OLED显示面板及显示装置

技术领域

本发明一般涉及显示领域，尤其涉及OLED显示面板及显示装置。

背景技术

OLED显示屏是利用有机电自发光二极管制成的显示屏，由于同时具备自发光有机电激发光二极管，不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异之特性。

但是OLED显示屏在受到冲击或者挤压时，极易影响像素区域的电路，造成像素区域显示失效。因此，提高OLED显示屏的抗冲击以及抗压能力是一种发展趋势。

发明内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种OLED显示面板及显示装置。

第一方面，提供一种OLED显示面板，该OLED显示面板被划分为多个区域，至少包括像素区和多个承压区，所述OLED显示面板包括叠置的基板、像素电路和平坦层，所述承压区像素电路的高度高于所述像素区像素电路的高度，

所述像素区包括多个不同颜色的子像素区，所述承压区设置在所述子像素区之间，每个所述承压区与其相邻的子像素区之间均设有隔离区，所述承压区和所述像素区在所述隔离区内无像素电路连接。

第二方面，提供一种显示装置，包括上述的OLED显示面板。

根据本申请实施例提供的技术方案，通过在各个子像素区之间设置承压区，并且承压区内像素电路的高度高于像素区的像素电路的高度，在显示面板收到挤压或者冲击的时候，力会优先作用于承压区，以及承压区所在位置的膜层，对像素区的像素电路进行保护；进一步的通过在承压区和像素区之间设置隔离区，将承压区和像素区之间的像素电路分开，当施加于显示面板的力进行一步增加，达到一定值时，承压区会出现一定情况的断裂，因为隔离区的存在，避免了承压区的断裂传递至像素区，进一步保护了像素区的像素电路。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为本实施例中OLED显示面板俯视结构示意图；

图2为本实施例中OLED显示面板截面示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。

请参考图1和图2，本实施例提供一种OLED显示面板，该OLED显示面板被划分为多个区域，至少包括像素区10和多个承压区20，所述OLED显示面板包括叠置的基板50、像素电路60和平坦层70，所述承压区20像素电路60的高度高于所述像素区10像素电路60的高度，

所述像素区10包括多个不同颜色的子像素区，所述承压区20设置在所述子像素区之间，每个所述承压区20与其相邻的子像素区之间均设有隔离区30，所述承压区20和所述像素区10在所述隔离区30内无像素电路60连接。

本实施例提供的OLED显示面板通过在各个子像素区之间设置承压区20，并且承压区20内像素电路60的高度高于像素区10的像素电路60的高度，在显示面板收到挤压或者冲击的时候，力会优先作用于承压区20，以及承压区20所在位置的膜层，对像素区10的像素电路60进行保护；进一步的通过在承压区20和像素区10之间设置隔离区30，将承压区20和像素区10之间的像素电路60分开，当施加于显示面板的力进行一步增加，达到一定值时，承压区20会出现一定情况的断裂，因为隔离区30的存在，避免了承压区20的断裂传递至像素区10，进一步保护了像素区10的像素电路60。

参考图1中OLED显示面板俯视图，该显示面板被划分为像素区10和承压区20，其中像素区10包括了多个不同颜色的子像素区，包括红色子像素区11、绿色子像素区12和蓝色子像素区13，承压区20设置在子像素区之间，并且并不是每个相邻的子像素之间都设置有承压区20，而是在设置有PS40的地方设置承压区20，下面实施例中会详细说明，每个承压区20和与该承压区20相邻的像素区10之间设置隔离区30，通过隔离区30将承压区20和像素区10内的像素电路60进行隔离，使得两个区域之间的像素电路60没有任何的连接，自然也不会有断裂情况从承压区20传递至相应的像素区10；

参考图2中OLED显示面板截面图所示，该显示面板包括基板50，和设置在基板50上方的像素电路60和平坦层70，其中，设置在基板50上的栅极层、源漏极层以及相应的无机层等结构均合并称为像素电路60，在像素电路60上方还设有平坦层70，图2中给出了平坦层70包括第一有机层(PLN1)、第二有机层(PLN2)和第三有机层(PLN3)，为了对像素区10的像素电路60进行保护，将承压区20的像素电路60设置的较高，高出像素区10的像素电路60，此处所说的像素电路60高度以像素电路60第一源漏极上方，最上层的保护层(PVX)作为比较标准，如图2所示，承压区20的像素电路60与像素区10的像素电路60之间存在高度为h的高度差，通过该高度差对像素区10的像素电路60进行保护。

进一步的，所示OLED显示面板还包括PS区，所示承压区20至少部分与所述PS区重合。

如图1所示，在OLED显示面板上，相邻的子像素区之间设有PS40(隔垫物，PhotoSpacer)，本实施例通过将承压区20设置在PS40所在的位置，因此，并不是每个相邻的子像素区之间都设有承压区20，在设置PS的位置处设置相应的承压区20，不仅能够对像素区10的像素电路60进行支撑保护，还不会增加过多的结构和工艺；将承压区20设置在PS所在的位置，承压区20和PS之间为一一对应的关系，两者部分重合，或者承压区的范围包括PS的范围，或者PS的范围包括承压区的范围，均可实现，还可以根据常规的工艺步骤进行设置，设置在像素区的所有像素电路层结构都在PS所在位置进行同样的设置，保留PS所在位置的膜层即可实现承压区20的目的，不增加工艺步骤的数量。

进一步的，每个所述承压区20外围绕设有所述隔离区30，所述隔离区30横截面为环形。

本实施例中在承压区20和相邻的子像素区之间设置隔离区30，将承压区20和子像素区之间的像素电路60进行分隔，不产生任何的连接和力传导，为了保证隔离区30对像素电路60隔离的效果，也方便隔离区30的设置，优选的将隔离区30设置为环形结构，如图1所示，该环形隔离区30围绕承压区20设置，包围住该承压区20，一方面进行承压区20和像素区10之间的电路隔离，另一方面，不会对本身像素区10内各个子像素之间的像素电路60连接产生过多的影响，像素区10的像素电路60无需进行过多的改动。

优选的，所述隔离区30横截面的形状与每个所述承压区20横截面的形状匹配。

图1中给出了承压区20的横截面为圆形，优选地设置隔离区30的横截面为环形结构，本实施例中形成的隔离区30是在显示面板制备过程中挖除相应位置，也就是像素电路60上无机层的材料形成的，因此，为了便于隔离区30的设置，优选的将隔离区30的横截面设置的与承压区20的横截面匹配，一般设置为相同的形状，例如方形截面的承压区20，设置方形环结构的隔离区30，圆形的截面的承压区20，设置环形结构的隔离区30；其中，承压区20的横截面一般与PS的横截面形状相匹配，一般均设置为方形结构。

优选的，所述隔离区30内填充有机材料或者聚酰亚胺。

本实施例设置的隔离区30是在制备过程中挖除相应位置的无机层形成的，具体的来说，如图2所示的OLED显示面板设置有基板50，随后在基板50上形成像素电路60关联的层结构，包括其中的多层栅极层(gate)，源漏极层(SD)等多层金属层，相邻的金属层之间填充有无机材料，例如缓冲层(buffer)，栅极绝缘层(GI)等等，与像素电路60关联的层结构设置完成后，将隔离区30填充的无机材料进行挖除，在承压区20和像素区10之间形成一个隔离槽，该隔离槽结构可以在后续的步骤中填充相应的平坦层70材料，例如第一平坦层70有机材料，顺次设置第二平坦层70和第三平坦层70，还可以直接在隔离区30的隔离槽内填充聚酰亚胺(PI)材料，该有机材料和聚酰亚胺材料具有更好的弹性，当施加给承压区20的力过大，承压区20出现断裂的情况，隔离区30的材料也能将相应断裂的力通过一定的形变进行阻挡，更加有效的避免了断裂传递至像素区10的情况，对像素区10的像素电路60进行更有效的保护。

可选的，所述隔离区30的宽度为3-5微米。

本实施例中设置隔离区30进行像素电路60的隔离，为了降低隔离区30对整个显示面板上像素电路60的影响，将隔离区30的范围设置的较小为优，优选的设置隔离区30的宽度为3-5微米，该宽度可以以图2中虚线之间的范围进行界定，也就是像素电路60最底层的缓冲层(Buffer-s)之间的间距作为测量标准，在该隔离区30内，靠近基板50的一端隔离区30的宽度可能小于3-5微米，或者在该隔离区30内还留有部分无机层结构都是可以的。

进一步的，所述隔离区30靠近所述PS设置，所述隔离区30与围绕的PS之间的间距小于3微米。

本实施例中将隔离区30围绕承压区20设置，并且承压区20设置在PS所在的位置，因此，隔离区30尽可能的靠近PS设置，两者之间的间距越小，该承压区20占据的面积越小，在对OLED显示面板进行支撑的同时，显示面板上像素电路60的范围不会受到过多的影响，优选的隔离区30与围绕的PS之间的间距小于3微米。

进一步的，所述像素电路60包括多层叠置的膜层，所述承压区20的像素电路60至少部分膜层与所述像素区10的像素电路60膜层对应。

上述实施例中提到了设置在像素电路60位置的多层结构，由于要对承压区20的像素电路60总结构进行增高，需要对像素电路60包括的各个层结构进行操作，但是，像素电路60包括的各层结构在工艺上不宜进行增厚，若要实现承压区20和像素区10的层厚度的不同，需要额外增加工艺数量，延长工艺时间，本实施例优选的通过在形成像素区10的像素电路膜层的时候，在承压区20进行相同的膜层设置，并且形成的多个膜层叠加设置，承压区20的膜层叠加后，高度也会逐渐增加，高出像素区10的膜层，由于不同膜层能够增加的厚度不完全相同，其只需要总厚度增加设定的值h即可，该设置方式形成的承压区20膜层数量可能与像素区10的膜层数量相同，也可能少于像素区10的膜层数量，也就是说，只要满足承压区20高度的增加，相应承压区20的膜层数量也可以不与像素区10的一致，全部对应相同，或者部分相同均可。

可选的，所述承压区20像素电路60的高度高于所述像素区10像素电路1±0.5μm。

根据上述的实施例，承压区20像素电路60高于像素区10h高度，该h一般为2-3层金属层的厚度，优选的设置为1微米，其不会对显示面板的整体厚度产生过多的影响，还能对显示面板上像素电路60进行保护。

优选的，将承压区20设置为金字塔型的结构，承压区20各个膜层的横截面积由靠近基板50的一侧向远离基板50的一侧逐渐减小，形成如图2所示的金字塔型的结构，该结构由上向下逐渐变大，屏幕收到挤压的时候，由上向下的支撑力也逐渐增加，该结构降低了膜层断裂剥落的风险。

可选的，将承压区20设置为柱形结构，附图中并未示出，柱形结构的承压区也便于制备，同时能够满足支撑的效果。

本实施例还提供一种显示装置，包括上述OLED显示面板。

上述提供的显示装置包括任何使用OLED显示面板的结构，其在收到冲击或者挤压的时候，屏幕的像素电路60不会收到冲击和挤压的损伤，保持良好的显示效果，提高显示的可靠性。

需要理解的是，上文如有涉及术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制；方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位旋转90度或处于其他方位，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。