具有处理单元的痤疮处理系统

技术领域

本公开涉及在对象的皮肤上对痤疮损伤的处理，并且具体地涉及一种痤疮处理系统，其包括处理单元和借助于光来处理痤疮损伤的痤疮处理装置。

背景技术

个人护理设备、并且特别是面部毛发刮剃设备领域的最近焦点在于，除了由这种设备执行的诸如刮剃、脱毛、皮肤按摩等主要个人护理功能之外，还添加使该设备能够向设备的用户提供有益效果或处理的功能。

例如，可以通过使用个人护理设备内的红外(IR)或近红外(NIR)光模块向个人护理设备的用户提供增强的感官体验。当个人护理设备在使用中执行(多个)个人护理功能时，IR或近IR光模块可以被供电以向用户提供温和的温暖和/或处理用户的皮肤。

个人护理设备(特别是在脸上使用的个人护理设备)可以提供的另一种处理是使用光来对痤疮进行处理。具有蓝光和红光的光疗是处理轻度至中等严重性的普通痤疮的有效手段，且没有明显的短期不良反应，该光疗结合了抗菌作用(由于针对痤疮丙酸杆细菌的最佳光致激发)和抗炎作用(由于巨噬细胞释放细胞因子)。

痤疮损伤可以被细分为不同类型的损伤；微粉刺、黑头粉刺、白头粉刺、丘疹、脓疱、结节、囊肿、斑疹和疤痕。炎症是对感染性或无菌组织损伤的反应，并且具有恢复组织的生理目的。炎症在遏制和解决感染或损伤方面发挥着重要作用，并且也可能在无菌条件下发生。粉刺是炎症性痤疮损伤的最大前兆。粉刺并不总是会变成炎症或结节。粉刺可能会转变为炎症性丘疹/脓疱。这种转变通常被称为炎症。痤疮中的炎症在痤疮损伤的整个生命周期中变化，从非炎症性微粉刺到闭合性和开放性粉刺，再到炎症性损伤(丘疹、脓疱、结节和“囊肿”)，并且最后到痤疮后损伤(炎症后红斑(PIE)、炎症后色素沉着过度(PIH)、正常皮肤或疤痕)。

痤疮的临床类型包括(1)非炎症性粉刺性痤疮(仅粉刺；无炎症性损伤或囊肿)；(2)轻度炎症性痤疮(炎症性丘疹和粉刺)；(3)中度炎症性痤疮(炎症性丘疹、脓疱、粉刺的数量总体上多于轻度疾病)；以及(4)严重炎症性结节囊肿性痤疮(炎症性丘疹、粉刺和囊肿，伴有残留疤痕)。

图1图示了痤疮损伤在一段时间内的炎症过程和临床表现。开始阶段可以持续数小时，并且包括炎症性细胞浸润和炎症反应的发生，诸如肿胀(水肿)、发红、发热和/或疼痛。消退阶段可以持续数天，并且包括炎症性细胞清除和肿胀(水肿)、发红、发热和/或疼痛的减轻。愈合阶段可以持续数周，并且由于肉芽组织的形成和皮肤的重塑，可以感知到皮肤的发红。

发明内容

已经发现，在痤疮损伤的情况下，最佳的光处理(就所使用的光的波长、其相对强度等而言)取决于损伤所处的阶段。例如，当损伤处于高炎症阶段时，红光应具有比蓝光相对较高的强度，而在低炎症阶段则相反。然而，患有痤疮的特定对象或用户通常将在多个不同的阶段具有痤疮损伤，并且因此不存在对于他们的所有痤疮损伤而言是最佳的光处理的单一配置。

WO2008/052151公开了一种个人护理设备，其包括刮剃装置组件和光疗设备组件。描述了红光和蓝光的使用，并且可以同时应用不同波长的光的组合以同时处理不同的皮肤状况。用户只需选择特定的皮肤状况即可控制所发射的波长和强度水平，控制系统使设备为该皮肤状况提供适当的颜色和强度。

虽然WO2008/052151使得用户能够选择皮肤状况并且控制系统使用针对该皮肤状况的预定颜色和强度，但是个人护理设备的用户通常难以正确地确定要被处理的皮肤状况的类型。此外，WO2008/052151没有认识到将发射光的特性调谐到痤疮损伤的特定阶段会是有益的，并且没有描述炎症状态的变化可以被用作用于表征丘疹/痤疮损伤的生命周期的各阶段(特别是在炎症达到其顶峰时，痤疮损伤的成熟阶段)的鉴别器，并且没有描述它如何响应于光处理而变化。

在不了解损伤的成熟期/阶段的情况下处理具有痤疮损伤的皮肤区域可能会导致处理过度或处理不足，从而导致不期望的副作用以及处理效果差。此外，用户在不同的成熟阶段可能具有不同的痤疮损伤，这可能意味着针对身体/面部的不同部位的最佳光特性可能是不同的。

因此，本公开的目的是提供一种包括处理单元和痤疮处理装置的痤疮处理系统，其可以与个人护理设备(包括刮剃系统)一起使用或作为个人护理设备的一部分来使用，以提供对痤疮损伤的改进的处理，其基于痤疮损伤的当前生理阶段来提供合适的红光强度和蓝光强度，从而提高处理效果并且减少副作用。

根据本发明的第一方面，提供了一种痤疮处理系统，其包括处理单元和痤疮处理装置，该痤疮处理装置具有一个或多个光源，该一个或多个光源被配置和布置为生成波长主要在从600至700nm的范围内的第一处理光和波长主要在从400至480nm的范围内的第二处理光，用于在痤疮处理系统的使用期间施加到对象的皮肤上的痤疮损伤。该处理单元被配置为：接收由一个或多个传感器提供的一个或多个测量信号，该一个或多个传感器被配置和布置为测量指示痤疮损伤的炎症程度和/或严重性阶段的一个或多个参数，所述一个或多个测量信号表示痤疮损伤的所指示的炎症程度和/或所指示的严重性阶段；基于由一个或多个测量信号所表示的痤疮损伤的所指示的炎症程度和/或所指示的严重性阶段，确定要被施加到痤疮损伤的第一处理光的强度与第二处理光的强度的光强度比；并且控制痤疮处理装置的一个或多个光源以根据所确定的光强度比来生成第一处理光和第二处理光以施加到痤疮损伤。

在根据第一方面的痤疮处理系统的实施例中，痤疮处理装置包括痤疮处理系统的处理单元。

在根据第一方面的痤疮处理系统的实施例中，痤疮处理系统包括控制装置，该控制装置包括痤疮处理系统的处理单元和第一通信单元。痤疮处理系统的痤疮处理装置具有第二通信单元，该第二通信单元被配置为与第一通信单元通信。在使用期间，由处理单元生成的用于控制痤疮处理装置的一个或多个光源的控制信号经由第一和第二通信单元从控制装置被传送到痤疮处理装置。

根据本发明的第二方面，提供了一种电动刮剃装置，包括根据第一方面或其任意实施例的痤疮处理系统，并且还包括主体和联接到主体的刮剃单元。痤疮处理装置的一个或多个光源被布置在刮剃单元中，以在刮剃单元与对象的皮肤接触的情况下在刮剃单元的操作期间向对象的皮肤施加第一处理光和第二处理光。

这些和其他方面将从下文描述的(多个)实施例中变得显而易见并且参考下文描述的(多个)实施例进行阐明。

附图说明

现在将参考以下附图仅通过示例的方式描述示例性实施例，其中：

图1图示了痤疮损伤在一段时间内的炎症过程和临床表现；

图2是电动刮剃器的简化图示；

图3图示了根据本文描述的技术的处理单元以及一个或多个传感器和一个或多个光源；

图4是图示了作为痤疮处理装置的一部分的图3的处理单元的框图；

图5是图示了图3的处理单元作为痤疮处理系统中的控制装置的一部分的框图；以及

图6是图示了作为红光与紫光/蓝光的强度比的函数的炎症性损伤与非炎症性损伤的改善的比的图。

具体实施方式

如上面所指出，本公开的目的是提供一种包括处理单元和痤疮处理装置的痤疮处理系统，以提供对痤疮损伤的改进的处理。痤疮处理系统的处理单元通过自动确定适合于痤疮损伤的当前生理阶段的光强度的比来提供改进，从而提高处理效果并减少光处理所带来的副作用。在一些实现中，痤疮处理系统可以与个人护理设备(包括刮剃系统)一起使用或作为个人护理设备的一部分进行使用。

图2是电动刮剃装置1的简化图示。图示的电动刮剃装置1也是痤疮处理装置，因为其包括用于对痤疮损伤执行处理操作的一个或多个光源，根据本文描述的技术控制(一个或多个)光源的处理单元可以是电动刮剃装置1的一部分，或者与电动刮剃装置1是分开的。

在所示的示例中，电动刮剃装置1是旋转式的并且包括旨在由电动刮剃装置1的用户握持的主体10和旨在接触皮肤的一部分以执行个人护理功能的功能单元20。在该示例中，功能单元20是刮剃单元，并且个人护理操作是刮剃/毛发剪切/毛发修剪。电动刮剃装置1的主体10通常也被称为手柄，并且电动刮剃装置1的刮剃单元20通常也被称为刮剃头。

刮剃单元20包括多个毛发剪切单元21，在所示的示例中数量为三个。当电动刮剃装置1被应用于皮肤以执行刮剃动作时，剪切掉从皮肤的该部分突出的毛发的实际过程发生在毛发剪切单元21的位置处。为了支撑毛发剪切单元21，刮剃单元20包括基座构件22。

每个毛发剪切单元21包括外剪切构件23和内剪切构件(未示出)的组合，外剪切构件23具有大致杯形设计，内剪切构件配备有至少一个毛发剪切元件并且至少部分地被容纳在外剪切构件23的内部。外剪切构件23在环形剪切轨道表面25中具有毛发进入开口24。在刮剃动作期间，延伸穿过毛发进入开口24并突出到外剪切构件23的内部的毛发一旦遇到内剪切构件的毛发剪切元件就被剪切掉。当内剪切构件被启动以进行旋转并且皮肤的一部分在剪切轨道表面25的位置处被外剪切构件23实际接触时，执行刮剃动作。内剪切构件的激活可以通过电动刮剃装置1的驱动机构以已知的方式发生。该驱动机构(例如马达)通常位于主体10中，并且马达的旋转移动被传递到刮剃单元20中的毛发剪切单元21的内剪切构件。当外剪切构件23和内剪切构件的组合在皮肤的该部分上移动，同时内剪切构件被驱动以进行旋转时，实现了从皮肤的该部分突出的毛发被捕获在外剪切构件23的毛发进入开口24中并在该位置处被剪切掉。

在图2中所示的电动刮剃装置1中，刮剃单元20包括光单元30，其被配置为将光发射到皮肤上以对痤疮损伤提供处理效果。光单元30可以包括具有皮肤接触表面32的皮肤接触构件31，该皮肤接触表面32被布置为邻近毛发剪切单元21以在刮剃动作期间接触皮肤。此外，光单元30包括多个光源33，为了清楚起见，在下文中将其简称为光源33，并且其例如可以是LED或激光二极管。每个光源可以被配置为发射特定波长的光，或者可以是可控的以发射不同波长的光。例如，可以提供发射主要为红色的光(例如，波长主要在从600至700nm的范围内)的一个或多个光源，并且可以提供发射主要为蓝色/紫色的光(例如，波长主要在从400至480nm的范围内)的一个或多个其他光源。替代地，每个光源可以是可控的以交替发射主要为红色的光和主要为蓝色/紫色的光。光源33可以被集成在皮肤接触构件31中。皮肤接触构件31可以包括对(一个或多个)光源33发射的光的波长呈透明的材料，并且光源33可以被嵌入在该材料中。当在刮剃动作期间激活光单元30时，可以实现皮肤经受除刮剃动作之外的更多动作，特别是处理痤疮损伤的动作，这可以引起对痤疮损伤的状况/外观的改善。

在所示的示例中，以支架的形式来提供皮肤接触构件31，该支架被布置为在三个毛发剪切单元21之间延伸并且部分地支撑三个毛发剪切单元21。根据有利的选择，包括光源33的皮肤接触构件31可拆卸地或可铰接地被布置在刮剃单元20中。为了具有所发射的光的实用分布，光源33可以被布置为经由布置在毛发剪切单元21之间的皮肤接触表面32的中心部分以及经由布置在以等边三角形构造的三对不同的相邻毛发剪切单元21中的每一对之间的皮肤接触表面32的外围部分35a、35b、35c来发射光。

图2中所示的刮剃单元20还包括一个或多个传感器34，其用于测量皮肤上的痤疮损伤的一个或多个参数。一个或多个传感器34输出表示(一个或多个)测量参数的相应测量信号。一个或多个参数指示皮肤上的痤疮损伤的炎症程度和/或严重性阶段。在替代实现中，可以与电动刮剃装置1分开地提供一个或多个传感器34。

图3图示了根据本文描述的技术的处理单元40以及一个或多个传感器42和一个或多个光源44。一个或多个光源44是痤疮处理装置的一部分。

处理单元40执行本文描述的技术：确定适合于痤疮损伤的当前生理阶段的光强度比并控制一个或多个光源44的操作以生成适当的处理光。处理单元40基于从一个或多个传感器42接收的一个或多个测量信号来确定该比。

可以用软件和/或硬件以多种方式来实现处理单元40，以执行本文描述的各种功能。处理单元40可以包括一个或多个微处理器或数字信号处理器(DSP)，其可以使用软件或计算机程序代码进行编程以执行所需的功能和/或控制处理单元40的组件以实现所需的功能。处理单元40可以被实现为执行一些功能的专用硬件(例如放大器、前置放大器、模数转换器(ADC)和/或数模转换器(DAC))和执行其他功能的处理器(例如，一个或多个编程微处理器、控制器、DSP和相关电路)的组合。可以在本公开的各种实施例中采用的组件的示例包括但不限于常规微处理器、DSP、专用集成电路(ASIC)、现场可编程门阵列(FPGA)、用于实现神经网络的硬件和/或所谓的人工智能(AI)硬件加速器(即，可以与主处理器一起使用的专门为人工智能应用设计的(多个)处理器或其他硬件)。

尽管图3中未示出，但是处理单元40可以连接到存储器单元，该存储器单元可以存储数据、信息和/或信号以供处理单元40在执行或实行本文描述的技术时使用。在一些实现中，存储器单元存储可以由处理单元40执行的计算机可读代码，使得处理单元40执行一个或多个功能，包括本文描述的技术。存储器单元可以包括任何类型的非暂时性机器可读介质，诸如高速缓存或系统存储器，包括易失性和非易失性计算机存储器，诸如随机存取存储器(RAM)、静态RAM(SRAM)、动态RAM(DRAM)、只读存储器(ROM)、可编程ROM(PROM)、可擦除PROM(EPROM)和电可擦除PROM(EEPROM)，并且存储器单元可以以如下形式来实现：存储器芯片、光盘(诸如压缩盘(CD)、数字多功能光盘(DVD)或蓝光光盘)、硬盘、磁带存储解决方案或固态设备，包括记忆棒、固态驱动器(SSD)、存储卡等。

一个或多个传感器42用于测量对象的皮肤上的痤疮损伤的一个或多个参数。特别地，一个或多个参数指示皮肤上的痤疮损伤的炎症程度和/或严重性阶段。(一个或多个)传感器42输出表示或指示(一个或多个)测量参数的相应测量信号。指示痤疮损伤的炎症程度的一个或多个参数可以是以下中的任意一者：痤疮损伤的红度、痤疮损伤中的血液氧合、痤疮损伤中的血红蛋白和/或氧合血红蛋白水平、痤疮损伤中的温度以及痤疮损伤内的血液灌注。一个或多个传感器42可以包括以下中的任何一者或多者：成像传感器(例如数码相机)、激光散斑对比分析(LASCA)成像传感器、激光多普勒灌注监测仪、光电容积描记图(PPG)成像传感器、PPG传感器、多光谱/高光谱成像传感器、皮肤反射传感器和温度传感器。数字高光谱成像传感器可以对下面的组织和/或血管进行成像，例如组织氧饱和度(已知为StO2)。LASCA成像传感器或激光多普勒灌注监测仪可以被用来测量血液灌注。PPG传感器可以被用来测量血液的氧合。温度传感器可以测量皮肤的温度，这与皮肤的局部炎症水平相关。

根据传感器42的类型，由传感器42输出的测量信号可以与对象的皮肤的特定部分相关联，并且因此与一个特定的痤疮损伤相关联，或者测量信号可以表示或指示对皮肤上的不同位置处的参数的多个测量值。例如，皮肤的图像可以包括关于多个痤疮损伤的信息。在前一种情况下(即，在测量信号涉及一个或仅几个痤疮损伤的情况下)，可以提供(相同类型的)多个传感器42以便获得与皮肤的不同部分相关联的参数的测量值。在一些实施例中，为了改进对痤疮损伤的炎症阶段和/或严重性的评估，可以提供测量相应参数的多种类型的传感器42。

例如，一个或多个光源44可以是LED或二极管激光器。每个光源44可以被配置为发射特定波长的光，或者可以是可控的以发射不同波长的光。例如，可以提供生成并发射主要为红色的光(例如，波长主要在从600至700nm的范围内)的一个或多个光源44，并且可以提供生成并发射主要为蓝色/紫色的光(例如，波长主要在从400至480nm的范围内)的一个或多个其他光源44。替代地，每个光源44可以是可控的以交替地生成和发射主要为红色的光和主要为蓝色/紫色的光。除上述之外，并且结合本文参考本发明及其实施例描述的每个波长范围，术语“主要”意味着至少80％、优选地至少90％、并且更优选地，至少95％的第一处理光和第二处理光中的每者的光功率由分别限定的波长范围内的波长分量来提供。在LED光源的情况下，例如，LED可以具有20-40nm的带宽，并且具有在上面指定的范围之一中的合适的峰值波长，所有所发射光将在该波长范围内。

如上面所指出，(一个或多个)光源44是痤疮处理装置的一部分。处理单元40可以是痤疮处理装置的一部分，或者是包括痤疮处理装置的痤疮处理系统的单独控制装置的一部分。同样，(一个或多个)传感器42可以是痤疮处理装置的一部分，或者是痤疮处理系统的单独装置的一部分(包括与其中实现处理单元的控制装置分开的装置的部分)。在一些实施例中，痤疮处理装置是个人护理设备(诸如电动刮剃装置)的一部分或与个人护理设备集成。以这种方式，除了个人护理设备的通常的个人护理功能之外，个人护理设备还能够提供痤疮处理操作。

图4和图5是图示了处理单元40和痤疮处理装置的两个示例性实现的框图。具体地，图4示出了作为痤疮处理装置46的一部分的处理单元40。痤疮处理装置46包括(一个或多个)光源44。痤疮处理装置46可以是专用的痤疮处理装置，即，痤疮处理是装置46的主要或唯一功能，或者痤疮处理装置46可以是个人护理设备的一部分，该个人护理设备除了痤疮处理之外还提供另外的个人护理操作。这种个人护理操作可以是刮剃或毛发剪切/修剪。(一个或多个)传感器42可以是痤疮处理装置46的一部分，或者在分开的单元或装置中。在后一种情况下，处理单元40可以被配置为例如经由一个或多个通信单元(图4中未示出)从(一个或多个)传感器42接收(一个或多个)测量信号。

图5示出了作为痤疮处理系统50的一部分的处理单元40。痤疮处理系统50包括痤疮处理装置52和控制装置54，痤疮处理装置52包括(一个多个)光源44，控制装置54包括处理单元54。控制装置54包括第一通信单元56，并且痤疮处理装置52包括第二通信单元58。通信单元56、58使得能够在控制装置54与痤疮处理装置52之间进行数据或信号的通信。例如，通信单元56、58可以使得控制信号能够从处理单元40被传送到(一个或多个)光源44，以使得处理单元40可以控制(一个或多个)光源44的操作。痤疮处理装置52可以是专用的痤疮处理装置，即，痤疮处理是装置52的主要或唯一功能，或者痤疮处理装置52或痤疮处理系统50可以是个人护理设备或个人护理系统的一部分，该个人护理设备或个人护理系统除了痤疮处理之外还提供另外的个人护理操作。这种个人护理操作可以是刮剃或毛发剪切/修剪。(一个或多个)传感器42可以是痤疮处理装置52的一部分、控制装置54的一部分、或者是痤疮处理系统50中的分开的单元或装置的一部分。在(一个或多个)传感器42与控制装置54分开的情况下，第一通信单元56可以使得处理单元40能够从(一个或多个)传感器42接收(一个或多个)测量信号。

控制装置54可以是任何类型的电子设备或计算设备。例如，控制装置54可以是智能手机、平板电脑、智能手表、智能镜子、膝上型计算机、计算机或服务器(例如数据中心中的服务器(也称为“在云中”))或者是其一部分。

如所指出的，第一通信单元56和第二通信单元58实现控制装置54与痤疮处理装置52之间的数据连接和/或数据交换，并且可选地还实现与(一个或多个)传感器42之间的数据连接和/或数据交换，这取决于实现。连接可以是直接的或间接的(例如经由互联网)，并且因此通信单元56、58可以经由任何期望的有线或无线通信协议来实现控制装置54与痤疮处理装置52之间的经由网络(诸如互联网)的连接或控制装置54与痤疮处理装置52之间的直接连接。例如，通信单元56、58可以使用WiFi、蓝牙、Zigbee或任何蜂窝通信协议来操作。在无线连接的情况下，通信单元56、58(以及因此的控制装置54和痤疮处理装置52)可以包括用于通过传输介质(例如空气)进行传输/接收的一个或多个合适的天线。替代地，在无线连接的情况下，通信单元56、58可以包括使得通信单元56、58能够被连接到控制装置54和痤疮处理装置52外部的一个或多个合适的天线的部件(例如连接器或插头)，以用于通过传输介质(例如空气)进行传输/接收。第一通信单元56连接到处理单元40，以使得第一通信单元56接收的信息或数据能够被提供给处理单元40，和/或来自处理单元40的信息或数据能够被第一通信单元56传输。

虽然图3、图4或图5中未示出，但是可以提供一种包括一个或多个组件的用户界面，该一个或多个组件使得痤疮处理装置46、52和/或控制装置54的用户(例如对象)能够将信息、数据和/或命令输入到痤疮处理装置46、52和/或控制装置54中，和/或使得痤疮处理装置46、52和/或控制装置54能够向用户输出信息或数据。例如，用户界面可以包括显示屏，用于显示对象的一个或多个图像和/或对象的皮肤上的一个或多个痤疮损伤的分析结果。用户界面可以包括任何合适的(多个)输入组件，包括但不限于键盘、小键盘、一个或多个按钮、开关或转盘、鼠标、触控板、触摸屏、触笔、相机、麦克风等等，和/或用户界面可以包括任何合适的(多个)输出组件，包括但不限于显示屏、一个或多个灯或灯元件、一个或多个扬声器、振动元件等。

应当了解，痤疮处理装置46和/或痤疮处理系统50的实际实现可以包括除图4和图5中所示的组件之外的附加组件。例如，痤疮处理装置46和/或痤疮处理系统50还可以包括电源，诸如电池，或者用于使得痤疮处理装置46和/或痤疮处理系统50能够被连接到主电源的组件。

如上所述，本公开的目的是确定痤疮损伤(丘疹)的炎症阶段和/或严重性，以使得施加到痤疮损伤的处理光适应于炎症阶段和/或严重性，从而实现更有效的光处理。

特别地，已经发现，血液灌注的发红(红斑)、灌注和氧合的变化可以被用作良好的鉴别器来表征痤疮损伤的生命周期中的各阶段，特别是当炎症达到其峰值时痤疮损伤的成熟阶段。痤疮损伤的血液灌注、血氧饱和度、氧合血红蛋白(HbO2)和血红蛋白(Hb)以及发红在早期阶段较低，在痤疮损伤的成熟阶段增加，然后在后期减少。因此，检测与痤疮损伤的炎症和/或成熟/严重性阶段相关的参数的一个或多个传感器42被使用。例如，可以使用激光散斑对比分析(LASCA)设备/成像传感器、激光多普勒监测仪、PPG传感器或成像PPG传感器来测量血液灌注。作为另一个示例，可以使用多光谱照明和多光谱成像传感器来测量HbO2和/或Hb分量。在另一个示例中，可以使用来自VISIA皮肤分析系统的RBX-红色过滤器来测量发红。在另外的示例中，可以使用温度传感器来测量痤疮损伤的温度。这些或类似传感器的任何组合可以被用来测量与痤疮损伤的炎症和/或严重性相关的参数。

因此，根据本文描述的技术，对痤疮损伤施加光处理，其中光处理包括施加通常为红光的第一处理光和通常为蓝/紫光的第二处理光。主要/通常的红光具有主要在从600至700nm的范围内的波长，并且通常/主要的蓝/紫光具有主要在从400至480nm的范围内的波长。基于从测量信号所确定的痤疮损伤的炎症程度和/或严重性阶段来调整或设定红光强度与蓝/紫光强度的比(被称为“光强度比”)。

在一些实施例中，基于参数测量值，特定痤疮损伤可以被分类为(i)相对低的炎症程度/相对高的严重性，或(ii)相对高的炎症程度/相对低的严重性。如果确定痤疮损伤具有相对较低炎症程度/相对较高严重性，那么光强度比可以在0.5至1.7的范围内，并且如果确定痤疮损伤具有相对较高炎症程度/相对较低严重性，那么光强度比可以大于2。在检测到炎症程度相对较低/严重性相对较高的情况下所使用的光强度比的特定值可以是预定义的，即预定义值在0.5到1.7的范围内。替代地，所使用的光强度比的特定值可以取决于炎症程度/严重性程度。这同样适用于当存在相对较高的情况下。

更详细地，一个或多个传感器42可以被用来测量对象的皮肤的一个或多个参数。(一个或多个)参数指示皮肤上的痤疮损伤的炎症程度和/或严重性阶段，并且可以是痤疮损伤的发红、痤疮损伤中的血氧、痤疮损伤中的血红蛋白和/或氧合血红蛋白水平和痤疮损伤中的血液灌注中的任何一者。(一个或多个)传感器42生成表示痤疮损伤的所测量的炎症程度和/或所测量的严重性阶段的相应测量信号。

处理单元40接收一个或多个测量信号并确定要被施加到痤疮损伤的第一处理光的强度与第二处理光的强度的光强度比。该比是基于由一个或多个测量信号所表示的痤疮损伤的炎症程度和/或严重性阶段所确定的。处理光的强度也可以被理解为辐射水平或剂量水平。

然后，处理单元40控制痤疮处理装置46、52的一个或多个光源44，以根据所确定的光强度比来生成第一处理光和第二处理光以施加到痤疮损伤。因此，处理单元40可以向(一个或多个)光源44输出合适的控制信号，以使得(一个或多个)光源44生成所需的处理光。

在一些实施例中，处理单元40通过如下操作来确定光强度比：对测量信号进行处理以确定要被施加到痤疮损伤的第一处理光的强度与第二处理光的强度的光强度比。处理单元40基于由一个或多个测量信号表示的痤疮损伤的所指示的炎症程度和/或所指示的严重性阶段来确定光强度比。在一些实施例中，处理单元可以通过将所确定的炎症程度和/或所确定的严重性阶段与一个或多个阈值进行比较，或者通过使用将所确定的炎症程度和/或所确定的严重性阶段的值与光强度比的特定值相关联的查找表，确定光强度比。例如，如果炎症程度高于阈值，则可以使用光强度比的第一值，并且如果炎症程度低于阈值，则可以使用光强度比的第二值。对于严重性阶段也是如此。

在另一种方法中，处理单元40直接根据一个或多个测量信号确定光强度比。例如，处理单元40可以通过将一个或多个测量信号与一个或多个阈值进行比较，或者通过使用将一个或多个测量信号的值或一个或多个测量信号的特性与光强度比的特定值相关联的查找表，确定光强度比。

在一些实施例中，处理单元40被配置为确定光强度比，以使得当痤疮损伤的所指示的炎症程度增加(或是高的)或指示的严重性减少(或是低的)时，光强度比增加(或是高的)。同样，处理单元40被配置为确定光强度比，以使得当所指示的炎症程度降低(或是低的)或指示的严重性增加(或是高的)时，光强度比降低(或是低的)。

在特定实施例中，处理单元40被配置为：确定光强度比，使得如果所指示的炎症程度处于相对低的第一指示炎症值范围内，或者所指示的严重性处于相对高的第一指示严重性值范围内，则光强度比在0.5-1.7的范围内；以及如果所指示的炎症程度处于相对高的第二指示炎症值范围内，或者指示的严重性处于相对较低的第二指示严重性值范围内，则确定高于2的光强度比。

在一些实施例中，处理单元40控制一个或多个光源44以同时生成第一处理光和第二处理光。也就是说，第一处理光和第二处理光同时被生成并被施加到痤疮损伤。发射第一处理光和第二处理光中的每一个的强度是根据所确定的光强度比。

出于安全原因(例如，为了避免皮肤过热)，处理单元40可以控制(一个或多个)光源44，使得由(一个或多个)光源44施加到痤疮损伤或皮肤的光的总强度或总量低于阈值。也就是说，处理单元40不仅可以确定处理痤疮损伤的合适的光强度比，还可以确定该比以使得为实现该比而发射的第一处理光和第二处理光的总强度低于阈值。

替代地，可以交替地施加第一处理光和第二处理光，而不是同时发射第一处理光和第二处理光。当在给定时间周期内可以安全地被施加到皮肤的光量受到限制时，这会是有用的，因为它使得第一处理光和第二处理光中的每一个能够以更高的相应强度而被递送，并且提高处理光的生理效果。因此，在替代实施例中，处理单元40控制一个或多个光源44交替地生成第一处理光和第二处理光，以使得在一时间周期上生成的第一处理光和第二处理光的强度满足所确定的比。因此，在这些实施例中，第一处理光和第二处理光可以交替地被脉冲以处理痤疮损伤。第一处理光和第二处理光中的每一个可以例如以1Hz-60 Hz量级的频率被脉冲打开和关闭，但是本领域技术人员将了解，可以使用更高或更低的频率。这种脉冲/交替操作可以被视为一个占空比。在占空比内，可能正在发射第一处理光或第二处理光，或者可能除了第一处理光和第二处理光部分之外还存在占空比的“无光”部分，在该“无光”部分中(一个或多个)光源44不发射光。占空比内的第一处理光和第二处理光的“开启”时间可以是相同的持续时间，或者它们可以是不同的。

在根据占空比发射第一处理光和第二处理光的实施例中，光强度比取决于处理光占空比，即发射第一处理光的时间与发射第二处理光的时间的比例，以及第一处理光和第二处理光在其各自的占空比部分中发射的强度。因此，在一些实施例中，处理单元40所确定的光强度比可以通过调整占空比来实现。例如，为了增加光强度比，可以调整占空比以使得在占空比的比之前更多的部分中发射第一处理光，和/或在占空比的比之前更少的部分中发射第二处理光。附加地或替代地，可以调整占空比，使得以比先前更高的强度发射第一处理光，和/或以比先前更低的强度发射第二处理光。

使用上述技术对高炎症痤疮损伤和非炎症痤疮损伤或低炎症痤疮损伤所获得的改善如图6中所图示。图6示出了基于五项临床研究并与用蓝光进行的研究(由圆圈表示)进行比较，作为红色与紫色的光强度比(由图6中的方块指示)的函数的对炎症性痤疮损伤至低炎症性痤疮损伤或非炎症性痤疮损伤的改善的比。发炎痤疮损伤至非发炎痤疮损伤的改善的百分比的比通过将发炎损伤中获得的改善百分比除以非发炎痤疮损伤中获得的改善百分比来计算。从图6中可以观察到，当红光与紫光的比在2至4之间时，高炎症痤疮损伤的平均改善较高，而在低炎症或非炎症痤疮损伤中，红光与紫光的比在0.5到1.7之间。据观察，对于低炎症或非炎症性痤疮损伤，强度比为0.5的组合的红光与蓝光处理比单独使用蓝光效果更好。

在一些实施例中，可以通过(一个或多个)传感器42获得针对先前处理的痤疮损伤的(一个或多个)参数的另外测量值(例如在处理之后的几分钟或几小时)，并且分析该另外测量值以监测光处理的有效性。具体地，另外测量值与初始测量值(其被用来确定用于初始处理的光强度比)的比较可以指示痤疮损伤的炎症或严重性水平是否已降低。

在一些实施例中，特别地(但非排他地)，在处理单元40与痤疮处理装置52分开的情况下，痤疮处理装置52可以以织物或其他柔性材料的形式来实现，其中(一个或多个)光源44被嵌入或以其他方式被集成。这种织物或柔性材料可以被放置在面部或其他相关身体部位上，并且(一个或多个)光源44被激活以发射所需的处理光来处理皮肤上的痤疮损伤。优选地，织物或其他柔性材料包括分散在织物/材料上的若干光源44，以使得每个光源44可以被用来处理皮肤的相应部分(并且因此处理相应的痤疮损伤)。在这种情况下，来自(一个或多个)传感器42的测量可以被用来确定皮肤上的不同痤疮损伤的炎症阶段和/或严重性，并且该信息被用来根据局部炎症/严重性控制与皮肤的不同部分相邻的光源44。

在其他实施例中，痤疮处理装置52可以以笔或其他小型手持设备的形式来实现，其包括位于处理窗后面的(一个或多个)光源44，来自(一个或多个)光源44的处理光通过该处理窗发射到对象的皮肤上。这种设备可以被放置在皮肤上的特定痤疮损伤上或附近，使用(一个或多个)传感器42获得痤疮损伤的测量值，并且相应地控制(一个或多个)光源44发射所需处理光以处理痤疮损伤。然后可以将该设备移动到具有另一个痤疮损伤的另一个位置，并重复该过程。

因此，提供了一种包括处理单元和痤疮处理装置的痤疮处理系统，其可以与个人护理设备(包括刮剃系统)一起使用或作为个人护理设备的一部分来使用，以提供对痤疮损伤的改进的处理。处理单元基于痤疮损伤的当前生理阶段来控制痤疮处理装置的(一个或多个)光源提供合适的红光和蓝光强度，从而提高处理效果并且减少副作用。本领域技术人员在实践本文描述的原理和技术时，通过研究附图、公开内容和所附权利要求，可以理解和实现所公开的实施例的变型。在权利要求中，词语“包括”不排除其他元件或步骤，并且不定冠词“一”或“一个”不排除复数。单个处理器或其他单元可以实现权利要求中叙述的若干项目的功能。在相互不同的从属权利要求中叙述某些措施这一事实并不表明这些措施的组合不能被有利地使用。计算机程序可以被存储或被分布在适当的介质上，诸如与其他硬件一起供应或作为其他硬件的一部分而被供应的光存储介质或固态介质，但是也可以以其他形式来分布，诸如经由互联网或其他有线或无线电信系统。权利要求中的任何附图标记不应被解释为限制范围。