掩膜支撑件及掩膜结构

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种掩膜支撑件及掩膜结构。

背景技术

显示面板(比如，OLED显示面板)常预留异形区域(比如，刘海区域或水滴区域等)用于设置屏下器件(比如，前置摄像头、人脸识别传感器、距离传感器等)。在这种显示面板的制作工艺中，当蒸镀像素的有机发光材料层时，需要在掩膜支撑条上设计用于遮挡有机发光材料层的遮挡部以在显示面板上形成异形区域。发明人研究发现，在使用常规掩膜支撑条进行蒸镀时，容易存在蒸镀后形成的异形区域位置精度不高的问题，这会使原本应该位于异形区域下方的屏下器件可能并不完全位于异形区域下方，进而影响采用该显示面板的电子设备的性能。

发明内容

为了克服上述技术背景中所提及的技术问题，本申请实施例提供一种掩膜支撑件及掩膜结构。

本申请的第一方面，提供一种掩膜支撑件，所述掩膜支撑件包括：

支撑条；

至少一个遮挡部，所述至少一个遮挡部位于所述支撑条延伸方向的第一侧；

至少一个平衡部，所述至少一个平衡部用于平衡所述支撑条延伸方向两侧的配重。

基于上述结构，可以通过平衡部，平衡掩膜支撑件在其延伸方向两侧的配重，以使掩膜支撑件在张网过程中，不会因其延伸方向两侧的配重不均而导致掩膜支撑件偏位甚至翻转，进而可以确保采用包括上述掩膜支撑件的掩膜结构进行蒸镀得到的显示面板具有精度较高的异形区域。并且还可以避免因导致掩膜支撑件偏位或翻转而在异形区域周边出现因阴影效应引起的蒸镀不良(比如，相邻子像素的有机发光材料混色)，确保显示面板的显示质量。

在本申请的一种可能实施例中，所述至少一个平衡部位于所述支撑条延伸方向与所述第一侧相对的第二侧；

其中，所述至少一个遮挡部从所述支撑条往远离所述第二侧的方向延伸，所述至少一个平衡部从所述支撑条往远离所述第一侧的方向延伸。

在本申请的一种可能实施例中，所述平衡部与所述遮挡部的结构相同，所述平衡部与所述遮挡部以所述支撑条在其延伸方向上的中线为对称轴对称分布于所述支撑条相对的两侧。

在本申请的一种可能实施例中，所述掩膜支撑件还包括位于所述第二侧且从所述支撑条往远离所述第一侧的方向延伸的多个边角遮挡区，所述遮挡部在所述支撑条上的正投影位于相邻两个所述边角遮挡区在所述支撑条上的正投影之间；所述平衡部位于所述边角遮挡区远离所述支撑条的一侧，且从边角遮挡区往远离所述第一侧的方向延伸。

在本申请的一种可能实施例中，所述掩膜支撑件还包括位于所述支撑条延伸方向的相对两侧且从所述支撑条往远离其相对一侧的方向延伸的多个边角遮挡区，所述多个边角遮挡区以所述支撑条在其延伸方向上的中线为对称轴对称分布于所述支撑条相对的两侧；

所述遮挡部在所述支撑条上的正投影位于相邻两个所述边角遮挡区在所述支撑条上的正投影之间；

所述平衡部位于所述第二侧的边角遮挡区远离所述支撑条的一侧，且从边角遮挡区往远离所述第一侧的方向延伸。

在本申请的一种可能实施例中，所述至少一个平衡部为所述遮挡部的减薄区，在垂直于所述遮挡部所在平面的方向上，所述减薄区的厚度小于所述支撑条的厚度。

在本申请的一种可能实施例中，在垂直于所述遮挡部所在平面的方向上，所述减薄区的厚度为所述支撑条的厚度的20％～30％。

本申请的第二方面，还提供一种掩膜支撑件，所述掩膜支撑件包括：

支撑条；

至少一个遮挡部，所述至少一个遮挡部位于所述支撑条延伸方向的第一侧，且往远离与所述第一侧相对的第二侧的方向延伸；

所述遮挡部包括减薄区，在垂直于所述遮挡部所在平面的方向上，所述减薄区的厚度小于所述支撑条的厚度。

本申请的第三方面，还提供一种掩膜结构，所述掩膜结构包括：

支撑框架，所述支撑框架包括多个沿第一方向间隔排布的第一掩膜支撑件及多个沿所述第二方向间隔排布的第二掩膜支撑件，所述第一方向与所述第二方向相交，多个所述第一掩膜支撑件与多个所述第二掩膜支撑件限定出至少一个蒸镀区域，所述第一掩膜支撑件或所述第二掩膜支撑件为第一方面所述的掩膜支撑件；

至少一个掩膜版单元，所述至少一个掩膜版单元固定在所述支撑框架上，每个所述掩膜版单元包括至少一个网格区域，每个所述蒸镀区域对应一所述网格区域。

在本申请的一种可能实施例中，用于限定所述蒸镀区域的多个掩膜支撑件中存在至少一个掩膜支撑件的支撑条包括减薄区以及全厚区，所述减薄区设置于所述支撑件靠近所述蒸镀区域的边缘且位于所述掩膜支撑件朝向所述掩膜版单元的一侧，在垂直于所述蒸镀区域的方向上，所述减薄区的厚度小于所述全厚区的厚度。

在本申请的一种可能实施例中，所述第一掩膜支撑件在与所述第二掩膜支撑件的交叠位置处设置有朝向所述第二掩膜支撑件的第一凹槽；和/或，

所述第二掩膜支撑件在与所述第一掩膜支撑件的交叠位置处设置有朝向所述第一掩膜支撑件的第二凹槽。

相对于现有技术，本申请实施例提供的掩膜支撑件及掩膜结构。可以通过设置平衡部平衡掩膜支撑件在其延伸方向两侧的配重，以使掩膜支撑件在张网过程中，不会因其延伸方向两侧的配重不均而导致掩膜支撑件偏位甚至翻转，进而可以确保采用包括上述掩膜支撑件的掩膜结构进行蒸镀得到的显示面板具有精度较高的异形区域。并且还可以避免因导致掩膜支撑件偏位或翻转而在异形区域周边出现因阴影效应引起的蒸镀不良(比如，相邻子像素的有机发光材料混色)，确保显示面板的显示质量。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为申请实施例提供的掩膜支撑件的结构示意图之一；

图2为申请实施例提供的掩膜支撑件的结构示意图之二；

图3为本申请实施例提供的掩膜支撑件的结构示意图之三；

图4为本申请实施例提供的掩膜支撑件的结构示意图之四；

图5为本申请实施例提供的掩膜支撑件的结构示意图之五；

图6为本申请实施例提供的掩膜结构的结构示意图；

图7为本申请实施例提供第一掩膜支撑件与第二掩膜支撑件的交叠位置处的结构示意图。

标号：

1-掩膜结构；10-支撑框架；11-第一掩膜支撑件；12-第二掩膜支撑件；13-蒸镀区域；14-主框架；20-掩膜单元；21-网格区域；1201，11a-减薄区；11b-全厚区；111-第一凹槽；121-第二凹槽；100-掩膜支撑件；110-支撑条；120-遮挡部；130-平衡部；1101-第一侧；1102-第二侧。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本申请的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例中的不同特征之间可以相互结合。

针对前述背景技术中提及的技术问题，发明人通过研究后发现，由于遮挡部会相对于掩膜支撑件沿其延伸方向的一侧外凸，使得掩膜支撑件在其延伸方向上的两侧的配重不均，在对掩膜支撑件进行张网时，会因上述配重不均使掩膜支撑条产生偏位甚至翻转，这会影响显示面板中异形区域的形成精度，并会因上述偏位或翻转使显示面板中靠近该异形区域的位置处存在明显的阴影效应，影响显示面板上的正常显示。

为了解决上述技术问题，发明人提供以下解决方案。

请参照图1，图1示例了本申请实施例提供的一种掩膜支撑件的结构示意图，如图所示，掩膜支撑件100可以包括支撑条110、至少一个遮挡部120及至少一个平衡部130。

至少一个遮挡部120位于支撑条110延伸方向的第一侧1101，至少一个平衡部130可以位于支撑条110延伸方向与第一侧1101相对的第二侧1102，也可以位于支撑条110延伸方向的第一侧1101，平衡部130用于平衡支撑条110延伸方向两侧的配重，使支撑条110延伸方向两侧的重力矩相当。

上述提供的掩膜支撑件100，可以通过设置平衡部130，平衡掩膜支撑件100在其延伸方向两侧的配重，以使掩膜支撑件100在张网过程中，不会因其延伸方向两侧的配重不均而导致掩膜支撑件100偏位甚至翻转，进而可以确保采用包括上述掩膜支撑件100的掩膜结构进行蒸镀得到的显示面板具有位置精度较高的异形区域，并且不会在异形区域周边出现因阴影效应引起的蒸镀不良(比如，相邻子像素的有机发光材料混色)，确保显示面板的显示质量。

下面以至少一个平衡部130位于支撑条110延伸方向与第一侧1101相对的第二侧1102为例进行说明。

在本申请实施例的第一种实施方式中，如图1所示，平衡部130和遮挡部120的结构可以相同，结构相同是指平衡部130和遮挡部120的形状以及质量分布相同或大致相同(如形状尺寸误差以及质量误差都在设定的误差范围内)。平衡部130与遮挡部120可以以支撑条110在其延伸方向上的中线L为对称轴对称分布于支撑条110相对的两侧。基于这种结构，平衡部130也可用于制作显示面板的异形区域，采用平衡部130制作异形区域的显示面板与采用遮挡部120制作异形区域的显示面板对顶排布(即两个显示面板以支撑条110的中线L为对称轴对称分布于支撑条110的两侧)。例如，在一种包括多个蒸镀区域的掩膜结构中，掩膜支撑条110两侧的遮挡部120和平衡部130可以实现彼此的配重平衡。遮挡部120在对应的蒸镀区域可以用于形成一个显示面板的异形区域，而平衡部130在对应的蒸镀区域可以用于形成另一个显示面板的异形区域。在这种情况下，掩膜支撑条110两侧的遮挡部120和平衡部130二者均可起到遮挡和平衡配重的作用。在该实施方式中，可以通过位于相对侧的遮挡部120与平衡部130使掩膜支撑件100延伸方向两侧的重力力矩相同(配重平衡)，在掩膜支撑件100张网时，可以避免因两侧配重失衡导致的掩膜支撑件100偏位甚至翻转。

在本申请实施例的第二种实施方式中，如图2所示，掩膜支撑件100还可以包括位于第二侧1102且从支撑条110往远离第一侧1101的方向延伸的多个(两个或两个以上)边角遮挡区140，边角遮挡区140用于遮挡显示面板的顶角区域，以在蒸镀得到的显示面板的顶角区域位置处形成弧形角，其中，显示面板的顶角区域为显示面板相邻两条边的相交位置所对应的区域，顶角可以为直角。这种情况下，遮挡部120在支撑条110上的正投影位于相邻两个边角遮挡区140在支撑条110的正投影之间。平衡部130位于边角遮挡区140远离支撑条110的一侧，且从边角遮挡区140朝远离第一侧1101的方向延伸。在该实施方式中，可以通过位于第一侧1101的遮挡部120与位于第二侧1102的边角遮挡区140和平衡部130使掩膜支撑件100延伸方向两侧的重力力矩相同或大致相同(配重平衡)，在掩膜支撑件100张网时，可以避免因两侧配重失衡导致的掩膜支撑件100偏位甚至翻转。

在本申请实施例的第三种实施方式中，如图3所示，掩膜支撑件100还可以包括位于支撑条110延伸方向的相对两侧(第一侧1101和第二侧1102)且从支撑条110往远离其相对一侧的方向延伸的多个边角遮挡区140，比如，位于第一侧1101的边角遮挡区140往远离第二侧1102的方向延伸，位于第二侧1102的边角遮挡区140往远离第一侧1101的方向延伸。多个边角遮挡区140以支撑条110在其延伸方向上的中线L为对称轴对称分布于支撑条110相对的两侧，位于不同侧的边角遮挡区140的结构可以相同也可以不同。遮挡部120在支撑条110上的正投影位于相邻两个边角遮挡区140在支撑条110上的正投影之间。平衡部130位于第二侧1102的边角遮挡区140远离支撑条110的一侧，且从边角遮挡区140往远离第一侧1101的方向延伸。在该实施方式中，可以通过位于第一侧1101的遮挡部120和边角遮挡区140，与位于第二侧1102的边角遮挡区140和平衡部130使掩膜支撑件100延伸方向两侧的重力力矩相同或大致相同(配重平衡)，在掩膜支撑件100张网时，可以避免因两侧配重失衡导致的掩膜支撑件10偏位甚至翻转。

下面以至少一个平衡部130位于支撑条110延伸方向的第一侧1101为例进行说明。

本申请实施例还提供一种掩膜支撑件100，如图4所示，掩膜支撑件100可以包括支撑条110及至少一个遮挡部120。至少一个遮挡部120位于支撑条110延伸方向的第一侧1101，且相对于远离第二侧1102的方向延伸，第一侧1101与第二侧1102为支撑条110延伸方向的相对两侧。

平衡部130可以为遮挡部120的减薄区1201，在垂直于遮挡部120所在平面的方向上，减薄区1201的厚度小于支撑条11的厚度。与上述提供的通过平衡部130平衡掩膜支撑件100相对两侧的配重不同的是，在本实施例中，遮挡部120可以通过刻蚀的方式在遮挡部120的全部区域或部分区域上形成减薄区1201，以减小遮挡部120的整体重力。在垂直于遮挡部120所在平面的方向上，减薄区1201的厚度可以为支撑条110的厚度的20％～30％，如此可以使得减薄区1201的重量相对于支撑件110轻很多，以便降低遮挡部120所在侧的重力力矩，使得掩膜支撑件100在张网时不易因遮挡部120的重力力矩发生偏位甚至翻转。在本实施例中，遮挡部120的所在区域可以全部设置减薄区1201，也可以部分设置减薄区1201，作为一种较佳的实施方式，遮挡部120的所在区域可以全部设置减薄区1201。

可以理解的是，在本申请的其他实施例中，还可以将上述提供的三种用于平衡支撑条110延伸方向两侧的配重的实施方式与减轻遮挡部110重量的实施方式进行组合，比如，将第一种实施方式与减轻遮挡部110重量的实施方式进行组合，如图5所示，位于支撑件110延伸方向相对两侧的遮挡部120与平衡部130均可以设置减薄区1201。

本申请实施例还提供一种掩膜结构，如图6所示，掩膜结构1可以包括支撑框架10及至少一个掩膜版单元20。

支撑框架10可以包括多个沿第一方向(图中Y方向)间隔排布的第一掩膜支撑件11及多个沿第二方向(图中X方向)间隔排布的第二掩膜支撑件12，第一方向与第二方向相交。作为一种较佳的实施方式，第一方向与第二方向可以垂直。多个第一掩膜支撑件11与多个第二掩膜支撑件12限定出至少一个蒸镀区域13，第一掩膜支撑件11或第二掩膜支撑件12可以为上面实施例描述的掩膜支撑件100。

至少一个掩膜版单元20可以固定在支撑框架10上，每个掩膜版单元20可以包括至少一个网格区域21，每个网格区域21可以分别与一个蒸镀区域13对应。

可以理解的是，本申请实施例提供的掩膜结构1通常用于在一基板上形成显示母板(或称显示大板)，在显示母板制造完成后，再将该显示母板进行切割便可以得到多个显示面板，其中，掩膜结构1的一个蒸镀区域13可以对应制作一个显示面板的有效显示区，网格区域21中的一个网格可以对应有效显示区中的一个子像素开口。

上述提供的掩膜结构1，因第一掩膜支撑件11或第二掩膜支撑件12采用本申请实施例提供的掩膜支撑件100，在对掩膜结构1进行张网时，可以确保第一掩膜支撑件11或第二掩膜支撑件12可以准确地被固定。以使采用该掩膜结构1制作的显示面板具有位置精度较高的异形区域，并且不会在异形区域周边出现因阴影效应引起的蒸镀不良(比如，相邻子像素的有机发光材料混色)，确保显示面板的显示质量。

如图6所示，支撑框架10还可以包括用于固定第一掩膜支撑件11及第二掩膜支撑件12的主框架14，第一掩膜支撑件11、第二掩膜支撑件12及掩膜版单元20分别与主框架14固定。示例性地，固定顺序可以是：首先，将多个第一掩膜支撑件11沿第一方向等间距焊接在主框架14上；接着，将多个第二掩膜支撑件12沿第二方向等间距焊接在主框架14上；最后，将至少一个掩膜版单元20沿第一方向焊接在主框架14上。在上述支撑框架10的结构中，第二掩膜支撑件12对掩膜版单元20进行支撑，第一掩膜支撑件11可以遮挡掩膜单元20在第一方向上的除蒸镀区域13之外的其他区域，比如，在掩膜单元20为多个时，可以遮挡相邻两个掩膜版单元20之间在第一方向上的间隙。

请再次参照图6，用于限定蒸镀区域13的第一掩膜支撑件11和第二掩膜支撑件12中至少存在一个掩膜支撑件包括减薄区11a及全厚区11b，减薄区11a设置于掩膜支撑件靠近蒸镀区域13的边缘且位于掩膜支撑件朝向掩膜版单元12的一侧。在垂直于蒸镀区域13的方向上，减薄区11a的厚度小于全厚区11b的厚度。在本申请实施例中，位于不同支撑件及遮挡部120的减薄区11a(1201)的厚度可以相同也可以不同，在此不作具体限定。

如此设计，可以减缓或避免在蒸镀区域13边缘位置处因网格区域21产生的褶皱而导致的贴合不良。如此，在后续的蒸镀过程中，显示面板的有效显示区的边缘不会因贴合不良引起的阴影效应而出现有机发光材料混色，避免有效显示区边缘因有机发光材料混色而引起的显示不良，进而提高显示面板的显示质量。

在本申请实施例的一种较佳实施例中，在垂直于蒸镀区域13的方向上，减薄区11a的厚度可以沿靠近蒸镀区域13的方向依次降低，即减薄区11a在越靠近蒸镀区域13的位置具有越薄的厚度。如此设计，可以更好的使网格区域21产生的褶皱在减薄区11a中延展。

此外，发明人还发现，在第一掩膜支撑件11与第二掩膜支撑件12交叠的位置处，在垂直于蒸镀区域13的方向上，第一掩膜支撑件11与掩膜版单元12之间的间隙较大，这会使该位置处蒸镀产生的阴影效应比较明显，影响制作的显示面板的显示效果，为了解决上述技术问题，发明人还提供以下解决方案。

请参照图7，第一掩膜支撑件11在与第二掩膜支撑件12的交叠位置处设置有朝向第二掩膜支撑件12的第一凹槽111。进一步地，第二掩膜支撑件12在与第一掩膜支撑件11交叠位置处设置有朝向第一掩膜支撑件11的第二凹槽121。在交叠位置处，第一凹槽111与第二凹槽121卡合。在其他实施例中，也可以选择性地只在第一掩膜支撑件11设置第一凹槽111，或者选择性地只在第二掩膜支撑件12设置第二凹槽121。

在第一掩膜支撑件11包括第一凹槽111时，在垂直于蒸镀区域13的方向上，第一凹槽111的深度为第一掩膜支撑件11的厚度的1/3～1/2。在第二掩膜支撑件12包括第二凹槽121时，在垂直于蒸镀区域13的方向上，第二凹槽121的深度为第二掩膜支撑件12的厚度的1/3～1/2。

在本申请实施例的一种较佳实施方式中，可以同时在第一掩膜支撑件11设置第一凹槽111并在第二掩膜支撑件12设置第二凹槽121，其中，第一凹槽111为第一掩膜支撑件11厚度的1/2，第二凹槽121为第二掩膜支撑件12厚度的1/2。

基于上述结构设计，可以在垂直于蒸镀区域13的方向上降低第一掩膜支撑件11与第二掩膜支撑件12在交叠位置处的高度，如此可以减小第一掩膜支撑件11与掩膜版单元12之间的间隙，削弱交叠的位置处蒸镀产生的阴影效应，提高制作得到的显示面板的显示效果。

本申请实施例提供的掩膜支撑件及掩膜结构。可以通过设置平衡部，平衡掩膜支撑件在其延伸方向两侧的配重，以使掩膜支撑件在张网过程中，不会因其延伸方向两侧的配重不均而导致掩膜支撑件偏位甚至翻转，进而可以确保采用包括上述掩膜支撑件的掩膜结构进行蒸镀得到的显示面板具有精度较高的异形区域。并且还可以避免因导致掩膜支撑件偏位或翻转而在异形区域周边出现因阴影效应引起的蒸镀不良(比如，相邻子像素的有机发光材料混色)，确保显示面板的显示质量。

以上所述仅为本申请的优选实施例而已，并不用于限制本申请，对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。