一种氧化钙用除铁机

技术领域

本发明涉及氧化钙生产技术领域，尤其涉及一种氧化钙用除铁机。

背景技术

在氧化钙生产时，其原料中含有金属物质，为了保障氧化钙的纯度，需要通过除铁装置对氧化钙内的金属物质进行去除。

专利公开号为CN216459401U公开了一种氧化钙除铁装置，包括机体，所述机体的上端贯通设置，所述机体的一侧固定有固定架，所述固定架内设有转动机构，所述转动机构上设有驱动轮，所述驱动轮转动连接在机体的一侧，所述机体的相对内壁上均固定有固定板，两个固定板上均贯穿设置有圆杆，两个圆杆的上端共同设置有电磁过滤网，两个圆杆的下端均固定有固定件，两个固定件内均转动连接有圆辊，两个固定板的下方共同设置有驱动杆。

上述装置能够对氧化钙原料进行双层除铁处理。但是氧化钙在生产过程中，还会产生铁的氢氧化物，而铁的氢氧化物没有磁性，因此，上述装置并不能去除氧化钙中铁的氢氧化物。如何设计一种能去除氧化钙中铁的氢氧化物的氧化钙用除铁机是本专利需要解决的技术问题。

发明内容

为了克服现有技术不能去除氧化钙中铁的氢氧化物的缺点，技术问题：提供一种能去除氧化钙中铁的氢氧化物的氧化钙用除铁机。

技术方案如下：一种氧化钙用除铁机，包括有支撑主架和滤网，支撑主架下部左前侧开有出料口，出料口内连接有滤网，还包括有渗透机构和吸附机构，支撑主架上部设有用于将氧化钙中铁的氢氧化物过滤出来的渗透机构，支撑主架下部设有用于吸附氧化钙中的铁杂质的吸附机构。

作为优选，渗透机构包括有电机、齿轮、支撑环、保护壳和反渗透膜，支撑主架顶部后侧安装有电机，支撑主架内上部转动式连接有支撑环，支撑环中间连接有保护壳，保护壳内部卡接有用于将氧化钙中铁的氢氧化物过滤出来的反渗透膜，电机的输出轴和保护壳中部均连接有齿轮，齿轮位于支撑主架内部，齿轮相互啮合。

作为优选，吸附机构包括有第一伸缩杆、第一弹簧、保护套、电磁铁和压杆，支撑主架内底部左右两侧均连接有第一伸缩杆，第一伸缩杆上端之间连接有保护套，第一伸缩杆上部均与保护套之间连接有第一弹簧，第一弹簧套在第一伸缩杆上，保护套内部安装有电磁铁，保护套顶部左右两侧均连接有压杆，压杆上部伸出支撑主架外，通过压杆向下移动保护套和电磁铁，电磁铁吸附氧化钙中的铁杂质。

作为优选，还包括有用于反渗透膜震动提高过滤效率的震动机构，震动机构包括有第二伸缩杆、第二弹簧和撞球，保护壳中部周向均匀间隔开有开口，支撑主架内右壁上侧连接有第二伸缩杆，第二伸缩杆左端连接有用于敲击反渗透膜的撞球，第二伸缩杆左部与撞球之间连接有第二弹簧，第二弹簧套在第二伸缩杆左部，撞球穿过保护壳的开口与反渗透膜接触。

作为优选，还包括有用于加强氧化钙中铁杂质的磁性的磁化机构，磁化机构包括有底板和磁场发生器，支撑主架下部安装有用于加强氧化钙中铁杂质的磁性的磁场发生器，磁场发生器底部连接有底板。

作为优选，还包括有用于对保护壳顶部进行清理的刮除机构，刮除机构包括有定位杆和刮板，保护壳下部前侧连接有定位杆，定位杆下端连接有刮板，刮板底部与保护套顶部接触，保护壳带动定位杆和刮板转动，对保护壳顶部进行清理。

作为优选，刮板下部左右两侧为倾斜设置。

作为优选，还包括有用于有效清理支撑主架内的铁杂质的排出机构，排出机构包括有定位块和旋转板，支撑主架内底部均匀间隔连接有定位块，定位块上均转动式连接有旋转板，在支撑主架内倒入水时，水的冲击力会带动旋转板转动搅动水，水和铁杂质混合一起一同排出。

本发明的优点是：通过设置的反渗透膜对含铁的氧化钙进行过滤，去除氧化钙中铁的氢氧化物，通过设置的电磁铁吸附氧化钙中的铁杂质；保护壳上的开口与撞球重复接触分离，使得撞球重复敲击反渗透膜，反渗透膜震动提高过滤效率；磁场发生器加强氧化钙中铁杂质的磁性，从而便于电磁铁吸附铁杂质，减少漏吸率；刮板转动对保护壳顶部进行清理，以便下次使用；在支撑主架内倒入水时，水的冲击力会带动旋转板转动搅动水，水和铁杂质混合一起一同排出，有效的将铁杂质清理出来。

附图说明

图1为本发明的立体结构示意图。

图2为本发明的部分立体结构示意图。

图3为本发明的剖视立体结构示意图。

图4为本发明的渗透机构立体结构示意图。

图5为本发明的渗透机构部分立体结构示意图。

图6为本发明的吸附机构立体结构示意图。

图7为本发明的吸附机构剖视立体结构示意图。

图8为本发明的震动机构立体结构示意图。

图9为本发明的磁化机构剖视立体结构示意图。

图10为本发明的刮除机构第一种立体结构示意图。

图11为本发明的刮除机构第二种立体结构示意图。

图12为本发明的排出机构第一种部分立体结构示意图。

图13为本发明的排出机构第二种部分立体结构示意图。

附图标记说明：1_支撑主架，11_滤网，2_渗透机构，21_电机，22_齿轮，23_支撑环，24_保护壳，25_反渗透膜，3_吸附机构，31_第一伸缩杆，32_第一弹簧，33_保护套，34_电磁铁，35_压杆，4_震动机构，41_第二伸缩杆，42_第二弹簧，43_撞球，5_磁化机构，51_底板，52_磁场发生器，6_刮除机构，61_定位杆，62_刮板，7_排出机构，71_定位块，72_旋转板。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明进一步说明。

实施例1

一种氧化钙用除铁机，参照图1-图7，包括有支撑主架1、滤网11、渗透机构2和吸附机构3，支撑主架1下部左前侧开有出料口，出料口内安装有滤网11，支撑主架1上部设有渗透机构2，渗透机构2用于将氧化钙中铁的氢氧化物过滤出来，支撑主架1下部设有吸附机构3，吸附机构3用于吸附氧化钙中的铁杂质。

参照图4-图5，渗透机构2包括有电机21、齿轮22、支撑环23、保护壳24和反渗透膜25，支撑主架1顶部后侧安装有电机21，支撑主架1内上部转动式连接有支撑环23，支撑环23中间焊接有保护壳24，保护壳24内部卡接有反渗透膜25，反渗透膜25用于将氧化钙中铁的氢氧化物过滤出来，电机21的输出轴和保护壳24中部均连接有齿轮22，两个齿轮22位于支撑主架1内部，两个齿轮22相互啮合。

参照图6-图7，吸附机构3包括有第一伸缩杆31、第一弹簧32、保护套33、电磁铁34和压杆35，支撑主架1内底部左右两侧均焊接有第一伸缩杆31，两个第一伸缩杆31上端之间焊接有保护套33，第一伸缩杆31上部均与保护套33之间连接有第一弹簧32，第一弹簧32套在第一伸缩杆31上，保护套33内部安装有电磁铁34，保护套33顶部左右两侧均焊接有压杆35，压杆35上部伸出支撑主架1外。

使用时，堵住支撑主架1下部的出料口，然后启动电机21和电磁铁34，电机21的输出轴通过齿轮22带动保护壳24和反渗透膜25转动，然后将含铁的氧化钙倒入保护壳24中落进支撑主架1内，转动的反渗透膜25对含铁的氧化钙进行过滤，从而将铁的氢氧化物过滤出来，并且反渗透膜25转动防止铁的氢氧化物堆积在一处降低过滤效率，含铁的氧化钙流经保护壳24，使得电磁铁34吸附铁杂质，再向下移动压杆35，压杆35带动保护套33向下移动，第一弹簧32被压缩，第一伸缩杆31进行收缩，保护套33带动电磁铁34向下移动，使得电磁铁34进一步吸附铁杂质，随后松开压杆35，进而在第一弹簧32复位的作用下带动保护套33、电磁铁34和压杆35向上移动复位，第一伸缩杆31随之复位，接着不再堵住支撑主架1下部的出料口，使得氧化钙通过支撑主架1下部的出料口排出，即可进行收集，再关闭电机21和电磁铁34，取出反渗透膜25进行清理，再复位反渗透膜25，保护套33上的铁杂质掉落，在保护壳24中倒入水，对支撑主架1内部进行冲洗，使得铁杂质和水通过支撑主架1下部的出料口排出。

实施例2

在实施例1的基础之上，参照图1、图2、图3和图8，还包括有震动机构4，震动机构4包括有第二伸缩杆41、第二弹簧42和撞球43，保护壳24中部周向均匀间隔开有开口，支撑主架1内右壁上侧焊接有第二伸缩杆41，第二伸缩杆41左端焊接有撞球43，撞球43用于敲击反渗透膜25，第二伸缩杆41左部与撞球43之间连接有第二弹簧42，第二弹簧42套在第二伸缩杆41左部，撞球43穿过保护壳24的开口与反渗透膜25接触。

保护壳24带动反渗透膜25转动时，保护壳24上的开口与撞球43分离，保护壳24推动撞球43向右移动，第二弹簧42被压缩，第二伸缩杆41进行收缩，保护壳24上的开口与撞球43接触时，进而在第二弹簧42复位的作用下带动第二伸缩杆41复位，第二伸缩杆41带动撞球43向左移动敲击反渗透膜25，如此，保护壳24上的开口与撞球43重复接触分离，使得撞球43重复敲击反渗透膜25，反渗透膜25震动提高过滤效率。

参照图1、图2、图3和图9，还包括有磁化机构5，磁化机构5包括有底板51和磁场发生器52，支撑主架1下部安装有磁场发生器52，磁场发生器52用于加强氧化钙中铁杂质的磁性，磁场发生器52底部安装有底板51。

启动磁场发生器52，加强氧化钙中铁杂质的磁性，从而便于电磁铁34吸附铁杂质，减少漏吸率。

参照图1、图2、图3、图10和图11，还包括有刮除机构6，刮除机构6包括有定位杆61和刮板62，保护壳24下部前侧焊接有定位杆61，定位杆61下端安装有刮板62，刮板62下部左右两侧为倾斜设置，刮板62底部与保护套33顶部接触。

保护壳24转动时，进而带动定位杆61和刮板62转动，对保护壳24顶部进行清理，以便下次使用。

参照图1、图2、图3、图12和图13，还包括有排出机构7，排出机构7包括有定位块71和旋转板72，支撑主架1内底部均匀间隔焊接有定位块71，定位块71上均转动式连接有旋转板72。

在支撑主架1内倒入水时，水的冲击力会带动旋转板72转动搅动水，使得水和铁杂质混合，从而能够一同排出，有效的将铁杂质清理出来。

以上所述仅为本发明的实施例子而已，并不用于限制本发明。凡在本发明的原则之内，所作的等同替换，均应包含在本发明的保护范围之内。本发明未作详细阐述的内容属于本专业领域技术人员公知的已有技术。