触控显示面板和触控显示装置

本公开涉及显示技术领域，具体涉及一种触控显示面板和触控显示装置。

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)面板以其自发光、功耗低、轻薄、可绕性、色彩绚丽、对比度高、响应速率快等优势，受到广泛的关注。在一些产品中，在有机发光二极管的封装层上形成彩色滤光片(Color Filter on Encapsulation，COE)，从而无需通过设置偏光片来抗反射。另外，在一些产品中，还在彩色滤光片外侧设置触控结构层，来实现触控，从而可以形成多功能层堆叠的膜层结构。

发明内容

本公开提出了一种触控显示面板和触控显示装置。

本公开提供一种触控显示面板，包括：

显示基板，包括多个像素区、以及将所述多个像素区彼此间隔开的间隔区；

黑矩阵，位于所述显示基板的出光侧，且所述黑矩阵在所述显示基板上的正投影位于所述间隔区；

触控结构层，包括位于所述显示基板出光侧的第一触控图形层；所述第一触控图形层包括多条第一金属线，所述第一金属线在所述显示基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述显示基板上的正投影范围内，且所述第一金属线与所述黑矩阵接触。

在一些实施例中，所述黑矩阵采用黑色单层结构。

在一些实施例中，所述触控显示面板还包括：多个像素滤光部，所述 多个像素滤光部的颜色包括多种，且每个所述像素滤光部与所述显示基板的一个所述像素区相对设置；

所述黑矩阵包括：第一滤光图形和第二滤光图形，所述第一滤光图形位于所述第一触控图形层远离所述显示基板的一侧，所述第二滤光图形位于第一滤光图形远离所述显示基板的一侧，所述第一滤光图形和所述第二滤光图形在所述显示基板上的正投影均覆盖所述第一触控图形层在所述显示基板上的正投影；所述第一滤光图形包括多个第一滤光部，所述第二滤光图形包括多个第二滤光部，所述第一滤光部与所述第二滤光部一一对应地相对设置；

每个所述第一滤光部与其对应的第二滤光部的材料，分别与两种颜色的像素滤光部的材料相同。

在一些实施例中，所述黑矩阵还包括：遮光部，所述遮光部为黑色单层结构且具有通孔，所述第一金属线和所述第一滤光图形的至少一部分均位于所述通孔内，且将所述第一金属线与所述遮光部被所述第一滤光图形间隔开。

在一些实施例中，所述第二滤光图形的至少一部分位于所述通孔外，且所述第二滤光图形在所述显示基板上的正投影的一部分超出通孔在所述显示基板上的正投影。

在一些实施例中，所述第一滤光图形的多个第一滤光部的颜色相同；或者，至少两个所述第一滤光部的颜色不同；

所述第二滤光图形的多个第二滤光部的颜色相同；或者，至少两个所述第二滤光部的颜色不同。

在一些实施例中，所述第一触控图形层位于所述黑矩阵靠近所述显示基板的一侧；所述触控结构层还包括：

第二触控图形层，位于所述黑矩阵远离所述显示基板的一侧，且包括多条第二金属线，所述多条第二金属线在所述显示基板上的正投影位于所 述黑矩阵在所述显示基板上的正投影范围内。

在一些实施例中，所述第二金属线远离所述显示基板的表面的折射率小于5％。

在一些实施例中，所述触控显示面板还包括：覆盖层，所述覆盖层在所述显示基板上的正投影覆盖每个所述像素区，

所述黑矩阵具有：背向所述显示基板的第一表面、朝向所述显示基板的第二表面、以及连接在所述第一表面与所述第二表面之间的侧面，所述黑矩阵的侧面包括与所述覆盖层接触的第一子侧面，所述黑矩阵靠近所述第一子侧面的部分的折射率小于所述覆盖层的折射率，以使所述显示基板照射至所述第一子侧面的至少一部分光线，被所述第一子侧面朝远离所述显示面板的方向反射。

在一些实施例中，所述覆盖层为连续膜层；

或者，所述覆盖层包括间隔设置的多个覆盖部，每个所述覆盖部在所述显示基板上的正投影覆盖至少一个所述像素区。

在一些实施例中，所述第一触控图形层位于所述黑矩阵靠近所述显示面板的一侧，所述触控显示面板还包括：

第二触控图形层，位于所述第一触控图形层靠近所述显示基板的一侧，且包括多条第二金属线，所述多条第二金属线在所述显示基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述显示基板上的正投影范围内；

绝缘层，位于所述第一触控图形层与所述第二触控图形层之间，所述绝缘层在所述显示基板上的正投影位于所述间隔区。

在一些实施例中，所述触控显示面板还包括：覆盖层，所述覆盖层在所述显示基板上的正投影覆盖每个所述像素区，

所述绝缘层具有：背向所述显示基板的第一表面、朝向所述显示基板的第二表面、以及连接在所述第一表面与所述第二表面之间的侧面，所述绝缘层的侧面包括与所述覆盖层接触的第一子侧面，所述绝缘层的折射率 小于所述第二覆盖层的折射率，以使所述显示基板照射至所述第一子侧面的至少一部分光线，被所述第一子侧面朝远离所述显示基板的方向反射。

在一些实施例中，所述覆盖层为连续膜层；

或者，所述覆盖层包括间隔设置的多个覆盖部，每个所述覆盖部在所述显示基板上的正投影覆盖至少一个所述像素区。

在一些实施例中，所述触控显示面板还包括：多个像素滤光部，每个所述像素滤光部与所述显示基板的一个所述像素区相对设置；

所述显示基板包括：

衬底基板；

多个发光器件，设置在所述衬底基板上，每个所述像素区均设置有一个所述发光器件；

封装层，设置在所述发光器件远离所述衬底基板的一侧；

其中，所述多个像素滤光部与所述封装层接触。

在一些实施例中，所述封装层包括：沿远离所述衬底基板的方向依次设置的：第一无机封装子层、有机封装子层和第二无机封装子层；

其中，所述第二无机封装子层为连续膜层，其在所述显示基板上的正投影覆盖所述多个像素区，所述多个像素滤光部与所述第二无机封装子层接触；

或者，所述第二无机封装子层具有多个镂空部，所述镂空部与所述像素区一一对应，所述滤光部的至少一部分通过所述镂空部与所述有机封装子层接触。

本公开还提供一种触控显示装置，包括上述的触控显示面板。

附图是用来提供对本公开的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本公开，但并不构成对本公开的限制。 在附图中：

图1A为本公开的一些实施例中提供的触控显示面板的示意图。

图1B为本公开的一些实施例中提供的显示基板的区域划分示意图。

图2A为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图。

图2B为本公开的一些实施例中提供的第一滤光图形和第二滤光图形的仰视图。

图2C为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图。

图3为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图。

图4为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图。

图5为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图。

图6为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图。

图7为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图。

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

这里用于描述本公开的实施例的术语并非旨在限制和/或限定本公开的范围。例如，除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。应该理解的是，本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出 现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则所述相对位置关系也可能相应地改变。

在下面的描述中，当元件或层被称作“在”另一元件或层“上”或“连接到”另一元件或层时，该元件或层可以直接在所述另一元件或层上、直接连接到所述另一元件或层，或者可以存在中间元件或中间层。然而，当元件或层被称作“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”另一元件或层时，不存在中间元件或中间层。术语“和/或”包括一个或更多个相关列出项的任意和全部组合。

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)面板以其自发光、功耗低、轻薄、可绕性、色彩绚丽、对比度高、响应速率快等优势，受到广泛的关注。在一些产品中，在有机发光二极管的封装层上形成彩色滤光片(Color Filter on Encapsulation，COE)和黑矩阵，从而无需通过设置偏光片来抗反射。另外，在一些产品中，还在封装层上设置触控结构层，来实现触控，从而可以形成多功能层堆叠的膜层结构。通常，在显示面板制作过程中，先在封装层上形成触控结构层，之后形成平坦层；再在平坦层远离封装层的一侧形成彩色滤光片和黑矩阵。但这样会导致工艺较为复杂，并且，当黑矩阵与有机发光二极管较远时，会导致有机发光二极管的L-Decay衰减加快，并容易产生色偏现象。

图1A为本公开的一些实施例中提供的触控显示面板的示意图，如图1A所示，触控显示面板包括：显示基板10、黑矩阵60和触控结构层。

其中，显示基板10可以为OLED显示基板，图1B为本公开的一些实施例中提供的显示基板的区域划分示意图，如图1B所示，显示基板包括多 个像素区P、以及将多个像素区P彼此间隔开的间隔区SP。需要说明的是，图1B中的像素区P的数量和排列方式仅为示例性说明。

在一些实施例中，显示基板10具体可以包括：衬底基板11、以及设置在衬底基板11上的多个发光器件23，每个像素区P中设置有一个发光器件23，发光器件23可以为OLED器件、LED器件等。

黑矩阵60位于显示基板10的出光侧，即多个发光器件23远离衬底基板11的一侧。黑矩阵60在显示基板10上的正投影位于间隔区SP。其中，黑矩阵60可以呈网格状结构，黑矩阵60的每个网孔对应显示基板10的一个像素区P。

在本公开实施例中，黑矩阵60可以采用黑色材料制成，也可以采用其他材料制成，只要能够防止不同像素区P的出射光线发生串扰即可。

触控结构层位于显示基板10的出光侧，用于感测触摸位置。其中，触控结构层包括第一触控图形层40，第一触控图形层40包括多条第一金属线41，第一金属线41在显示基板10上的正投影位于黑矩阵60在显示基板10上的正投影范围内，且第一金属线41与黑矩阵60接触。其中，第一触控图形层40可以位于黑矩阵60靠近显示基板10的一侧。

在一些实施例中，第一触控图形层40可以包括多个自电容电极，每个自电容电极均包括多条第一金属线41。在另一些实施例中，触控结构层包括第一触控图形层40和第二触控图形层，第一触控图形层40包括多个触控驱动电极，第二触控图形层包括多个触控感应电极，触控驱动电极和触控感应电极交叉设置，且绝缘间隔，触控驱动电极为多条第一金属线41形成的金属网格电极，触控感应电极为多条第二金属线形成的金属网格电极。或者，触控结构层包括多个触控驱动电极和多个触控感应电极，每个触控驱动电极包括多个驱动电极单元、以及位于相邻驱动电极单元之间的连接部；每个触控感应电极包括多个感应电极单元、以及位于相邻的感应电极单元之间的桥接部，驱动电极单元、连接部、感应电极单元均位于第一触 控图形层40，且均为多条第一金属线形成的金属网格结构，多个感应电极单元位于第二触控图形层，且均为多条第二金属线形成的金属网格结构；当然，也可以将驱动电极单元、连接部、感应电极单元设置在第二触控图形层中，将多个感应电极单元设置在第一触控图形层40中。

在本公开实施例中，第一触控图形层40中的第一金属线41与黑矩阵60接触，即，第一触控图形层40的第一金属线41与黑矩阵60之间不再设置其他间隔层，从而简化触控显示面板的结构，简化制作工艺。并且，可以减小黑矩阵60与发光器件23之间的距离，从而改善发光器件23的L-Decay衰减加快和触控显示面板的色偏问题。

如图1A所示，触控显示面板还可以包括：多个像素滤光部80，多个像素滤光部80的颜色包括多种，每个像素滤光部80与显示基板10的一个像素区P相对设置，即，每个像素滤光部80在显示基板10上的正投影与一个像素区至少部分重叠。例如，多个像素区P分为多个像素单元，每个像素单元包括红色像素区、绿色像素区和蓝色像素区，多个像素滤光部80可以包括：对应于红色像素区的红色像素滤光部80r，对应于蓝色像素区的蓝色像素滤光部80b和对应于绿色像素区的绿色像素滤光部80g。

在一些实施例中，如图1A所示，黑矩阵60采用黑色单层结构，例如黑矩阵60的材料包括黑色的有机材料。

其中，当第一触控图形层40包括多个自电容电极，每个自电容电极包括多条第一金属线41时，采用黑色单层结构的黑矩阵60可以位于第一触控图形层40远离显示基板10的一侧。

如图1A所示，触控显示面板还包括覆盖层91，覆盖层91在显示基板10上的正投影覆盖每个像素区。其中，覆盖层91可以为连续的整层结构，也可以为非连续结构，例如，覆盖层91包括多个覆盖部，每个覆盖部在显示基板10上的正投影覆盖至少一个像素区。其中，覆盖层91的材料可以包括无机绝缘材料或有机绝缘材料。

图2A为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图，图2B为本公开的一些实施例中提供的第一滤光图形和第二滤光图形的仰视图，如图2A和图2B所示，在另一些实施例中，黑矩阵60可以包括：第一滤光图形61和第二滤光图形62，第一滤光图形61位于第一触控图形层远离显示基板10的一侧，第二滤光图形62位于第一滤光图形61远离显示基板10的一侧，第一滤光图形61和第二滤光图形62在显示基板10上的正投影均覆盖第一触控图形层40在显示基板10上的正投影，第一滤光图形61包括多个第一滤光部61a，第二滤光图形62包括多个第二滤光部62a，第一滤光部61a与第二滤光部62a一一对应地相对设置。例如，当多个像素区排列为多行多列时，如图2B所示，第一滤光部61a和第二滤光部62a均为条状结构，多个第一滤光部61a纵横交错，形成网格状结构；多个第二滤光部62a纵横交错，形成网格状结构。当然，第一滤光部61a和第二滤光部62a也可以为其他形状。

其中，每个第一滤光部61a与其对应的第二滤光部62a的材料，分别与两种颜色的像素滤光部80的材料相同。

也就是说，对于任意一个第一滤光部61a与其对应的第二滤光部62a而言，第一滤光部61a与其中一种颜色的像素滤光部的材料相同，第二滤光部62a与另一种颜色的像素滤光部80的颜色相同。可选地，第一滤光图形61可以包括多个第一滤光部61a，第二滤光图形62可以包括多个第二滤光部62a，多个第一滤光部61a的颜色相同或不完全相同；多个第二滤光部62a的颜色相同或不完全相同。例如，对于其中一个第一滤光部61a与其相应的第二滤光部62a而言，二者的材料分别与红色像素滤光部80r和绿色像素滤光部80g的材料相同；对于另一个第一滤光部61a与其相应的第二滤光部62a而言，二者的材料分别与红色像素滤光部80r和蓝色像素滤光部80b的材料相同。

这种情况下，第一滤光部61a和第二滤光部62a分别用于透过不同颜色 的光线，从而使得第一滤光图形61和第二滤光图形62的叠层同样能够起到遮光作用，并且，在触控显示面板的制备过程中，第一滤光部61a可以和与其材料的像素滤光部80同步制作，第二滤光部62a可以和与其材料相同的像素滤光部80同步制作，从而无需单独制作第一滤光部61a和第二滤光部62a，进而简化了制作工艺。

如图2A所示，黑矩阵60还可以包括：采用黑色单层结构的遮光部63，遮光部63具有通孔，第一金属线41和第一滤光图形61的至少一部分均位于通孔内，且将第一金属线41与遮光部63间隔开。

其中，遮光部63的材料中可以含有金属元素(例如Cr元素)，以使黑矩阵60可以同时达到高OD(optical density，光密度)值和高阻抗，但是，这种情况下，也会导致遮光部63具有一定的弱导电性。而图2A所示的实施例中，第一滤光图形61将第一金属线41与遮光部63间隔开，因此，图2A的结构可以在简化制备工艺的同时，防止遮光部63的弱导电性对触控检测效果造成影响。

如图2A所示，第二滤光图形62在至少一部分可以位于通孔外，且第二滤光图形62在显示基板10上的正投影的一部分超出通孔在显示基板10上的正投影，从而保证黑矩阵60整体的遮光效果。

在一些实施例中，多个第一滤光部61a的材料、颜色可以相同，并连接为一体；多个第二滤光部62a的材料、颜色可以相同，并连接为一体。

图2C为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图，图2C所示的触控显示面板与图2A中所示的触控显示面板相同，区别仅在于，图2C中，至少两个第一滤光部61a的颜色不同，至少两个第二滤光部62a的颜色不同。图2C中，不同颜色的第一滤光部61a用不同的剖面线表示，不同颜色的第二滤光部62a采用不同剖面线表示。

在图1A、图2A和图2C所示的触控显示面板中，显示基板10的结构可以相同，具体地，如图1A、图2A和图2C所示，显示基板10包括：衬 底基板11和设置在衬底基板11上的多个发光器件23，每个像素区均设置有一个发光器件23，另外，显示基板10还包括设置在衬底基板11与多个发光器件23之间的多个像素驱动电路，像素驱动电路与发光器件23一一对应，像素驱动电路用于为发光器件23提供驱动电流，以驱动发光器件23发光。例如，像素驱动电路包括多个薄膜晶体管21和至少一个电容Cs。

如图1A、图2A和图2C所示，薄膜晶体管21包括栅极211、有源层212、源极213和漏极214，以薄膜晶体管21采用顶栅型薄膜晶体管为例，有源层212位于栅极211与衬底基板11之间。有源层212的材料可以包括例如无机半导体材料(例如，多晶硅、非晶硅等)、有机半导体材料、氧化物半导体材料。有源层212包括沟道部和位于该沟道部两侧的源极连接部和漏极连接部，源极连接部与薄膜晶体管21的源极213连接，漏极连接部与薄膜晶体管21的漏极214连接。源极连接部和漏极连接部均可以掺杂有比沟道部的杂质浓度高的杂质(例如，N型杂质或P型杂质)。沟道部与薄膜晶体管21的栅极211正对，当栅极211加载的电压信号达到一定值时，沟道部中形成载流子通路，使薄膜晶体管21的源极213和漏极214导通。

缓冲层BFL设置在薄膜晶体管21与衬底基板11之间，用于防止或减少金属原子和/或杂质从衬底基板11扩散到薄膜晶体管21的有源层212中。缓冲层BFL可以包括诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅的无机材料，并且可以形成为多层或单层。

第一栅绝缘层GI1设置在有源层212远离衬底基板11的一侧。第一栅绝缘层GI1的材料可以包括硅化合物、金属氧化物。例如，第一栅绝缘层GI1的材料包括氮氧化硅、氧化硅、氮化硅、碳氧化硅、氮碳化硅、氧化铝、氮化铝、氧化钽、氧化铪、氧化锆、氧化钛等。另外，第一栅绝缘层GI1可以为单层或多层。

薄膜晶体管21的栅极211、电容Cs的第一电极板Cs1同层设置并位于第一栅绝缘层GI1远离衬底基板11的一侧。栅极211、第一电极板Cs1的 材料可以包括例如金属、金属合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等。

第二栅绝缘层GI2设置在栅极211远离衬底基板11的一侧，第二栅绝缘层GI2的材料可以包括例如氮氧化硅、氧化硅、氮化硅、碳氧化硅、氮碳化硅等。

电容Cs的第二电极板Cs2设置在第二栅绝缘层GI2远离衬底基板11的一侧，其材料可以与第一电极板Cs1的材料相同，具体参见上文中所列举的导电材料。

层间绝缘层ILD设置在电容Cs的第二电极板Cs2远离衬底基板11的一侧，层间绝缘层ILD的材料可以包括例如硅化合物、金属氧化物等。具体可以选择上文所列举的硅化合物和金属氧化物，这里不再赘述。

第一源漏导电层设置在层间绝缘层ILD远离衬底基板11的一侧。第一源漏导电层可以包括各晶体管的源极213和漏极214，源极213与源极连接部电连接，漏极214与漏极连接部电连接。第一源漏导电层可以包括金属、合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等，例如，第一源漏导电层可以为金属构成的单层或多层，例如为Mo/Al/Mo或Ti/Al/Ti。

钝化层PVX设置在源漏导电层远离衬底基板11的一侧，钝化层PVX的材料可以包括例如氮氧化硅、氧化硅、氮化硅等。

第二源漏导电层设置在钝化层PVX远离衬底基板11的一侧，其可以包括转接电极22等导电结构。第二源漏导电层可以包括金属、合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等。

平坦化层PLN设置在钝化层PVX远离衬底基板11的一侧，平坦化层PLN可以采用有机绝缘材料制成，例如，该有机绝缘材料包括聚酰亚胺、环氧树脂、压克力、聚酯、光致抗蚀剂、聚丙烯酸酯、聚酰胺、硅氧烷等树脂类材料等。

像素界定层PDL位于平坦化层PLN远离衬底基板11的一侧，像素界 定层PDL具有多个用于容纳发光器件的像素开口。发光器件23包括：第一电极231、第二电极232以及位于第一电极231与第二电极232之间的发光功能层233。例如，第一电极231为阳极，第二电极232为阴极。可选地，第一电极231为金属材料制作的反射电极，第二电极232为透明导电材料(例如，氧化铟锡)制作的透明电极。发光功能层233可以包括依次叠置的：空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层。第一电极231位于像素界定层PDL与平坦化层PLN之间，并通过平坦化层PLN上的过孔与转接电极22连接，进而通过转接电极22与薄膜晶体管21的漏极214连接。第一电极231的一部分被像素开口暴露出。多个发光器件23的第二电极232可以形成为一体结构。

可选地，发光器件23为OLED器件，此时，发光层采用有机发光材料；或者，发光器件23为QLED(Quantum Dot Light Emitting Diodes，量子点发光二极管)器件，此时，发光层采用量子点发光材料。每个发光器件23所发射的光线颜色与相应的像素滤光部的颜色相同。

如图1A、图2A和图2C所示，显示基板10还可以包括封装层30，封装层30覆盖像素界定层PDL和多个发光器件23，用于对发光器件23进行封装，以防止外界环境中的水汽和/或氧气侵蚀发光器件23。在一些实施例中，封装层30包括层叠设置的多个封装子层，例如，多个封装子层包括：第一无机封装子层31、第二无机封装子层32和有机封装子层33，第二无机封装子层32位于第一无机封装子层31的远离衬底基板11的一侧，有机封装子层33位于第一无机封装子层31与第二无机封装子层32之间。第一无机封装子层31和第二无机封装子层32均可以采用氮氧化硅、氧化硅、氮化硅等致密性高的无机材料制成。有机封装子层33可以采用含有干燥剂的高分子材料制成，或采用可阻挡水汽的高分子材料制成。例如，采用高分子树脂，从而可以缓解第一无机封装子层31和第二无机封装子层32的应力，还可以包括干燥剂等吸水性材料以吸收侵入内部的水分子和/或氧气 分子。

在一些实施例中，显示基板10还可以包括隔垫层(未示出)，其位于像素界定层PDL与封装层30之间，隔垫层可以进一步增加外界的水汽或氧气进入显示区的路径，从而保护显示区中的发光器件23。

在图1和图2A、图2C所示的触控显示面板中，第二无机封装子层32可以为连续的整层膜层，第一触控图形层40与封装层30之间可以设置有缓冲层；当然，第一触控图形层40和像素滤光部80可以直接设置在封装层30上，并与第二无机封装子层32接触，从而可以减小触控显示面板的整体厚度；且可以减小黑矩阵60与发光器件23之间的距离，改善发光器件的L-Decay衰减过快以及色偏的问题。

图3为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图，图3所示的触控显示面板与图2A所示的触控显示面板相似，区别在于，图3所示的触控显示面板中的触控结构层除了包括第一触控图形层40，还可以包括第二触控图形层50。其中，第二触控图形层位于第一触控图形层40靠近显示基板10的一侧，且包括多条第二金属线51，每条第二金属线51在显示基板10上的正投影位于黑矩阵60在显示基板10上的正投影范围内。

如图3所示，第二触控图形层50与第一触控图形层40之间还可以设置有第一绝缘层90。如上文所述，第一触控图形层40可以包括多个触控驱动电极，第二触控图形层50可以包括多个触控感应电极，此时，第一绝缘层90将第一触控图形层40和第二触控图形层50绝缘间隔开；或者，第一触控图形层40和第二触控图形层50中的一者包括：触控驱动电极的驱动电极单元和连接部以及触控感应电极的感应电极单元；第一触控图形层40和第二触控图形层50中的另一者包括：触控感应电极的桥接部，此时，桥接部通过第一绝缘层90上的过孔与感应电极连接。

图4为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图，图4所示的触控显示面板与图3所示的触控显示面板类似，均包括：显示基板 10，以及位于显示基板10出光侧的触控结构层、黑矩阵60、多个像素滤光部80和覆盖层91。其中，触控结构层包括第一触控图形层40和第二触控图形层50，第一触控图形层40包括多条第一金属线41，第二触控图形层50包括多条第二金属线51，第一金属线41和第二金属线51在显示基板10上的正投影均位于黑矩阵60在显示基板10上的正投影范围内。下面对图4与图3的区别进行介绍。

如图4所示，第二触控图形层50位于第一触控图形层40远离显示基板10的一侧，黑矩阵60位于第一触控图形层40和第二触控图形层50之间。这样可以利用黑矩阵60将第一触控图形层40和第二触控图形层50间隔开，而无需再另外制作第一触控图形层40与第二触控图形层50之间的绝缘层。

其中，当第二触控图形层50位于黑矩阵60远离显示基板10的一侧时，可以将第二金属线51远离显示基板10的表面的折射率设置在5％以下，以防止第二金属线51对外界环境光的反射影响显示效果。在一些示例中，第二金属线51可以包括多层金属层的叠层，其中最远离显示基板10的金属层采用黑色金属层，其余金属层中的至少一者采用导电率较高的金属层，例如，第二金属线51采用MoOx/Al/Ti的叠层或MoOx/Al/MoOx的叠层，其表面反射率约为4.2％。

另外，如图4所示，黑矩阵60具有：背向显示基板10的第一表面s1、朝向显示基板10的第二表面、以及连接在第一表面s1与第二表面s2之间的侧面。并且，黑矩阵60的第一表面s1高于像素滤光部80远离显示基板10的表面，从而使黑矩阵60的侧面的一部分与覆盖层91接触，如图4所示，黑矩阵60的侧面包括与覆盖层91接触的第一子侧面s3。并且，黑矩阵60靠近第一子侧面s3的部分的折射率小于覆盖层91的折射率，以使显示基板10照射至第一子侧面s3的至少一部分，在第一子侧面s3发生全反射，从而被第一子侧面s3朝远离显示基板10的方向反射，进而提高触控显 示面板的亮度。

其中，第一子侧面s3可以为倾斜的平面，也可以为内凹或外凸的弧面，只要能够使显示基板10出射的至少一部分光线在第一子侧面s3发生全反射即可。

在一个示例中，黑矩阵60靠近第一子侧面s3的部分的折射率可以为1.5～1.6，覆盖层91的折射率可以为1.7～1.8。

需要说明的是，在图4所示的触控显示面板中，黑矩阵60可以采用黑色的单层结构，例如，可以采用黑色有机绝缘材料。当然，黑矩阵60也可以采用图2中的黑矩阵60的结构(即，包括遮光部63、第一滤光图形61和第二滤光图形62)，这种情况下，第一金属线41位于第一滤光图形61靠近显示基板10的一侧，第二金属线51位于第二滤光图形62远离显示基板10的一侧。并且，可以将遮光部63的折射率设置为大于覆盖层91的折射率，以使遮光部63与覆盖层91接触的表面形成全反射面。

在图4中，覆盖层91可以与图3中的覆盖层91相同，均采用整层的膜层。

图5为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图，图5所示的触控显示面板与图4所示的触控显示面板类似，区别仅在于，在图5中，覆盖层91不再是连续的膜层，而是包括间隔设置的多个覆盖部91a，每个覆盖部91a在显示基板10上的正投影覆盖至少一个像素区。

其中，多个覆盖部91a可以采用光刻构图工艺形成。

图6为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图，图6所示的触控显示面板与图4类似，均包括：显示基板10，以及位于显示基板10出光侧的触控结构层、黑矩阵60、多个像素滤光部80和覆盖层91。其中，触控结构层包括第一触控图形层40和第二触控图形层50，第一触控图形层40包括多条第一金属线41，第二触控图形层50包括多条第二金属线51，第一金属线41和第二金属线51在显示基板10上的正投影均位于黑 矩阵60在显示基板10上的正投影范围内。黑矩阵60远离显示基板10的一侧设置有覆盖层91，覆盖层91在显示基板10上的正投影覆盖每个像素区。下面对图6与图5的区别进行介绍。

在图6中，第二触控图形层50位于第一触控图形层40靠近显示基板10的一侧，第二触控图形层50与第一触控图形层40之间设置有第二绝缘层93，第二绝缘层93在显示基板10上的正投影位于间隔区。

第二绝缘层93具有：背向显示基板10的第一表面s4、朝向显示基板10的第二表面s5、以及连接在第一表面s4与第二表面s5之间的侧面。第二绝缘层93的侧面包括与覆盖层91接触的第一子侧面s6。其中，第二绝缘层93的折射率小于覆盖层91的折射率，以使所述显示基板10照射至第二绝缘层93的第一子侧面s6的至少一部分光线，在第一子侧面s6发生全反射，从而被第一子侧面s6朝远离显示基板10的方向反射。

在图6所示的触控显示面板中，第一金属线41和第二金属线51均位于黑矩阵60靠近显示基板10的一侧，不会接收到环境光，因此，对第一金属线41和第二金属线51的反射率并无特别要求，二者的材料可以包括黑色的金属，也可以不包括黑色的金属。

在图6所示的触控显示面板中，覆盖层91可以设置为连续的整层膜层，也可以包括间隔的多个覆盖部。

在图4至图6中，显示基板10的结构与图1和图2A中的显示基板10结构相同，具体参见上文描述，并且，在图4至图6中，像素滤光部80均可以与第二封装子层32接触。

图7为本公开的另一些实施例中提供的触控显示面板的示意图，图7所示的触控显示面板与图4类似，区别仅在于，在图7中，显示基板10中的第二封装子层32不再是连续的整层膜层，而是具有多个镂空部，每个镂空部对应一个像素滤光部80，像素滤光部80通过相应的镂空部与有机封装子层32接触。

其中，第二封装子层32和第一触控图形层40可以利用两次构图工艺分别制作；也可以利用同一次构图工艺形成。

在图7所示的触控显示面板中，像素滤光部80和发光器件23的距离进一步降低；另外，像素滤光部80和有机封装子层32均采用有机材料，二者的折射率较为接近，从而可以减少发光器件23的光线在像素滤光部80与有机封装子层32之间的界面发生全反射的情况，提高光取出效率。在一个示例中，像素滤光部80的折射率和有机封装子层32的折射率均在1.5～1.65之间。

在图7所示的触控显示面板中，覆盖层91可以设置为连续的整层膜层，也可以包括间隔的多个覆盖部。

在图4至图7所示的各触控显示面板中，还可以包括粘结层92和盖板，粘结层92位于覆盖层91远离显示基板10的一侧，盖板位于粘结层92远离显示基板10的一侧，并与粘结层92粘结。粘结层92可以采用光学胶，盖板可以采用玻璃基板或柔性材料制作的柔性基板。当然，在图1、图2A和图2C所示的触控显示面板中，也可以包括上述粘结层和盖板。

需要说明的是，上述各实施例中的触控显示面板的结构，仅是为了说明本公开的原理而采用的示例性实施方式，对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本公开的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进。例如，对于图4至图7所示的触控显示面板，其可以省去第二触控图形层，并将第一触控图形层设置为多个自电容电极。

本公开实施例还提供一种触控显示装置，其包括上述实施例中的触控显示面板。所述触控显示装置可以为OLED面板、QLED显示面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本公开的原理而采用的示例性实施方式，然而本公开并不局限于此。对于本领域内的普通技术人 员而言，在不脱离本公开的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本公开的保护范围。