显示面板及其制备方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

随着OLED技术的广泛发展和应用深入，对具有更优视觉体验的高屏占比(甚至全面屏)显示屏的追求已成为当前显示技术发展的潮流之一。为了减少摄像头对屏占比的影响，实现全面屏，不同厂家从不同的角度开发多种解决方案，其中一种改进方案是将前置摄像模组设置在现有的OLED显示面板的后端，即采用屏下摄像头的方式。

目前，设置屏下摄像头OLED显示面板通常包括双层柔性衬底。常用的柔性衬底的材料为聚酰亚胺(Polyimide，PI)。PI材料通常为淡黄色，当显示面板的设置屏下摄像头时，PI材料不利于外界环境的光线进入到摄像头中，导致摄像头的成像效果较差。

发明内容

本申请的目的在于提供一种显示面板及其制备方法，以解决现有的显示面板的屏下摄像头进光量较少和成像效果较差的问题。

本申请实施例提供一种显示面板，包括相邻设置的屏下摄像区和非屏下摄像区，所述显示面板包括：

第一柔性衬底，具有相对设置的第一面和第二面，所述第一面设置有凹槽, 所述凹槽位于所述屏下摄像区；

第一缓冲层，位于所述第一面上；

第二柔性衬底，位于所述第一缓冲层远离所述第一柔性衬底的一侧；

第二缓冲层，位于所述第二柔性衬底远离所述第一缓冲层的一侧。

在一些实施例中，所述第二柔性衬底包括开孔，所述开孔位于所述第二柔性衬底远离所述第一缓冲层的一侧，其中，所述凹槽和所述开孔对应设置。

在一些实施例中，所述开孔贯穿所述第二柔性衬底，所述第二缓冲层通过所述开孔与所述第一缓冲层连接。

在一些实施例中，所述开孔在垂直于所述第二柔性衬底的厚度方向上的截面面积大于或等于所述凹槽在垂直于所述第一柔性衬底的厚度方向上的截面面积。

在一些实施例中，所述第一柔性衬底包括多个所述凹槽，多个所述凹槽设置在所述屏下摄像区内。

在一些实施例中，所述凹槽为环形凹槽，多个所述环形凹槽同心设置。

在一些实施例中，所述显示面板还包括发光器件层，所述发光器件层位于所述第二缓冲层远离所述第二柔性衬底的一侧；所述发光器件层包括多个像素，多个所述像素分布在所述屏下摄像区和所述非屏下摄像区，其中，

所述屏下摄像区的像素排布密度小于所述非屏下摄像区的像素排布密度。

在一些实施例中，所述显示面板还包括驱动电路层，所述驱动电路层位于所述发光器件层与所述第二缓冲层之间，所述驱动电路层用于控制所述像素发光；所述驱动电路层包括多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管与所述像素一一对应，其中，

连接所述屏下摄像区的像素的薄膜晶体管位于所述非屏下摄像区。

在一些实施例中，所述显示面板还包括阻挡件，所述阻挡件位于所述第二缓冲层远离所述第二柔性衬底的一侧，且所述阻挡件位于所述屏下摄像区和所述非屏下摄像区之间。

在一些实施例中，所述第一柔性衬底和所述第二柔性衬底的材料为透明聚酰亚胺材料或透明聚酯材料。

本申请实施例还提供一种显示面板的制备方法，包括：

提供第一柔性衬底，所述第一柔性衬底具有相对设置的第一面和第二面；

在所述第一面形成凹槽，所述凹槽位于所述显示面板的屏下摄像区；

在所述第一面上形成第一缓冲层；

在所述第一缓冲层上形成第二柔性衬底；

在所述第二柔性衬底上形成第二缓冲层。

本申请实施例提供一种显示面板。显示面板具有相邻设置的屏下摄像区和非屏下摄像区。显示面板包括第一柔性衬底、第一缓冲层、第二柔性衬底和第二缓冲层。第一柔性衬底具有相对设置的第一面和第二面。第一面设置有凹槽。凹槽位于屏下摄像区。第一缓冲层位于第一面。第二柔性衬底位于第一缓冲层远离第一柔性衬底的一侧。第二缓冲层位于第二柔性衬底远离第一缓冲层的一侧。本申请实施例通过在第一柔性衬底的屏下摄像区域设置凹槽，减薄了屏下摄像区中柔性衬底的厚度，提高了屏下摄像区的光线透过率，改善了屏下摄像头的成像效果。

附图说明

为了更清楚地说明本申请的实施例的技术方案，下面将对本申请的实施例描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是申请的一些实施例和实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。

图2为本申请实施例提供的显示面板第一种实施方式沿AA’线的剖面结构示意图。

图3为本申请实施例提供的显示面板第二种实施方式沿AA’线的剖面结构示意图。

图4为本申请实施例提供的显示面板第三种实施方式沿AA’线的剖面结构示意图。

图5为本申请实施例提供的显示面板第四种实施方式沿AA’线的剖面结构示意图。

图6为本申请实施例提供的显示面板第五种实施方式沿AA’线的剖面结构示意图。

图7为图6的显示面板在P处的局部放大图。

图8为本申请实施例提供的第一柔性衬底的第一种实施方式的结构示意图。

图9为本申请实施例提供的第一柔性衬底的第二种实施方式的结构示意图。

图10为本申请实施例提供的显示面板的制备方法的流程图。

图11为本申请实施例提供的在第一柔性衬底的第一面形成凹槽的流程图。

图12为本申请实施例提供的在第一柔性衬底的第一面形成凹槽的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

需要说明的是，本申请所提到的[第一]和[第二]等序号用语并不代表任何顺序、数量或者重要性，只是用于区分不同的部分。本申请所提到的[上]、[下]、 [左]和[右]等方向用语仅是参考附加图式的方向。本申请提及的[一侧]和[另一侧]等位置关系用语仅用于区分不同的部分。因此，使用的序号用语、方向用语和位置关系用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征的[一侧]、[上]或[下]可以包括第一和第二特征直接接触；也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。贯穿整个说明书，相同的附图标记表示相同的元件。因为附图所例示的各个组件的尺寸和厚度是为了说明方便表示的，所以本公开未必限于各个组件的所例示的尺寸和厚度。

结合图1和图2，图1为本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。图2 为本申请实施例提供的显示面板第一种实施方式沿AA’线的剖面结构示意图。

显示面板100包括屏下摄像区110和非屏下摄像区120。屏下摄像区110和非屏下摄像区120相邻设置。屏下摄像区110是指显示面板100放置摄像头的区域。非屏下摄像区120是指显示面板100除屏下摄像区110以外的区域。在本申请中，摄像头(图中未显示)位于屏下摄像区110，且摄像头设置在显示面板100远离出光面的一侧。

显示面板100包括第一柔性衬底10、第一缓冲层20、第二柔性衬底30和第二缓冲层40。第一柔性衬底10具有相对设置的第一面10a和第二面10b。第一柔性衬底10的第一面10a设置有凹槽11。凹槽11位于显示面板100的屏下摄像区 110。第一柔性衬底10的第二面10b的屏下摄像区110设置摄像头(图中未显示)。第一缓冲层20位于第一柔性衬底10的第一面10a。第一缓冲层20覆盖凹槽11，即第一缓冲层20靠近第一柔性衬底10的一侧具有一延伸部(图中未标识)，延伸部延伸至凹槽11中。第二柔性衬底30位于第一缓冲层20远离第一柔性衬底10 的一侧。第二缓冲层40位于第二柔性衬底30远离第一缓冲层20的一侧。

可以理解的是，第一面10a可以为第一柔性衬底10的上表面，第二面10b 可以为第一柔性衬底10的下表面。当然，第一面10a也可以为第一柔性衬底10 的下表面，第二面10b可以为第一柔性衬底10的上表面。在本申请中不做特殊说明的情况下，默认第一面10a为第一柔性衬底10的上表面，第二面10b为第一柔性衬底10的下表面。

在一些实施方式中，第一柔性衬底10和第二柔性衬底30的厚度为6微米至 12微米。具体的，第一柔性衬底10和第二柔性衬底30的厚度可以为6微米、8 微米、9微米、10微米或12微米。第一柔性衬底10和第二柔性衬底30的厚度可以相同，也可以不相同。

在一些实施方式中，第一缓冲层20和第二缓冲层40的厚度为100纳米至600 纳米。具体的、第一缓冲层20和第二缓冲层40的厚度可以为100纳米、200纳米、 300纳米、400纳米、500纳米或600纳米。第一缓冲层20和第二缓冲层40的厚度可以相同，也可以不相同。

在一些实施方式中，凹槽11的深度为1微米至3微米。具体的，凹槽11的深度可以为1微米、1.5微米、2微米、2.5微米或3微米。

本申请通过在显示面板100的第一柔性衬底10的屏下摄像区110设置凹槽 11，从而减薄了屏下摄像区110柔性衬底的厚度，有利于环境光线透过显示面板，增加屏下摄像头的进光量，提高屏下摄像头的成像效果。

显示面板100还包括驱动电路层50和发光器件层60。驱动电路层50和发光器件层60位于第二缓冲层40远离第二柔性衬底30的一侧。驱动电路层50位于发光器件层60和第二缓冲层40之间。发光器件层60位于驱动电路层50远离第二缓冲层40的一侧。

发光器件层60包括多个像素61。多个像素61分布在显示面板100的屏下摄像区110和非屏下摄像区120，其中，屏下摄像区110的像素排布密度小于非屏下摄像区120的像素排布密度。

本申请通过设置屏下摄像区110的像素的排布密度小于非屏下摄像区120 的像素排布密度，可以进一步提高显示面板100屏下摄像区110的光线透过率，增加屏下摄像头的进光量，进一步提高屏下摄像头的成像效果。

驱动电路层50用于控制发光器件层60的像素61发光。驱动电路层50包括多个薄膜晶体管51，薄膜晶体管51与像素61一一对应。连接屏下摄像区110的像素61的薄膜晶体管51位于非屏下摄像区120。

驱动电路层50包括薄膜晶体管51和信号走线，薄膜晶体管51和信号走线的材料通常为金属或半导体材料。金属或半导体材料对光线有较强的反射，从而影响显示面板100的光线透过率。本申请通过将连接屏下摄像区110的像素61 的薄膜晶体管51设置在非屏下区域，减少了屏下摄像区110中的金属或半导体材料对环境光线的反射，可以进一步提高显示面板100中屏下摄像区110的光线透过率，增加屏下摄像头的进光量。

在一些实施方式中，驱动电路层50中的信号走线可以选用透明导线。透明导线可以进一步减少屏下摄像区110中的金属或半导体材料对环境光线的反射，增加屏下摄像头的进光量。

如图3所示，图3为本申请实施例提供的显示面板第二种实施方式沿AA’线的剖面结构示意图。

与图2不同的是，图3所示的显示面板100还包括阻挡件70，阻挡件70位于第二缓冲层40远离第二柔性衬底30的一侧，且阻挡件70位于屏下摄像区110和非屏下摄像区120之间。

本申请通过在显示面板100的屏下摄像区110和非屏下摄像区120之间设置阻挡件70，在显示面板100后续封装的过程中，显示的屏下摄像区110可以通过激光镭射等方式去除部分挡光膜层，保证提高了屏下摄像头的进光量。然而，去除部分挡光膜层会容易导致水氧易入侵非屏下摄像区120。因此本申请在显示面板100在屏下摄像区110和非屏下摄像区120之间设置阻挡件70，可以在提高屏下摄像头的进光量的同时保证显示面板100的封装效果，避免外界的水氧进入到非屏下摄像区120中，保证了显示面板100的使用寿命。

如图3所示，在一些实施方式中，显示面板100在第二柔性衬底30的非屏下摄像区120设置通孔31，使得非屏下摄像区120中的第一缓冲层20和第二缓冲层 40连接。第一缓冲层20和缓冲层的材料为氧化硅。氧化硅形成的膜层通常为透明的、致密的膜层，可以起到透光以及隔绝水氧的效果。本申请通过在第二柔性衬底30的非屏下摄像区120设置通孔31，使得第一缓冲层20和第二缓冲层40 连接，可以进一步避免水汽通过第一缓冲层20与第二柔性衬底30之间缝隙以及第二柔性衬底30与第二缓冲层40之间缝隙进入到显示面板100的非屏下摄像区 120内，可以提高显示面板100的封装效果，延长显示面板100的使用寿命。

如图4所示，图4为本申请实施例提供的显示面板第三种实施方式沿AA’线的剖面结构示意图。

与图2不同的是，图4所示的显示面板100的第二柔性衬底30包括开孔32，开孔32位于第二柔性衬底30远离第一缓冲层20的一侧。第二缓冲层40覆盖开孔 32，即第二缓冲层40靠近第二柔性衬底30的一侧具有一延伸部(图中未标识)，延伸部延伸至开孔32中。其中，凹槽11和开孔32对应设置。

在一些实施方式中，开孔32的深度为1微米至6微米。具体的，开孔32的深度可以为1微米、2微米、3微米、4微米、5微米或6微米。

本申请通过在第一缓冲层20设置凹槽11和第二缓冲层40设置开孔32，且凹槽11和开孔32对应设置，可以进一步减薄屏下摄像区110柔性衬底的厚度，提高屏下摄像区110的光线透过率，改善屏下摄像头的成像效果。

如图4所示，开孔32在垂直于第二柔性衬底30的厚度方向上的截面宽度d2 大于凹槽11在垂直于第一柔性衬底10的厚度方向上的截面宽度d1。因此，在凹槽11和开孔32对应设置的前提下，开孔32在垂直于第二柔性衬底30的厚度方向上的截面面积大于凹槽11在垂直于第一柔性衬底10的厚度方向上的截面面积。

可以理解的是，可以设置开孔32在垂直于第二柔性衬底30的厚度方向上的截面宽度d2等于凹槽11在垂直于第一柔性衬底10的厚度方向上的截面宽度d1。即，开孔32在垂直于第二柔性衬底30的厚度方向上的截面面积等于凹槽11在垂直于第一柔性衬底10的厚度方向上的截面面积

本申请通过设置开孔32在垂直于第二柔性衬底30的厚度方向上的截面面积大于或等于凹槽11在垂直于第一柔性衬底10的厚度方向上的截面面积，可以进一步增加屏下摄像头的进光量，有利于改善屏下摄像头的成像效果。

如图5所示，图5为本申请实施例提供的显示面板第四种实施方式沿AA’线的剖面结构示意图。

与图4不同的是，图5所示的显示面板100的开孔32贯穿第二柔性衬底30。第二缓冲层40通过开孔32与第一缓冲层20连接。

本申请通过设置开孔32贯穿第二柔性衬底30，可以进一步减薄屏下摄像区 110柔性衬底的厚度，提高屏下摄像区110的光线透过率，改善屏下摄像头的成像效果。

如图6所示，图6为本申请实施例提供的显示面板第五种实施方式沿AA’线的剖面结构示意图。

与图5不同的是，图6所示的显示面板的第一柔性衬底10包括多个凹槽11，多个凹槽11设置在屏下摄像区110内。

本申请通过在第一柔性衬底10的屏下摄像区110设置多个凹槽11，可以进一步提高屏下摄像区110的光线透过率，提高屏下摄像的进光量。

可以理解的是，本申请提及的多个凹槽11是指2个或2个以上的凹槽11。图 6以3个凹槽11为例，但不作为对本申请实施例的限制。

在一些实施方式中，显示面板100的第二柔性衬底30包括多个开孔32，多个开孔32设置在屏下摄像区110内，且多个开孔32与多个凹槽11对应设置。

本申请通过在第一柔性衬底10的屏下摄像区110设置多个凹槽11，在第二柔性衬底30设置多个开孔32，多个开孔32与多个凹槽11对应设置，可以进一步提高屏下摄像区110的光线透过率，提高屏下摄像的进光量。

结合图6和图7，图7为图6在P区域的局部放大图。

当第一柔性衬底10设置多个凹槽11以及第二柔性设置有多个开孔32时，凹槽11在垂直于第一柔性衬底10的厚度方向上的截面宽度d1和开孔32在垂直于第二柔性衬底30的厚度方向上的截面宽度d2为10微米至20微米。具体的，d1 和d2可以为10微米、12微米、14微米、15微米、16微米、18微米或20微米。d2 的值可以大于或等于d1的值。相邻凹槽11之间的距离w1或相邻开孔32之间的距离w2可以为5微米至20微米。具体的，w1和w2可以为5微米、8微米、10微米、12微米、15微米、18微米或20微米。

结合图6和图8，图8为本申请实施例提供的第一柔性衬底的第一种实施方式的结构示意图。如图6和图8所示，第一柔性衬底10包括多个凹槽11，多个凹槽11设置在屏下摄像区110内。凹槽11在垂直于第一柔性衬底10的厚度方向上的截面图案为圆形。

可以理解的是，凹槽11在垂直于第一柔性衬底10的厚度方向上的截面图案可以为椭圆形、三角形、四边形、多边形或其他不规则形状。本申请的凹槽11 以其截面图案为圆形为例，但不作为对本申请的限制。

可以理解的是，当显示面板100的第二柔性衬底30上包括多个开孔32时，多个开孔32在垂直于第二柔性衬底30的厚度方向上的截面图案与凹槽11在垂直于第一柔性衬底10的厚度方向上的截面图案相同。

结合图6和图9，图9为本申请实施例提供的第一柔性衬底的第二种实施方式的结构示意图。与图8不同的是，凹槽11为环形凹槽11，多个环形凹槽11同心设置。

本申请实施例提供一种显示面板。显示面板具有相邻设置的屏下摄像区和非屏下摄像区。显示面板包括第一柔性衬底、第一缓冲层、第二柔性衬底和第二缓冲层。第一柔性衬底具有相对设置的第一面和第二面。第一柔性衬底的第一面设置有凹槽。凹槽位于屏下摄像区。第一缓冲层位于第一柔性衬底的第一面。第二柔性衬底位于第一缓冲层远离第一柔性衬底的一侧。第二缓冲层位于第二柔性衬底远离第一缓冲层的一侧。本申请实施例通过在第一柔性衬底的屏下摄像区域设置凹槽，减薄了屏下摄像区中柔性衬底的厚度，提高了屏下摄像区的光线透过率，改善了屏下摄像头的成像效果。

相应地，本申请实施例还提供一种显示面板的制备方法。如图10所示，图 10为本申请实施例提供的显示面板的制备方法的流程图。显示面板的制备方法具体包括以下步骤：

步骤B10：提供第一柔性衬底，第一柔性衬底具有相对设置的第一面和第二面。

第一柔性衬底的材料可以为透明聚酰亚胺材料Colorless Polymide，CPI)。具体的，可以通过在聚酰亚胺(PI)分子结构中引入含氟基团、脂环结构、含砜基等基团对聚酰亚胺分子的结构进行优化，降低聚酰亚胺的分子内和分子间作用力，减少电荷转移络合物(CTC)的形成，从而制备出无色透明且耐高温的聚酰亚胺薄膜(CPI)。

在一些实施方式中，第一柔性衬底的材料也可以为透明聚酯材料，比如聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate，PET)。

传统的柔性衬底材料通常为淡黄色。当显示面板的设置屏下摄像头时，传统的柔性衬底材料不利于外界环境的光线进入到摄像头中。本申请的第一柔性衬底使用透明聚酰亚胺材料或聚酯材料，有利于外界环境的光线透过显示面板。

步骤B20：在第一面形成凹槽，凹槽位于显示面板的屏下摄像区。

结合图11和图12。图11为本申请实施例提供的在第一柔性衬底的第一面形成凹槽的流程图。图12为本申请实施例提供的在第一柔性衬底的第一面形成凹槽的结构示意图。

在第一柔性衬底的第一面形成凹槽的步骤包括：

步骤B21：在第一柔性衬底上形成阻挡层。

可以通过电化学沉积或化学气相沉积等工艺形成阻挡层。如图12的(A) 结构所示，阻挡层80覆盖第一柔性衬底10。阻挡层80的材料可以为透明导电氧化物(IZO)或氧化铟锡(ITO)。

步骤B22：在阻挡层上形成具有预设图案的光阻层。

如图12的(B)结构所示，在形成阻挡层80后，在阻挡层上形成具有预设图案的光阻层90。

具体的，在阻挡层上涂覆光刻胶以形成光阻层90，光阻层90覆盖阻挡层80。在形成一光阻层后，可以使用一曝光机结合一掩模板对光阻层90进行局部光照处理。掩模板预先设置相应的图案。掩模板设置在光源与光阻层90之间。在进行光照处理时，掩模板上的图案对光线进行遮挡，使得光源中的部分光线照射至光阻层90上。将局部光照处理后的光阻层90放置进显影液中进行显影处理。在通过掩模板对光阻层进行局部光照处理的过程中，被光照射的光阻层的化学性质发生变化，从而显影液可以去除光刻胶中的一部分，从而形成具有预设图案的光阻层90。

步骤B23：对阻挡层进行蚀刻以使阻挡层暴露出第一柔性衬底。

采用湿蚀刻方法对阻挡层80进行蚀刻。具体的，采用透明导电氧化物蚀刻液或氧化铟锡蚀刻液对阻挡层进行蚀刻。由于光阻层90具有预设图案，从而暴露出部分阻挡层80。透明导电氧化物蚀刻液或氧化铟锡蚀刻液对暴露的阻挡层 80的进行蚀刻，以使阻挡层80暴露出第一柔性衬底10。阻挡层80蚀刻完成的图案如图12的(C)结构。

步骤B24：去除具有预设图案的光阻层。

具体的，使用光阻层剥离液去除阻挡层80上方的光阻层90，从而得到如图 12的(D)结构。

步骤B25：对第一柔性衬底进行蚀刻以形成凹槽。

可以采用干法蚀刻的工艺对第一柔性衬底10进行蚀刻。具体的，蚀刻处理后的阻挡层80具有预设图案。未覆盖阻挡层80的第一柔性衬底10的表面裸露出来。通过氧气(O

步骤B26：去除阻挡层。

在第一柔性衬底10形成凹槽11后，可以通过透明导电氧化物蚀刻液或氧化铟锡蚀刻液去除阻挡层80，得到如图12的(F)结构。

步骤B30：在第一面上形成第一缓冲层。

在第一柔性衬底蚀刻完成后，可以采用化学气相沉积的方法形成第一缓冲层。第一缓冲层覆盖凹槽。第一缓冲层的材料可以为氧化硅。氧化硅为无色透明材料，有利于光线的透过。形成第一缓冲层为高致密性的氧化硅薄膜。高致密性的氧化硅可以有效地阻隔水氧，从而减少水氧对显示面板影响，有利于延长显示面板的使用寿命。

步骤B40：在第一缓冲层上形成第二柔性衬底。

形成第二柔性衬底的步骤与形成第一柔性衬底的步骤相同，在此不再累述。

在一些实施方式中，在形成第二缓冲层后，在第二缓冲层远离第一柔性衬底的一侧形成开孔。凹槽和开孔对应设置。

可以理解的是，形成开孔的步骤与形成凹槽的步骤相同，在此不再累述。

步骤B50：在第二柔性衬底上形成第二缓冲层。

形成第二缓冲层的步骤与形成第一缓冲层的步骤相同，在此不再累述。第一缓冲层和第二缓冲层均为高致密性的氧化硅薄膜。双层的高致密性的氧化硅薄膜可以进一步提高显示面板隔绝水氧的性能，从而减少水氧对显示面板影响，有利于延长显示面板的使用寿命。

在一些实施方式中，在形成第二缓冲层后，可以在第二缓冲层上形成驱动电路层和发光器件层，从而使得显示面板具显示功能。

可以理解的是，在形成封装层后，可以在显示面板的表面形成触控层或其他功能膜层，从而使得显示面板具有触控功能或其他功能。

本申请实施例提供一种显示面板的制备方法，制备得到的显示面板采用双层柔性衬底结合双层缓冲层的结构。双层的缓冲层均为致密的膜层，可以提高显示面板隔绝水氧的性能，从而减少水氧对显示面板影响，有利于延长显示面板的使用寿命。同时，本申请提供的显示面板的制备方法在显示面板的第一柔性衬底的屏下摄像区域设置凹槽，减薄了屏下摄像区中柔性衬底的厚度，提高了显示面板中屏下摄像区的光线透过率，改善了显示面板的屏下摄像头的成像效果。

综上所述，虽然本申请实施例的详细介绍如上，但上述实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请实施例的技术方案的范围。