液晶显示面板和彩膜基板制备方法

技术领域

本申请涉及液晶显示技术领域，具体涉及一种液晶显示面板和一种彩膜基板制备方法。

背景技术

现在Au in seal工艺，即全用混有导电粒子的胶涂布形成框胶，导电粒子同时具备支撑和导通作用，这种工艺制程简单，同时节省了导通电极的空间，有利于缩减边框，因此现有技术除了点胶工艺外，常常用到这种Au in seal工艺。

但是Au in seal工艺中框胶材料或者涂布制程中，若混入导电异物。将会造成上下板之间的短路，造成烧伤线路、显示异常的后果，同时对于GOA产品，仅能采用Au打点方式，无法采用Au in Seal技术。

因此，现有液晶显示面板存在框胶处发生短路的技术问题。

发明内容

本申请实施例提供一种液晶显示面板、一种彩膜基板制备方法，可以缓解现有液晶显示面板存在框胶处发生短路的技术问题。

本申请实施例提供一种所述液晶显示面板边缘设置有框胶区，所述框胶区内设置有导电粒子；所述液晶显示面板包括阵列基板、以及与所述阵列基板相对设置的彩膜基板，在对应框胶区的位置，所述阵列基板朝向所述彩膜基板一侧设置有导通电极，所述彩膜基板在所述框胶区包括黑色矩阵层和公共电极，其中，所述黑色矩阵层设置在所述公共电极靠近所述阵列基板的一侧，所述黑色矩阵层在对应所述导通电极的位置形成有过孔以漏出所述公共电极，所述公共电极与所述导通电极通过所述导电粒子连接。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述阵列基板在对应所述过孔的位置还设置有挡光板，所述挡光板在所述黑色矩阵层上的正投影至少覆盖所述过孔，防止所述过孔处漏光。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述像素电极与所述导通电极同层设置，在所述框胶区，所述阵列基板的信号经过所述导通电极和所述导电粒子传递到所述彩膜基板。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述框胶区包括形成有过孔的第一区域、以及设置有黑色矩阵层的第二区域，所述导电粒子包括第一导电粒子和第二导电粒子，其中，所述第二区域设置有第一导电粒子，所述第二区域设置有第二导电粒子。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第二导电粒子的一端与所述黑色矩阵层触接，所述第二导电粒子与所述公共电极绝缘设置。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一导电粒子和所述第二导电粒子的制备材料相同。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述框胶区包括设置有过孔的第一区域、以及设置有黑色矩阵层的第二区域，其中，所述第一区域设置有导电粒子，所述第二区域未设置导电粒子，相邻所述过孔的大小不同。

可选的，在本申请的一些实施例中，相邻所述过孔处的所述导电粒子的形状、大小不相同，所述导电粒子与所述过孔边缘触接。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述挡光板的制备材料和所述黑色矩阵层的制备材料相同。

本申请实施例提供一种彩膜基板制备方法，包括：

提供第二衬底；

在所述第二衬底上形成一层导电材料，制备得到公共电极；

在所述公共电极上形成一层遮光材料；

利用光罩处理所述遮光材料形成黑色矩阵层，其中，框胶区的所述黑色矩阵层形成有过孔。

本申请实施例提供的液晶显示面板包括阵列基板、以及与所述阵列基板相对设置的彩膜基板，所述阵列基板包括位于框胶区的导通电极和导电粒子，所述彩膜基板包括位于框胶区的黑色矩阵层和公共电极，所述黑色矩阵层设置在所述公共电极靠近所述阵列基板的一侧，所述黑色矩阵层在对应所述导通电极的位置形成有过孔以漏出所述公共电极，所述公共电极与所述导通电极通过所述导电粒子连接；通过使彩膜基板的黑色矩阵层设置在所述公共电极靠近所述阵列基板的一侧，使不需要被导通位置的导电粒子被黑色矩阵层绝缘，需要被导通的导通电极上方的黑色矩阵层设置过孔，使导电粒子在此处导通彩膜基板和阵列基板。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的液晶显示面板的第一种截面示意图；

图2是本申请实施例提供的液晶显示面板的第二种截面示意图；

图3是本申请实施例提供的彩膜基板的制备工序流程图；

图4是本申请实施例提供的彩膜基板制备方法的流程图。

附图标记说明：

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。

本申请实施例提供一种液晶显示面板。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。

如图1所示，本申请实施例提供的液晶显示面板1包括所述阵列基板2、以及与所述阵列基板2相对设置的彩膜基板3，所述阵列基板2包括位于框胶区501的导通电极80和导电粒子40，所述彩膜基板3包括位于框胶区501的黑色矩阵层303和公共电极302，所述黑色矩阵层303设置在所述公共电极302靠近所述阵列基板2的一侧，所述黑色矩阵层303在对应所述导通电极80的位置形成有过孔70以漏出所述公共电极302，所述公共电极302与所述导通电极80通过所述导电粒子40连接。

在本实施例中，液晶显示面板1包括所述阵列基板2、以及与所述阵列基板2相对设置的彩膜基板3，所述阵列基板2包括位于框胶区501的导通电极80和导电粒子40，所述彩膜基板3包括位于框胶区501的黑色矩阵层303和公共电极302，所述黑色矩阵层303设置在所述公共电极302靠近所述阵列基板2的一侧，所述黑色矩阵层303在对应所述导通电极80的位置形成有过孔70以漏出所述公共电极302，所述公共电极302与所述导通电极80通过所述导电粒子40连接；通过使彩膜基板3的黑色矩阵层303设置在所述公共电极302靠近所述阵列基板2的一侧，使不需要被导通位置的导电粒子40被黑色矩阵层303绝缘，需要被导通的导通电极80上方的黑色矩阵层303设置过孔70，使导电粒子40在此处导通彩膜基板3和阵列基板2。

其中，所述导通电极80与所述像素电极203同层设置，所述像素电极203位于显示区502，所述导通电极80位于框胶区501。

其中，所述阵列基板2的信号通过所述导通电极80和所述导电粒子40传输到所述彩膜基板3。

其中，所述液晶显示面板1还包括显示区502，在显示区502，所述阵列基板2所述第一衬底201、平坦层202、像素电极203。

其中，所述彩膜基板3包括第二衬底301、公共电极302、黑色矩阵层303。

在一种实施例中，所述阵列基板2在对应所述过孔70的位置还设置有挡光板60，所述挡光板60在所述黑色矩阵层303上的正投影至少覆盖所述过孔70，防止所述过孔70处漏光。

其中，所述挡光板60在所述黑色矩阵层303上的正投影的宽度可以与过孔70的宽度相等。

其中，所述挡光板60在所述黑色矩阵层303上的正投影的宽度可以大于所述过孔70的宽度。

在本实施例中，所述挡光板60设置在阵列基板2上，用于遮挡所述过孔70处的漏光。

其中，所述挡光板60可以与所述遮光层同层设置，所述挡光板60的制备材料与所述遮光层的制备材料相同。

在一种实施例中，所述像素电极203与所述导通电极80同层设置，在所述框胶区501，所述阵列基板2的信号经过所述导通电极80和所述导电粒子40传递到所述彩膜基板3。

其中，所述像素电极203与所述导通电极80的制备材料相同。

在一种实施例中，如图2所示，所述框胶区501包括形成有过孔70的第一区域、以及设置有黑色矩阵层303的第二区域，所述导电粒子40包括第一导电粒子401和第二导电粒子402，其中，所述第二区域设置有第一导电粒子401，所述第二区域设置有第二导电粒子402。

其中，所述第一导电粒子401位于所述导通电极80上，所述第二导电粒子402位于第二区域，所述第二区域未设置导通电极80。

其中，所述第一导电粒子401用于连通所述彩膜基板3和所述阵列基板2。

其中，所述第二导电粒子402被所述黑色矩阵层303隔开，所述第二导电粒子402与所述公共电极302绝缘设置。

在本实施例中，所述导电粒子40与所述框胶胶水混合后形成框胶，因此，所述导电粒子40包括位于所述导通电极80上的第一导电粒子401、以及所述第二导电粒子402。

在一种实施例中，所述第二导电粒子402的一端与所述黑色矩阵层303触接，所述第二导电粒子402与所述公共电极302绝缘设置。

在一种实施例中，所述第一导电粒子401和所述第二导电粒子402的制备材料相同。

在一种实施例中，所述框胶区501包括设置有过孔70的第一区域、以及设置有黑色矩阵层303的第二区域，其中，所述第一区域设置有导电粒子40，所述第二区域未设置导电粒子40，相邻所述过孔70的大小不同。

在本实施例中，所述导电粒子40为打点工艺形成的，所述打点工艺为将导电粒子40点在所述导通电极80上，而在第二区域未设置所述导电粒子40。

在一种实施例中，相邻所述过孔70处的所述导电粒子40的形状、大小不相同，所述导电粒子40与所述过孔70边缘触接。

其中，所述导电粒子40与所述过孔70的形状相匹配，所述导电粒子40可以卡合在所述过孔70内，所述导电粒子40的一端通过所述过孔70与所述公共电极302触接。

在一种实施例中，所述挡光板60的制备材料和所述黑色矩阵层303的制备材料相同。

在一种实施例中，相邻所述过孔70处的所述第一导电粒子401的形状、大小相同。

在一种实施例中，所述框胶区501包括至少两个所述过孔70，相邻过孔70处的导电粒子40的制备材料可以不同。

在一种实施例中，所述导电粒子40的截面形状为规则形状，所述规则形状为圆形、三角形、梯形、菱形中的任一种。

其中，所述规则形状还可以为组合形状，例如多个大小不同的矩形、圆形、三角形、梯形、菱形中的至少一种相互拼接形成的组合形状也属于本申请的所述规则形状。

本申请实施例提供的显示装置包括显示面板，所述显示装置包括背板、背光源、显示面板、偏光片、光学膜片、盖板，所述显示面板包括所述阵列基板2、以及与所述阵列基板2相对设置的彩膜基板3，所述阵列基板2包括位于框胶区501的导通电极80和导电粒子40，所述彩膜基板3包括位于框胶区501的黑色矩阵层303和公共电极302，所述黑色矩阵层303设置在所述公共电极302靠近所述阵列基板2的一侧，所述黑色矩阵层303在对应所述导通电极80的位置形成有过孔70以漏出所述公共电极302，所述公共电极302与所述导通电极80通过所述导电粒子40连接。

在本实施例中，所述显示装置包括所述阵列基板2、以及与所述阵列基板2相对设置的彩膜基板3，所述阵列基板2包括位于框胶区501的导通电极80和导电粒子40，所述彩膜基板3包括位于框胶区501的黑色矩阵层303和公共电极302，所述黑色矩阵层303设置在所述公共电极302靠近所述阵列基板2的一侧，所述黑色矩阵层303在对应所述导通电极80的位置形成有过孔70以漏出所述公共电极302，所述公共电极302与所述导通电极80通过所述导电粒子40连接；通过使彩膜基板3的黑色矩阵层303设置在所述公共电极302靠近所述阵列基板2的一侧，使不需要被导通位置的导电粒子40被黑色矩阵层303绝缘，需要被导通的导通电极80上方的黑色矩阵层303设置过孔70，使导电粒子40在此处导通彩膜基板3和阵列基板2。

在一种实施例中，在所述显示装置中，所述阵列基板2在对应所述过孔70的位置还设置有挡光板60，所述挡光板60在所述黑色矩阵层303上的正投影至少覆盖所述过孔70，防止所述过孔70处漏光。

其中，所述挡光板60在所述黑色矩阵层303上的正投影的宽度可以与过孔70的宽度相等。

其中，所述挡光板60在所述黑色矩阵层303上的正投影的宽度可以大于所述过孔70的宽度。

在本实施例中，所述挡光板60设置在阵列基板2上，用于遮挡所述过孔70处的漏光。

其中，所述挡光板60可以与所述遮光层同层设置，所述挡光板60的制备材料与所述遮光层的制备材料相同。

在一种实施例中，在所述显示装置中，所述像素电极203与所述导通电极80同层设置，在所述框胶区501，所述阵列基板2的信号经过所述导通电极80和所述导电粒子40传递到所述彩膜基板3。

其中，所述像素电极203与所述导通电极80的制备材料相同。

在一种实施例中，如图2所示，所述框胶区501包括形成有过孔70的第一区域、以及设置有黑色矩阵层303的第二区域，所述导电粒子40包括第一导电粒子401和第二导电粒子402，其中，所述第二区域设置有第一导电粒子401，所述第二区域设置有第二导电粒子402。

其中，所述第一导电粒子401位于所述导通电极80上，所述第二导电粒子402位于第二区域，所述第二区域未设置导通电极80。

其中，所述第一导电粒子401用于连通所述彩膜基板3和所述阵列基板2。

其中，所述第二导电粒子402被所述黑色矩阵层303隔开，所述第二导电粒子402与所述公共电极302绝缘设置。

在本实施例中，所述导电粒子40与所述框胶胶水混合后形成框胶，因此，所述导电粒子40包括位于所述导通电极80上的第一导电粒子401、以及所述第二导电粒子402。

在一种实施例中，在所述显示装置中，所述第二导电粒子402的一端与所述黑色矩阵层303触接，所述第二导电粒子402与所述公共电极302绝缘设置。

在一种实施例中，在所述显示装置中，所述第一导电粒子401和所述第二导电粒子402的制备材料相同。

在一种实施例中，在所述显示装置中，所述框胶区501包括设置有过孔70的第一区域、以及设置有黑色矩阵层303的第二区域，其中，所述第一区域设置有导电粒子40，所述第二区域未设置导电粒子40，相邻所述过孔70的大小不同。

在本实施例中，所述导电粒子40为打点工艺形成的，所述打点工艺为将导电粒子40点在所述导通电极80上，而在第二区域未设置所述导电粒子40。

在一种实施例中，在所述显示装置中，相邻所述过孔70处的所述导电粒子40的形状、大小不相同，所述导电粒子40与所述过孔70边缘触接。

其中，所述导电粒子40与所述过孔70的形状相匹配，所述导电粒子40可以卡合在所述过孔70内，所述导电粒子40的一端通过所述过孔70与所述公共电极302触接。

在一种实施例中，在所述显示装置中，所述挡光板60的制备材料和所述黑色矩阵层303的制备材料相同。

在一种实施例中，在所述显示装置中，相邻所述过孔70处的所述第一导电粒子401的形状、大小相同。

在一种实施例中，在所述显示装置中，所述框胶区501包括至少两个所述过孔70，相邻过孔70处的导电粒子40的制备材料可以不同。

在一种实施例中，在所述显示装置中，所述导电粒子40的截面形状为规则形状，所述规则形状为圆形、三角形、梯形、菱形中的任一种。

其中，所述规则形状还可以为组合形状，例如多个大小不同的矩形、圆形、三角形、梯形、菱形中的至少一种相互拼接形成的组合形状也属于本申请的所述规则形状。

如图3所示，本申请实施例提供的彩膜基板3包括第二衬底301、公共电极302、黑色矩阵层303，在框胶区501，所述黑色矩阵层303设置有多个过孔70。

其中，彩膜基板3的制备工序流程如图3所示，先在所述第二衬底301上形成一层公共电极302，然后在所述公共电极302上形成一层遮光材料，再利用光罩对所述遮光材料进行处理形成黑色矩阵层303，所述黑色矩阵层303在所述框胶区501形成有多个过孔70。

现有液晶显示面板1在所述框胶区501的彩膜基板3的黑色矩阵层303未设置过孔70，在框胶区501，所述黑色矩阵层303整面设置，而本申请的黑色矩阵层303设置在公共电极302朝向所述阵列基板2的一侧，同时通过在框胶区501的黑色矩阵层303处设置过孔70，使所述导电粒子40通过过孔70与所述公共电极302触接，可选择性的对导电粒子40进行导通和绝缘，防止短路的现象。

如图4所示，本申请实施例提供的彩膜基板3制备方法包括：

S1:提供第二衬底301；

S2:在所述第二衬底301上形成一层导电材料，制备得到公共电极302；

S3:在所述公共电极302上形成一层遮光材料；

S4:利用光罩处理所述遮光材料形成黑色矩阵层303，其中，框胶区501的所述黑色矩阵层303形成有过孔70。

其中，所述过孔70与所述阵列基板2的导通电极80对应设置。

在一种实施例中，形成有过孔70的步骤包括：

采用黄光工艺处理所述遮光材料形成带过孔70的黑色矩阵层303。

其中，黄光工艺包括曝光工艺、显影工艺、刻蚀工艺。

本实施例提供的液晶显示面板包括所述阵列基板、以及与所述阵列基板相对设置的彩膜基板，所述阵列基板包括位于框胶区的导通电极和导电粒子，所述彩膜基板包括位于框胶区的黑色矩阵层和公共电极，所述黑色矩阵层设置在所述公共电极靠近所述阵列基板的一侧，所述黑色矩阵层在对应所述导通电极的位置形成有过孔以漏出所述公共电极，所述公共电极与所述导通电极通过所述导电粒子连接；通过使彩膜基板的黑色矩阵层设置在所述公共电极靠近所述阵列基板的一侧，使不需要被导通位置的导电粒子被黑色矩阵层绝缘，需要被导通的导通电极上方的黑色矩阵层设置过孔，使导电粒子在此处导通彩膜基板和阵列基板。

以上对本申请实施例所提供的一种液晶显示面板、一种彩膜基板制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。