备方法还可以包括以下步骤：

S300、在衬底基板上形成第一功能材料层。

其中，参见图8C，第一功能材料层140的材料及结构可以如上文所述，在此不再赘述。第一功能材料层140可以设置于像素界定层130远离衬底基板110的一侧，且第一功能材料层140位于开口中H的部分在凹陷部40处不连续。

在一些实施例中，第一功能材料层140的材料是有机材料，可以使用蒸镀的工艺形成第一功能材料层140。

S400、在衬底基板上形成发光层。

其中，参见图8D，发光层150可以设置于第一功能材料层140远离衬底基板110的一侧。

在一些实施例中，发光层150可以包括多个发光图案，例如发光图案150a、发光图案150b、以及发光图案150c。不同发光图案的材料可以不同，使得不同的发光图案可以发射不同颜色的光。可以使用精细掩膜板，采用蒸镀的工艺，形成发光层150上的发光图案，例如发光图案150a、发光图案150b、以及发光图案150c。

S500(可选的)、在衬底基板上形成第二功能材料层。

其中，参见图8E，第二功能材料层160可以设置于发光层150远离衬底基板110的一侧。第二功能材料层160的结构及材料可以如上文所述，在此不再赘述。

在一些实施例中，第二功能材料层160位于开口H中的部分在凹陷部40处不连续。

S600(可选的)、在衬底基板上形成第二电极层。

其中，参见图8F，第二电极层170可以设置于发光层150远离衬底基板110的一侧。

在一些实施例中，可以使用溅射的工艺形成第二电极层170。

经过以上步骤，可以在衬底基板110上形成发光器件E。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。