光配向掩模板、液晶显示面板以及光配向方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域。更具体地，涉及一种光配向掩模板、液晶显示面板以及光配向方法。

背景技术

液晶显示面板(Liquid Crystal Display,LCD)已被广泛应用在各种电子产品中。液晶显示面板的主要构成包括阵列基板、彩膜基板以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，其中在液晶层两侧设置有配向膜层，配向膜的作用是使液晶分子产生初始取向。

现有技术中的取向技术一般广泛使用摩擦(Rubbing)配向方法和光配向(PhotoAlignment)配向方法。光配向方法是使用偏振UV(Ultraviolet Rays，紫外线)光照射基板上的配向膜层，使得配向膜层表面的高分子结构发生各向异性的光聚合、转换或裂解反应，进而诱导液晶分子排列，获得各向异性的效果，该方法相对于摩擦配向能够实现较高的对比度，能达到5000:1的水平。

然而，目前的光配向方法，若要得到一畴的显示面板、二畴的显示面板以及四畴的显示面板需要分别制作对应这三种显示面板的三种光配向掩模板，制作成本高，产品开发效率低。

发明内容

本申请的目的在于提供一种用于液晶基板的光配向掩模板和光配向方法，以解决现有技术存在的问题中的至少一个。

为达到上述目的，本申请采用下述技术方案：

本申请第一方面提供了一种光配向掩模板，包括第一配向区域和第二配向区域，第一配向区域包括沿第一方向相邻排列的多个第一透光区和多个第一遮光区，第二配向区域包括沿第一方向或者与第一方向垂直的第二方向相邻排列的多个第二透光区和多个第二遮光区，

其中，第一透光区和第一遮光区的宽度与液晶显示面板中子像素的第一边的长度相同，

第二透光区和第二遮光区的宽度与待配向液晶显示面板中子像素的第二边的长度相同，其中第一边与第二边相邻。

在一些可选的实施例中，包括多个第一配向区域和多个第二配向区域，

第一配向区域和第二配向区域均沿第一方向排列，或者

第一配向区域和第二配向区域均沿第二方向排列，其中，第二方向与第一方向垂直。

在一些可选的实施例中，包括多个第一配向区域和多个第二配向区域，第一配向区域和第二配向区域沿第一方向或第二方向交替排列，其中第二方向与第一方向垂直。

在一些可选的实施例中，光配向掩模板为紫外线类型的掩模板。

本申请第二方面提供一种基于上文所述的光配向掩模板的光配向方法，包括：

将液晶基板固定在光配向设备的机台上，液晶基板包括第一基板和第二基板，第一基板的表面设置有第一配向膜层且第二基板的表面设置有第二光配向膜层；

基于光配向掩模板对液晶基板进行光配向，包括：

在第一基板上方第一位置提供光配向掩模板，

基于光配向掩模板对第一配向膜层进行第一次曝光；

改变光配向掩模板与第一基板的相对位置，使光配向掩模板相对于第一位置平移N个第一边的长度；

基于光配向掩模板对第一配向膜层进行第二次曝光；

在第二基板上方第二位置提供光配向掩模板，基于光配向掩模板对第二光配向膜层进行第一次曝光；

改变光配向掩模板与第二基板的相对位置，使光配向掩模板相对于第二位置平移N个第二边的长度；

基于光配向掩模板对第二光配向膜层进行第二次曝光，以完成液晶基板的多种畴配向，

其中，N为正奇数。

在一些可选的实施例中，

第一基板包括与子像素对应的第一对应区，第二基板包括与子像素对应的第二对应区，第一对应区和第二对应区的各边与子像素的各边一一对应，

第一透光区的宽与第一对应区的第一边平行，第一对应区的一半被第一透光区覆盖且另一半被第一遮光区覆盖，

第二透光区的宽与第二对应区的第二边平行，第二对应区的一半被第二透光区覆盖且另一半被第二遮光区覆盖。

在一些可选的实施例中，

第一基板包括与子像素对应的第一对应区，第二基板包括与子像素对应的第二对应区，第一对应区和第二对应区的各边与子像素的各边一一对应，

第一透光区的宽与第一对应区的第一边平行，第一透光区在第一基板上的正投影覆盖完整的第一对应区，

第二透光区的宽与第二对应区的第二边平行，第二对应区的一半被第二透光区覆盖且另一半被第二遮光区覆盖。

在一些可选的实施例中，

第一基板包括与子像素对应的第一对应区，第二基板包括与子像素对应的第二对应区，第一对应区和第二对应区的各边与子像素的各边一一对应，

第一透光区的宽与第一对应区的第一边平行，第一透光区在第一基板上的正投影覆盖完整的第一对应区，

第二透光区的宽与第二对应区的第二边平行，第二透光区在第二基板上的正投影覆盖完整的第二对应区。

在一些可选的实施例中，第一基板为彩膜基板且第二基板为阵列基板，或者第一基板为阵列基板且第二基板为彩膜基板。

本申请第三方面提供一种液晶显示面板，包括：

彩膜基板，彩膜基板的表面设置有第一配向膜层；

阵列基板，阵列基板的表面设置有第二配向膜层；

液晶层，设置于第一配向膜层和第二配向膜层之间，

其中第一配向膜层和第二配向膜层是利用上文所述的光配向方法配向后形成的。

本申请的有益效果如下：

本申请针对目前现有的问题，制定一种光配向掩模板、液晶显示面板以及光配向方法，并通过提供第一配向区域和第二配向区域，并且第一光配区域中的第一透光区和第一遮光区的宽度与子像素的第一边的长度相等，且第二光配区域中的第二透光区和第二遮光区的宽度与子像素的第二边的长度相等，从而使得能够利用一种光配向掩模板完成多种畴的多种液晶基板配向，提高了产品开发效率，降低了产品制作成本，具有广阔的应用前景。

附图说明

下面结合附图对本申请的具体实施方式作进一步详细的说明。

图1示出现有技术的光配向掩模的配向原理示意图；

图2示出本申请实施例的光配向掩模板的示意性俯视图；

图3示出本申请另一实施例的光配向掩模板的示意性俯视图；

图4示出本申请另一实施例的光配向掩模板的示意性俯视图；

图5示出本申请实施例的利用光配向掩模板的光配向方法的示意性流程图；

图6示出本申请一实施例光配向方法的配向原理示意图；

图7示出本申请另一实施例光配向方法的配向原理示意图；

图8示出本申请另一实施例光配向方法的配向原理示意图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本申请，下面结合实施例和附图对本申请做进一步的说明。附图中相似的部件以相同或相似的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本申请的保护范围。

需要说明的是，本申请中描述的“具有”、“包含”、“包括”等均为开式的含义，即，当描述模块“具有”、“包含”或“包括”第一元件、第二元件和/或第三元件时，表示该模块除了第一元件、第二元件和/或第三元件外还包括其他的元件。另外，本申请中“第一”、“第二”等序数词并不旨在限定具体的顺序，而仅在于区分各个部分。

在相关技术中，如图1所示，UV2A配向工艺在制作四畴配向时，通常将TFT基板中单个子像素分成沿子像素短边方向的两个区，将CF基板中单个子像素分成沿子像素长边方向的两个区，在将TFT基板和CF基板对盒之后，形成四个区。在曝光配向过程中，需要对每个子像素分别进行两次曝光，从而实现了对TFT基板和CF基板的配向。

继续参照图1所示，如图所示，不论对应彩膜基板(CF)侧的光配向掩模板还是对应阵列基板(TFT)侧的光配向掩模板，白色的透光区和黑色的遮光区均只对应子像素的1/2区域，在实际光配向过程中分别对CF侧和TFT侧进行两次曝光形成四畴配向。但是可以理解的是，这种光配向掩模板仅适用于一种四畴配向，当需要对液晶基板进行二畴配向时，则需要重新设计新的光配向掩模板，因而现有技术中液晶显示面板的产品开发成效率低，制作成本高。

为了解决以上技术问题，本申请实施例提供一种光配向掩模板，包括：

第一配向区域和第二配向区域，第一配向区域包括沿第一方向相邻排列的多个第一透光区和多个第一遮光区，第二配向区域包括沿第一方向或者与第一方向垂直的第二方向相邻排列的多个第二透光区和多个第二遮光区，

其中，第一透光区和第一遮光区的宽度与待配向液晶基板中子像素的第一边的长度相同，

第二透光区和第二遮光区的宽度与待配向液晶基板中子像素的第二边的长度相同，其中第一边与第二边相邻。

在本实施例中，通过提供第一配向区域和第二配向区域，并且第一光配区域中的第一透光区和第一遮光区的宽度与子像素的第一边的长度相等，且第二光配区域中的第二透光区和第二遮光区的宽度与子像素的第二边的长度相等，从而使得能够利用一种光配向掩模板完成多种畴的多种液晶基板配向，提高了产品开发效率，降低了产品制作成本，具有广阔的应用前景。

在一个具体的示例中，参照图2所示，光配向掩模板1包括第一配向区域11和第二配向区域12。

第一配向区域11包括沿X方向(即，第一方向)相邻排列的多个第一透光区111和第一遮光区121；第二配向区域12包括沿X方向相邻排列的多个第二透光区112和第二遮光区122。

特别地，参照图2所示，第一透光区111和第一遮光区121中每一者的宽度均与液晶显示面板中子像素的第一边的长度a相同；并且，第二透光区112和第二遮光区122中每一者的宽度与液晶显示面板中子像素的第二边的长度b相同。其中，图中以虚线框示例一个子像素，第一边与第二边相邻。

在该示例中，子像素为矩形，第一边表示子像素的长，第二边表示子像素的宽，但本申请并不限于此，若子像素为正方形时，则第一边和第二边可以分别对应相邻的两个直角边(即，正方形的边长)。换句话说，当子像素为矩形或者正方形时，第一边与第二边垂直。

值得一提的是，通过该设置，当使用光配向掩模板1对待配向的液晶基板进行光配向时，光配向掩模板1中的第一透光区111和第一遮光区121在液晶基板上的正投影覆盖液晶基板上与子像素相对应的对应区域；同理，当使用光配向掩模板1对待配向的阵列基板进行光配向时，光配向掩模板1中的第二透光区112和第二遮光区122在液晶基板上的正投影覆盖液晶基板上与子像素相对应的对应区域。

本领域技术人员应理解，液晶基板包括彩膜基板和阵列基板，对应区域即为子像素；而当阵列基板与彩膜基板对盒时，对应区域在彩膜基板上的正投影与子像素重叠，且该对应区域的各边与子像素的各边一一对应。

需要说明的是，图2中仅示出一种光配向掩模板的示例，本申请的实施例并不限于此。

可选地，参照图3所示，在该图示出的另一光配向掩模板1'中，第一配向区域11仍包括沿X方向相邻排列的多个第一透光区111和多个第一遮光区121；不同地是，第二配向区域12'包括沿Y方向(即，与第一方向垂直的第二方向)相邻排列的多个第二透光区112'和多个第二遮光区122'。

进一步可选地，一个光配向掩模板中第一配向区域和第二配向区域的数量不限于一个。示例性地，参照图4所示，光配向掩模板包括2个第一配向区域11和2个第二配向区域12，第一配向区域11沿Y方向排列，且第二配向区域12也沿Y方向排列。当然图4中仅是示例性的，一个光配向掩模板中可以包括更多个第一配向区域和更多个第二配向区域。

尽管未进一步示出，本领域技术人员可以理解，与之类似地，当光配向掩模板包括多个第一配向区域和多个第二配向区域时，在每个配向区域中透光区域和遮光区域排列方向不变的情况下，例如当第一透光区和第一遮光区均沿X方向排列且第二透光区和第二遮光区均沿X方向排列时，第一配向区域也可以沿X方向排列，且第二配向区域沿X方向排列；进一步可选地，第一配向区域和第二配向区域沿X方向或Y方向交替排列。

当然，一个光配向掩模板中也可以仅包括一个第一配向区域和多个第二配向区域，排列方式与以上类似，在此不作赘述。

本实施例中，可选地，光配向掩模板为紫外线类型的掩模板，即通过基于光配向掩模板进行紫外线曝光而进行光配向的掩模板。当然，本申请并不限于此，若可以利用其他光线曝光进行光配向时，本申请实施例的光配向掩模板也可以应用其他光线类型，在此不作赘述。

以上设置，通过提供第一配向区域11和第二配向区域12，且设置第一透光区111和第一遮光区121中每一者的宽度均与待配向液晶基板中子像素的第一边的长度a相同；并且，第二透光区112和第二遮光区122中每一者的宽度与待配向液晶基板中子像素的第二边的长度b相同，使得在对不同的液晶基板进行光配向时，即使设计要求希望得到不同的畴数，也可以通过本申请的光配向掩模板进行制作，而不必额外针对不同的液晶基板配向方案设计和制作不同的光配向掩模板，极大的提高了产品开发效率，从而降低了产品成本，具有广阔的应用前景。

为了进一步理解本申请实施例的光配向掩模板的结构优势，下面结合本申请实施例提供的利用上述光配向掩模板的光配向方法进一步详细说明。

参照图5所示，基于同一发明构思，本申请实施例还提供一种基于上文实施例所述的光配向掩模板的光配向方法，包括：

S1、将液晶基板固定在光配向设备的机台上，液晶基板包括第一基板和第二基板，第一基板的表面设置有第一配向膜层且第二基板的表面设置有第二光配向膜层；

S2、基于光配向掩模板对液晶基板进行光配向，具体包括：

在第一基板上方第一位置提供光配向掩模板，

基于光配向掩模板对第一配向膜层进行第一次曝光；

改变光配向掩模板与第一基板的相对位置，使光配向掩模板相对于第一位置平移N个第一边的长度；

基于光配向掩模板对第一配向膜层进行第二次曝光；

在第二基板上方第二位置提供光配向掩模板，基于光配向掩模板对第二光配向膜层进行第一次曝光；

改变光配向掩模板与第二基板的相对位置，使光配向掩模板相对于第二位置平移N个第二边的长度；

基于光配向掩模板对第二光配向膜层进行第二次曝光，以完成液晶基板的多种畴配向，

其中，N为正奇数。

在本实施例中，利用具有第一配向区域和第二配向区域的光配向掩模板，并且第一光配区域中的第一透光区和第一遮光区的宽度与子像素的第一边的长度相等，且第二光配区域中的第二透光区和第二遮光区的宽度与子像素的第二边的长度相等，通过利用光配向掩模板对液晶基板进行光配向，能够得到满足各种设计要求的多种畴数，提高了产品开发效率，降低了产品制作成本，具有广阔的应用前景。

下面参照图6至图8详细描述利用如图2所示的光配向掩模板1制作三种畴数的配向过程。

以下示例中，本申请实施例通过利用上文光配向掩模板进行紫外线垂直配向(UV

UV灯筒的基本结构包括：聚光罩、高压水银灯、波长过滤片、偏光片，其中高压水银灯发射的光经过聚光罩聚集到波长过滤片得到紫外光，紫外光经由预定的偏光片得到具有预定偏振方向的紫外光，该紫外光照射到光配向掩模板上，并对垂直下方的液晶基板进行曝光。在曝光过程中，机台上固定液晶基板的部分是运动的，因此光配向掩模板中的的透光区域和遮光区域的长边应与机台的运行方向平行。通常，照射到光配向掩模板的紫外光的入射曝光方向与机台上液晶基板的运行方向不在同一平面，紫外光的入射面方向与液晶基板的运动面方向空间垂直。

在本申请的实施例中，液晶基板包括阵列基板和彩膜基板。在光配向前，阵列基板和彩膜基板的表面均预先设置了光配向膜层以用于配向，该光配向膜层为一种配向型材料，例如聚酰亚胺(Polyimide,PI)，PI是一种综合性能优良的高分子材料，当然光配向膜层的材料也可以为其他材料，本申请不作限定。

为了便于描述，在以下示例中以第一基板表示彩膜基板，以第二基板表示阵列基板，则彩膜基板表面上设置的光配向膜层为第一配向膜层，阵列基板表面上设置的光配向膜层为第二光配向膜层。

此外，以下图6至图8均示出了部分光配向掩模板的区域的放大图，且在以下各示例中，利用第一配向区域11对第一基板进行配向，利用第二配向区域12对第二基板进行配向。对于第一基板来说，图6至图8中左起第一个黑白交替的矩形表示第一次曝光过程，第二个黑白交替的矩形表示第二次曝光过程，对于第二基板来说，图中上起第一个黑白交替的矩形表示第一次曝光过程，第二个黑白交替的矩形表示第二次曝光过程。其中，对于每个基板来说，两次曝光的顺序实质上是可以互换的。

此外，以下描述中，第一位置表示利第一配向区域11对第一基板进行配向时光配向掩模板1的初始放置位置，第二位置表示利用第二配向区域12对第二基板进行配向时光配向掩模板1的初始放置位置，第一位置和第二位置可以相同也可以不同，本申请不作特别限定，通常对于同一基板而言，每次配向的初始放置位置通常相同。

还需要提前说明的是，第一基板包括与子像素对应的第一对应区，第二基板包括与子像素对应的第二对应区，第一对应区和第二对应区的各边与子像素的各边一一对应。具体地，当第一基板与第二基板对盒时，第一对应区在液晶基板上的正投影与子像素完全重叠，第二对应区在液晶基板上的正投影与子像素完全重叠，本申请中，第一对应区和第二对应区的第一边均对应子像素的第一边，第一对应区和第二对应区的第二边均对应子像素的第二边。另外，因为第一对应区和第二对应区的各边与子像素的存在对应关系，为了便于理解，在图6至图8中以同一图形表示第一对应区和第二对应区，下文不再赘述。

具体地，当利用本申请实施例的光配向掩模板进行四畴配向时，参照图6所示，步骤S2具体包括如下步骤。

在步骤S21-1中，在第一基板上方第一位置提供光配向掩模板1。

第一透光区111的宽与第一对应区的第一边平行，使得第一透光区111曝光的是以第一对应区的第一边为宽的一行区域(即，对应以该第一边为宽的一行子像素)，并使得当控制第一基板在机台上运动时，被曝光区域不会在运动中发生偏移。此外，在本步骤中，要求第一对应区域的一半被第一透光区111覆盖且另一半被第一遮光区121覆盖。

在步骤S22-1中，基于光配向掩模板1对第一配向膜层进行第一次曝光，如图中所示，黑色虚线表示第一偏振方向的紫外光。

在步骤S23-1中，改变光配向掩模板1与第一基板的相对位置，使光配向掩模板1相对于第一位置沿与第一边平行的方向平移N个第一边的长度a，N为正奇数。如图所示即，沿第一边的延伸方向平移N个第一边的长度a。

如图6所示，以上平移达到的效果相当于将曝光图案和遮光图案在初始位置基础上向下错开一个第一边的长度a，因为第一位置时第一对应区中一半透光另一半遮光，从而错位后原本透光的区域变为遮光，原本遮光的区域变为透光。

在步骤S24-1中，基于光配向掩模板1对第一配向膜层进行第二次曝光，浅灰色虚线表示第二偏振方向的紫外光，通过光配向掩模板1的以上位置设置，使得第二次曝光后第一对应区中一半被第一偏振方向的紫外光照射另一半被第二偏振方向的紫外光照射。

在步骤S25-1中，在第二基板上方第二位置提供光配向掩模板1，第二透光区112的宽与第二对应区的第二边平行，使得第二透光区112曝光的是以第二对应区的第一边为宽的一列区域(即，对应以该第一边为宽的一列子像素)，并使得当控制第二基板在机台上运动时，被曝光区域不会在运动中发生偏移。第二对应区的一半被第二透光区112覆盖且另一半被第二遮光区122覆盖。

在步骤S26-1中，基于光配向掩模板1对第二光配向膜层的进行第一次曝光。

在步骤S27-1中，改变光配向掩模板1与第二基板的相对位置，使光配向掩模板1相对于第二位置沿与第二边平行的方向平移N个第二边的长度b，如图所示即，沿第二边的延伸方向平移N个第二边的长度b。如图6所示，以上平移达到的效果相当于将曝光图案和遮光图案在初始位置基础上向下错开一个第二边的长度b，因为第二位置时第二对应区中一半遮光另一半透光，从而错位后原本遮光的区域变为透光，原本透光的区域变为遮光。

在步骤S28-1中，基于光配向掩模板1对第二光配向膜层进行第二次曝光，此时第二光配向膜层的第二对应区中一半被第一偏振方向的紫外光照射另一半被第二偏振方向的紫外光照射，从而当第一基板和第二基板对盒后使得显示面板上的子像素中的液晶具有四畴配向。

通过以上光配向过程，因为光配向掩模板1中的第一透光区111和第一遮光区121的宽度均与子像素的第一边的长度a相同，从而在光配向时设置在第一位置时第一对应区的一半被第一透光区111覆盖且另一半被第一遮光区121覆盖，从而第一次曝光后曝光第一对应区的一半；而在相对于第一位置改变光配向掩模板1和第一基板的相对位置时，因为平移了正奇数个长度a，仍然可以保证仅曝光第一区域的一半；同理利用第二配向区域12，因为第二透光区112和第二遮光区122的宽度与子像素的第二边的长度b相同，通过第二位置的设置和相对位移，使得通过两次曝光第二基板上的第二对应区一半被第一偏振方向的紫外光照射另一半被第二偏振方向的紫外光照射。通过本申请的光配向掩模板与光配向方法的配合，可以实现四畴配向。

当利用本申请实施例的光配向掩模板制作二畴配向时，参照图7所示，步骤S2进一步包括如下步骤。

在步骤S21-2中，在第一基板上方第一位置提供光配向掩模板1，第一透光区111的宽与第一对应区的第一边平行，使得第一透光区111曝光的是以第一对应区的第一边为宽的一行区域(即，对应以该第一边为宽的一行子像素)，并使得当控制第一基板在机台上运动时，被曝光区域不会在运动中发生偏移。第一透光区111在第一基板上的正投影覆盖完整的子像素。

在步骤S22-2中，基于光配向掩模板1对第一配向膜层进行第一次曝光。通过上述位置关系，第一次曝光后被第一透光区111覆盖的第一对应区有曝光，被第一遮光区121覆盖的第一对应区没有曝光。

在步骤S23-2中，改变光配向掩模板1与第一基板的相对位置，使光配向掩模板相对于第一位置沿与第一边平行的方向平移N个第一边的长度a，如图所示即，沿第一边的延伸方向平移N个第一边的长度a。

在步骤S24-2中，基于光配向掩模板1对第一配向膜层进行第二次曝光。通过以上设置，通过在第一位置基础上改变光配向掩模板1与第一基板的相对位置，从而使得掩模板图案相当于二者错开一个第一边的长度a，使得第二次曝光后未配向的子像素进行曝光。

同理，在步骤S25-2中，在第二基板上方第二位置提供光配向掩模板，第二透光区112的宽与第二对应区的第二边平行，第二对应区的一半被第二透光区112覆盖且另一半被第二遮光区122覆盖；在步骤S26-2中，基于光配向掩模板1对第二光配向膜层进行第一次曝光；在步骤S27-2中，改变光配向掩模板1与第二基板的相对位置，使光配向掩模板1相对于第二位置沿与第二边平行的方向平移N个第二边的长度b，如图所示即，沿第二边的延伸方向平移N个第二边的长度b；在步骤S28-2中，基于光配向掩模板1对第二光配向膜层进行第二次曝光，以完成二畴配向。

通过以上光配向过程，因为光配向掩模板1中的第一透光区111和第一遮光区121的宽度均与子像素的第一边的长度a相同，从而通过设置在第一位置时第一透光区111覆盖整个第一对应区，第一遮光区121覆盖另外的整个第一对应区；而在相对于第一位置改变相对位置时，因为平移N个长度a，同样可以保证一部分第一对应区曝光另一部分第一对应区遮光；同理利用第二配向区域12，因为第二透光区112和第二遮光区122的宽度与子像素的第二边的长度b相同，通过第二位置的设置和位移变化，使得通过两次曝光完成后，第二基板中每个第二对应区的一半被第一偏振方向的紫外光照射另一半被第二偏振方向的紫外光照射，从而使得第一基板和第二基板对盒后期间的液晶具有二畴配向。

与以上配向过程同理，参照图8所示，步骤S2进一包括：

在步骤S21-3中，在第一基板上方第一位置提供光配向掩模板1，第一透光区111的宽与第一对应区的第一边平行，第一透光区111在第一基板上的正投影覆盖完整的第一对应区。

在步骤S22-3中，基于光配向掩模板1对第一基板进行第一次曝光。

在步骤S23-3中，改变光配向掩模板1与第一基板的相对位置，使光配向掩模板相对于第一位置沿与第一边平行的方向平移N个第一边的长度a，如图所示即，沿第一边的延伸方向平移N个第一边的长度a。

在步骤S24-3中，基于光配向掩模板1对第一基板进行第二次曝光。

在步骤S25-3中，在第二基板上方第二位置提供光配向掩模板1，第二透光区112的宽与第二对应区的第二边平行，第一透光区111在第二基板上的正投影覆盖完整的第一对应区。

在步骤S26-3中，基于光配向掩模板1对第二基板进行第一次曝光。

在步骤S27-3中，改变光配向掩模板1与第二基板的相对位置，使光配向掩模板1相对于第二位置沿与第二边平行的方向平移N个第二边的长度b，如图所示即，沿第二边的延伸方向平移N个第二边的长度b。

在步骤S28-3中，基于光配向掩模板对第二基板进行第二次曝光，以完成一畴配向。

通过以上设置，利用光配向掩模板中第一配向区域和第二配向区域的特点，并将该光配向掩模板与配向方法配合，使得在对第一基板曝光过程中，通过掩模板的第一位置和平移方式配合，使得第一基板配向后一部分第一对应区域被第一偏振方向的紫外光照射另一部分第一对应区被第二偏振方向的紫外光照射，同理第二基板也仅一部分第二对应区域被第一偏振方向的紫外光照射另一部分第二对应区被第二偏振方向的紫外光照射，从而利用上述光配向掩模板1实现一畴配向。

综合以上分析可知，通过本申请实施例的光配向掩模板，利用以上配向方法，可以仅需一种光配向掩模板实现各种畴数的配向需求，无需每次配向设计专门的光配向掩模板，提高了开发效率，降低了产品开发和制作成本。

需要说明的是，尽管本申请的上述示例描述通过在第一次放置光配向掩模板时透光区覆盖1/2的子像素，或者覆盖完整的子像素，但本申请并不限于此，在具体实现时也可以在第一次放置光配向掩模板时，透光区覆盖1/3、1/4等的子像素，从而利用一种光配向掩模板提供更多种比例的更多种配向组合。

另外，还需要说明的是，尽管以上以第一基板为彩膜基板，第二基板为阵列基板为例进行说明，但本申请并不限于此，在实际应用中，第一基板也可以为阵列基板，第二基板为彩膜基板。换句话说，上文结合图6至图8中给出中光配向掩模板进行曝光的区域变化方式可以进行对调，例如，在二畴配向时，可以彩膜基板进行二畴配向，阵列基板进行一畴配向，以提供更多配向选择，在此不再赘述。

基于同一发明构思，本申请的实施例还提供一种液晶显示面板，包括：

彩膜基板，彩膜基板的表面设置有第一配向膜层；

阵列基板，阵列基板的表面设置有第二配向膜层；

液晶层，设置于第一配向层和第二配向膜层之间，

其中第一配向膜层和第二配向膜层是利用以上实施例所述的光配向方法配向后形成的。

本申请针对目前现有的问题，制定一种光配向掩模板、液晶显示面板以及光配向方法，并通过提供第一配向区域和第二配向区域，并且第一光配区域中的第一透光区和第一遮光区的宽度与子像素的第一边的长度相等，且第二光配区域中的第二透光区和第二遮光区的宽度与子像素的第二边的长度相等，从而使得能够利用一种光配向掩模板完成多种畴的多种液晶基板配向，提高了产品开发效率，降低了产品制作成本，具有广阔的应用前景。

显然，本申请的上述实施例仅仅是为清楚地说明本申请所作的举例，而并非是对本申请的实施方式的限定，对于本领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本申请的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本申请的保护范围之列。