光刻胶剥离液

技术领域

本发明涉及显示面板行业电子化学品技术领域，尤其涉及一种光刻胶剥离液。

背景技术

随着显示面板制备技术的不断发展，人们对显示面板及装置的各种性能均提出了更高的要求。

现有技术中，在制备形成显示面板时，需要采用多种不同的工艺以得到不同膜层，如通常需要使用光刻工艺进行光刻处理。现有技术中，光刻胶为光刻工艺中必备的物质，光刻工艺(photo-lithography processing)处理后，需要对多余的光刻胶进行去除，在去除时一般在高温条件下进行，而在这种高温下，随着光刻胶被去除的同时，该光刻胶下层的金属膜会在高温下出现加速腐蚀的问题。进而对下方的金属层造成损坏，降低了显示面板内金属走线的质量及安全性能。现有技术中，常用的光刻胶剥离液为水溶性有机胺，如伽玛-丁内酯、DMSO等有机溶剂。但是上述光刻胶剥离液组成物剥离效果不理想且容易在对光刻胶剥离的同时造成金属走线的腐蚀，循环利用率较低。不利于显示面板综合性能的进一步提高。

综上所述，现有技术中在光刻胶剥离工艺中使用的光刻胶剥离液，还存在着剥离效果不理想，循环利用率低且容易在剥离的同时，对下层的金属层造成严重的腐蚀，降低了显示面板的可靠性。

发明内容

本发明实施例提供一种光刻胶剥离液。以有效的改善现有的光刻剥离工艺中采用的剥离液剥离效果不理想，循环利用率低且容易对金属层造成严重腐蚀的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种光刻胶剥离液，包括：

膨胀剂、渗透剂、溶解剂、pH抑制剂以及腐蚀抑制剂；

其中，所述膨胀剂的质量百分比含量为30％-60％，所述溶解剂的质量百分比含量为40％-60％，所述渗透剂的质量百分比含量为0.5％-8％，所述pH抑制剂的质量百分比含量为0.01％-2％，所述腐蚀抑制剂的质量百分比含量为0.001％-2％。

根据本发明一实施例，所述膨胀剂为非质子极性溶剂。

根据本发明一实施例，所述非质子极性溶剂包括：吡咯烷酮化合物、咪唑啉酮化合物，内酯化合物、硫氧化合物，含磷化合物，碳酸盐化合物、等酰胺化合物中的至少一种。

根据本发明一实施例，所述吡咯烷酮化合物包括：N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮中的至少一种；

所述咪唑啉酮化合物包括：1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、1,3-二甲基咪唑啉酮中的至少一种；

所述内酯化合物包括：γ-丁内酯；

所述硫氧化合物包括：二甲基亚砜、四氢噻吩-1,1-二氧化物中的至少一种；

所述含磷化合物包括：磷酸三乙酯、磷酸三丁酯中的至少一种，所述碳酸盐化合物包括碳酸二甲酯、碳酸亚乙酯中的至少一种；

所述酰胺化合物包括：甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰基乙酰胺、N-乙酰乙醇胺、N,N-二甲基乙酰胺、3-甲氧基-N、N-二甲基丙酰胺、3-(2-乙基己氧基)丙胺、N,N-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺中的至少一种。

根据本发明一实施例，所述吡咯烷酮化合物包括：N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮中的至少一种；

所述咪唑啉酮化合物包括：1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、1,3-二甲基咪唑啉酮中的至少一种；

所述内酯化合物包括：γ-丁内酯；

所述硫氧化合物包括：二甲基亚砜、四氢噻吩-1,1-二氧化物中的至少一种；

所述含磷化合物包括：磷酸三乙酯、磷酸三丁酯中的至少一种，所述碳酸盐化合物包括碳酸二甲酯、碳酸亚乙酯中的至少一种；

所述酰胺化合物包括：甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-乙酰乙醇胺、3-甲氧基-N、N-二甲基丙酰胺、3-(2-乙基己氧基)丙胺、N,N-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺中的至少一种。

根据本发明一实施例，所述溶解剂包括水溶性有机溶剂，其中，所述水溶性有机溶剂包括醚类化合物。

根据本发明一实施例，所述醚类化合物包括：乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙甘醇单异丙醚、乙乙二醇单丁醚、二甘醇单甲醚，二甘醇一乙醚、二乙二醇单异丙基醚、二乙基二醇单丁醚、三甘醇单甲基醚、三乙二醇单乙基醚、三乙基二醇单异丙醚、三乙二醇单丁醚、聚乙二醇单甲醚、聚丙二醇单乙醚、聚乙二醇单异丙醚、聚乙基二醇单丁醚、丙二醇单甲乙醚、二丙二醇单甲基醚、三丙二醇单甲醚、丙丙二醇单甲酯乙酸酯中的一种或几种。

根据本发明一实施例，所述pH抑制剂包括含有一个以上羧基且不含氮元素的有机酸。

根据本发明一实施例，所述光刻胶剥离液的pH值为8-10，且所述pH抑制剂包括乙酸、苹果酸、甲酸、丁酸、柠檬酸、乙醇酸、蓚酸、丙二酸、戊酸、丙酸、果酸、葡萄糖酸、丁二酸中的一种或几种。

根据本发明一实施例，所述腐蚀抑制剂包括唑类化合物，其中，所述唑类化合物包括苯并三唑、甲苯三唑、甲基甲苯三唑，2,2'-[[[苯并三唑]甲基]亚氨基]二乙醇，2,2'-[[[甲基-1H-苯并三嗪-1-H]甲基]亚氨基]二甲醇，2,2”-[[[[甲基-1-H-苯三唑-1-甲基]亚氨基]亚氨基]]二乙醇2,2'-[[[甲基-1H-苯并三唑-1-1]甲基]亚氨基]双甲胺，2,2'-[[胺-H-苯并三嗪-1-甲基]亚氨基]二乙醇中的一种或几种。

本发明实施例的有益效果：相比现有技术，本发明实施例提供一种光刻胶剥离液，该光刻胶剥离液包括膨胀剂、渗透剂、溶解剂、pH抑制剂以及腐蚀抑制剂，且上述膨胀剂的质量百分比含量为30％-60％，溶解剂的质量百分比含量为40％-60％，渗透剂的质量百分比含量为0.5％-8％，pH抑制剂的质量百分比含量为0.01％-2％，腐蚀抑制剂的质量百分比含量为0.001％-2％，上述各物质按照不同的质量百分数含量进行混合，并得到本申请实施例中提供的光刻胶剥离液。该光刻胶剥离液在对光刻胶进行剥离过程中，其剥离效果较好，且在剥离的同时，腐蚀抑制剂可抑制其对下层的金属层的腐蚀，同时，上述光刻胶剥离液还可多次再生重复利用，从而有效的提高了光刻胶剥离液的利用率，并降低了生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例中组1对应的光刻胶剥离液剥离后的金属形貌图；

图2为本申请实施例中对照组2对应的光刻胶剥离液剥离后的金属形貌图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，下文的公开提供了不同的实施方式或例子来实现本发明的不同结构。为了简化本发明，下文对特定例子的部件和设置进行描述。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用。本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

随着显示面板制备技术的不断发展，人们对显示面板的的性能以及显示效果均提出了更高的要求。

在制备形成显示面板的过程中，通常需要进行光刻胶剥离工艺，通过采用特定的剥离液，以使光刻胶与金属层相互分离，并得到所需要的膜层。但是，现有技术中，采用的光刻胶剥离液会在剥离的同时，对金属层造成严重的腐蚀问题，剥离效果不理想，且剥离液的重复利用率较低，不符合绿色生产的生产标准。

本申请实施例提供一种光刻胶剥离液，该光刻胶剥离液可应用在制备形成液晶显示面板的薄膜晶体管阵列基板的工序中，在对金属层上方的光刻胶进行去除及剥离时，以有效的降低在剥离过程中，剥离液对金属的腐蚀问题，同时，提高该剥离液的重复利用率，降低生产成本。

具体的，本申请实施例中提供的该光刻胶剥离液包括膨胀剂、渗透剂、溶解剂、pH抑制剂以及腐蚀抑制剂。

具体的，在制备得到本申请实施例中的光刻胶剥离液时，按照不同的质量百分比来进行配制：其中，上述膨胀剂的质量百分比含量为30％-60％，溶解剂的质量百分比含量为40％-60％，渗透剂的质量百分比含量为0.5％-8％，pH抑制剂的质量百分比含量为0.01％-2％，同时，腐蚀抑制剂的质量百分比含量为0.001％-2％。按照上述不同的配比，将各物质进行混合，在混合过程中，其具体的添加混合顺序不做具体限定，本申请实施例中，在进行混合时，可先将各液体物质进行混合，然后再将固体物质添加到对应的液体混合物中即可。

本申请实施例中，该膨胀剂为非质子极性溶剂。在进行剥离的过程中，该非质子极性溶剂可加速凝胶状的光刻胶的分解，进而提高该光刻胶剥离液的剥离性能。具体的，该膨胀剂的质量百分比含量为30％-60％。其中，其质量百分比含量通常可设置为35％、40％、45％、50％或者55％，从而根据不同厚度的光刻胶进行选取，以有效的提供其剥离效果。

具体的，本申请实施例中提供的该膨胀剂可包括吡咯烷酮化合物、咪唑啉酮化合物，内酯化合物、硫氧化合物，含磷化合物，碳酸盐化合物、酰胺化合物中的至少一种或者几种混合物。

其中，上述膨胀剂对应的不同类别的化合物中，该吡咯烷酮化合物包括：N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮中的至少一种，咪唑啉酮化合物包括：1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、1,3-二甲基咪唑啉酮中的至少一种，内酯化合物包括：γ-丁内酯，硫氧化合物包括：二甲基亚砜、四氢噻吩-1,1-二氧化物中的至少一种；

同时，含磷化合物包括：磷酸三乙酯、磷酸三丁酯中的至少一种，所述碳酸盐化合物包括碳酸二甲酯、碳酸亚乙酯中的至少一种，酰胺化合物包括：甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N-乙基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰基乙酰胺、N-乙酰乙醇胺、N,N-二甲基乙酰胺、3-甲氧基-N、N-二甲基丙酰胺、3-(2-乙基己氧基)丙胺、N,N-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺中的中的至少一种。在从上述各不同的物质中选取时，可按需求选取其中的一种，或者几种，并混合得到该膨胀剂。这里不具体限定。

进一步的，本申请实施例中提供的渗透剂具有强力的渗透性能。在剥离过程中，该渗透剂可渗透到光刻胶对应的胺类架桥的高分子矩阵中，从而打破其分子内或者分子间存在的结合力。

本申请实施例中，该渗透剂的质量百分比含量0.5％-8％。具体的，可选取为0.5％、1％、1.5％、2.5％、4％中的一种，或者根据需要设定为不同的质量百分比含量，从而提高其对光刻胶的渗透性能，并有效的提高其剥离效果。

具体的，本申请实施例中提供的该渗透剂包括胺类化合物，其中，所述胺类化合物包括：单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单丙醇胺、2-氨基乙醇、2-(乙基氨基)乙醇、2-(甲胺基)乙醇、N-甲基二乙醇胺、N，N-二甲基乙醇胺、N-二乙基氨基乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)-1-乙醇、1-氨基-2-丙醇、2-氨基-1-丙醇、3-氨基-1-丙醇、4-氨基-1-丁醇、二丁胺、甲乙基二醇胺、羟乙基二乙胺、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、二甲基羟胺、二乙基羟胺、二溴羟胺、1-(2-羟乙基)哌嗪、1-(3-羟乙基)甲基哌嗪、N-(2-羟甲基)吗啉、N-(3-羟丙基)吗啉，庚胺、己胺、戊胺、辛胺中的一种或几种。在进行制备时，可从上述物质中选取一种或者多种，并混合以得到本申请实施例中所提供的渗透剂。

进一步的，本申请实施例中提供的溶解剂包括水溶性有机溶剂。该水溶性有机溶剂为质子极性溶剂。当在剥离过程中，该溶解剂可抑制光刻胶高分子的溶解，从而降低剥离过程中其他杂质的出现，并降低光刻胶的在吸附和再粘贴性能。其中，该溶解剂的质量百分比含量设置为40％到60％。可选的，如40％、50％或60％。

本申请实施例中，该溶解剂可包括水溶性的醚类化合物。具体的，该醚类化合物包括：乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙甘醇单异丙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇丁醚、二甘醇单甲醚，二甘醇一乙醚、二乙二醇单异丙基醚、二乙基二醇单丁醚、三甘醇单甲基醚、三乙二醇单乙基醚、三乙基二醇单异丙醚、三乙二醇单丁醚、聚乙二醇单甲醚、聚丙二醇单乙醚、聚乙二醇单异丙醚、聚乙基二醇单丁醚、丙二醇单甲乙醚、二丙二醇单甲基醚、三丙二醇单甲醚、丙丙二醇单甲酯乙酸酯中的一种或几种。在制备上述溶解剂时，从上述醚类化合物中选取其中的一种或者几种进行混合，并得到该溶解剂。

同时，本申请实施例中，该光刻胶剥离液中还包括少量pH抑制剂，该pH抑制剂主要用来对溶液中的pH值进行调节。本申请实施例中，通过对剥离液中的pH值进行调节，以保证本申请实施例中提供的剥离液在具有较好剥离效果的同时，还能降低其对金属层的腐蚀，从而有效的提高该剥离液的剥离效果。本申请实施例中，在对光刻胶剥离液中的pH值进行调节时，其光刻胶剥离液中的pH值可为8-10。如对应的pH值为9。

进一步的，本申请实施例中提供的pH抑制剂包括含有一个以上羧基且不含氮元素的有机酸。其中，该pH抑制剂的质量百分比含量为0.01％-2％。可选的，如设置为0.05％、0.1％、0.3％、0.5％中的任一一种。或者根据不同待剥离的产品设定为其他参数值。这里不再赘述。

本申请实施例中，该pH抑制剂的可包括乙酸、苹果酸、甲酸、丁酸、柠檬酸、乙醇酸、蓚酸、丙二酸、戊酸、丙酸、果酸、葡萄糖酸、丁二酸中的一种或几种。在进行配制得到上述pH抑制剂时，从上述各类酸中选取其中的一种或几种，并将其混合，最终得到上述pH抑制剂。

进一步的，本申请实施例中，该光刻胶剥离液中还包括腐蚀抑制剂，在剥离过程中，该腐蚀抑制剂可有效的避免剥离后，裸露的金属层容易在剥离液中发生腐蚀的问题，从而对下层的金属进行保护。具体的，上述腐蚀抑制剂的质量百分比含量可设置为0.001％至2％。可选的，其对应的含量可设置为0.005％、0.01％、0.1％、1％、1.5％中的任一一种，或者根据不同规格的剥离产品，选取为其他配比，这里不再赘述。

本申请实施例中，该腐蚀抑制剂包括唑类化合物，其中，所述唑类化合物包括苯并三唑、甲苯三唑、甲基甲苯三唑，2,2'-[[[苯并三唑]甲基]亚氨基]二乙醇，2,2'-[[[甲基-1H-苯并三嗪-1-H]甲基]亚氨基]二甲醇，2,2”-[[[[甲基-1-H-苯三唑-1-甲基]亚氨基]亚氨基]]二乙醇2,2'-[[[甲基-1H-苯并三唑-1-1]甲基]亚氨基]双甲胺，2,2'-[[胺-H-苯并三嗪-1-甲基]亚氨基]二乙醇中的一种或几种。

进一步的，本申请实施例中，将上述各不同的物质充分混合并得到光刻胶剥离液后，在对显示面板进行剥离工艺处理时，将上述光刻胶剥离液涂覆在所需要处理的膜层上并剥离处理。

如表1所示，表1为本申请实施例中提供的几种混合物混合后得到的不同光刻胶剥离液。

表1：不同的光刻胶剥离液的组分及配比

其中，上表中，该膨胀剂中DMAc为二甲基乙酰胺，NEF为N-乙基甲酰胺、AEE为2-(2-氨基乙氧基)乙醇、HA为己胺、BDG为二乙二醇丁醚、MA为丙二酸、Mal为苹果酸、TT为甲苯三唑。各物质之间的质量百分比可详见表中所示，其中，在对照组1及对照组2中，该光刻胶剥离液中不添加pH抑制剂，其他各组中均添加pH抑制剂，且各pH抑制剂按照对应的比例进行添加。同时，在对照组3及对照组4中，该渗透剂的含量超过本申请实施例中提供的标准值，且均大于其他组中的含量，或者使用本申请中的其他物质进行配置，并得到光刻胶剥离液。

从组1到组4中，可知，配制不同含量的上述光刻胶剥离液，并对光刻胶进行剥离，其剥离时间均较短，且剥离后，对应的金属表面无损伤，同时，该光刻胶剥离液剥离后，对该光刻胶剥离废液进行再生利用，其再生良率为95％以上。再生良率较高，且对应剥离效果好。

同时，在对照组1及对照组2中，由于不添加pH抑制剂，因此，其在玻璃过程中，在光刻胶剥离液中的金属层容易出现腐蚀的现象，最终导致在剥离效果较差，且影响面板的性能。

进一步的，在对照组3以及对照组4中，将渗透剂的含量增加，由于渗透剂可强力的渗透到光刻胶的高分子矩阵内，从而加速光刻胶的剥离，但是，在快速剥离的同时，却会导致金属发生腐蚀，出现表面损伤，进而降低面板的质量及可靠性。同时，其对应的光刻胶剥离液的再生利用率仅为90％，再生良率较低，出现较大的浪费。

本申请实施例中，在对上述各组光刻胶剥离液进行测试时，在预置的试片上进行：在玻璃基板上蒸镀有机绝缘膜，在上面蒸镀非晶硅后用源极/漏极蒸镀Cu/Mo，其中，该源极/漏极的厚度为

其中，如图1及图2所示，图1为本申请实施例中组1对应的光刻胶剥离液剥离后的金属形貌图。图2为本申请实施例中对照组2对应的光刻胶剥离液剥离后的金属形貌图。从图1以及图2可知，两组在同时剥离110s后，组1中的金属形貌清晰可见，且Cu和Mo的边界处未发生腐蚀，表现出较好特性。而在图2中其金属层走线出现了腐蚀，金属层在剥离过程中出现损伤，从而降低了显示面板的质量及可靠性。

本申请实施例中提供的光刻胶剥离液在对光刻胶进行剥离时，其剥离效果较好，且在剥离过程中，不会对光刻胶底层的金属造成损坏，从而有效的提高了该光刻胶剥离液的作用效果及再生良率，降低了生产成本，并保证了显示面板的可靠性。

综上所述，以上对本发明实施例所提供的一种光刻胶剥离液进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；虽然本发明以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为基准。