扫频式电清洗工艺及扫频式电清洗装置

技术领域

本发明涉及电清洗设备技术领域，尤其是扫频式电清洗工艺及扫频式电清洗装置。

背景技术

石英晶体是一种制作石英晶振的原材料，在加工成石英晶振前，需要对石英晶体表面进行清洗，近年来，电清洗技术是能有选择的改变人造石英中电荷补偿的状态以提高石英晶体材料耐辐射性能的方法；电清洗过程是将加工成矩形的晶体放入高温炉中沿Z轴加直流电场进行的，通过电清洗后，石英晶体表面的不稳定离子被置换，稳定离子则在置换后附着在表面。

然而，石英晶体在电清洗过程中，有些表面的不稳定离子在置换时会产生不稳定盐类粘附在表面，此类盐类无法通过普通清洗除尘装置去除；此外，石英晶振的加工环境虽然十分清洁、干净，但难免存在污染死角，在石英晶体封装前如这些污染物残留在晶体表面，则会影响产品的稳定性，降低产品的质量。

发明内容

本发明针对现有技术中的不足，提供了扫频式电清洗工艺及扫频式电清洗装置。

为解决上述技术问题，本发明通过下述技术方案得以解决：扫频式电清洗装置，包括电清洗装置及输送机。

上述方案中，优选的，所述输送机包括机架及输送带，所述输送带上设有若干用于传输矩形晶体的传送孔，所述机架上设有与传送孔配合的顶升机构；

所述顶升机构内设有敲击杆及与敲击杆相配合的凸块，所述凸块活动设于马达上，所述马达上设有与凸块相配合的转盘，所述凸块连接有第一拉绳；

所述机架上设有与顶升后晶体相配合的吸尘管，所述吸尘管上设有可检测晶体大小的检测板，所述检测板与第一拉绳相连。

上述方案中，优选的，所述顶升机构包括气缸及顶升壳，所述顶升壳上设有可吸附晶体的吸孔，所述敲击杆滑动穿设于顶升壳内，所述敲击杆与顶升壳之间设有第一弹簧。

上述方案中，优选的，所述敲击杆上端穿设顶升壳，下端设有与凸块相配合的拨杆及与第一弹簧相连的弹簧板。

上述方案中，优选的，所述凸块为凸轮块，所述凸块上设有第一导向杆，所述转盘上设有与第一导向杆相配合的第一导向板，所述第一导向板与凸块之间设有第二弹簧，所述凸块上设有第二拉绳。

上述方案中，优选的，所述转盘中心固设有拉绳套，所述第二拉绳穿设拉绳套中心后设有卡接块。

上述方案中，优选的，所述卡接块上设有卡接槽，所述卡接槽内设有卡接杆，所述卡接杆一端与卡接槽相连，另一端与设有与第一拉绳相连的第二导向杆，所述第二导向杆滑动设于顶升壳内。

上述方案中，优选的，所述吸尘管两侧对称设有检测板，所述检测板连接有若干第三导杆，所述第三导杆穿设吸尘管后连接有拉绳板，所述拉绳板与吸尘管之间设有第三弹簧。

上述方案中，优选的，所述拉绳板与第一拉绳相连，所述吸尘管上设有与第一拉绳相配合的定位板，所述吸尘管外壁上设有与拉绳板相配合的第一电磁铁。

上述方案中，优选的，所述吸尘管内设有与顶升后晶体相配合的第一按钮及第二按钮，所述第一按钮与电磁铁相连，所述转盘上设有与凸块相配合的第二电磁铁，所述第二按钮与第二电磁铁相连，所述第一按钮及第二按钮与吸尘管之间设有第四弹簧。

上述方案中，优选的，扫频式电清洗装置的工艺如下：S1：矩形晶体放入电清洗装置内，进行晶体表面的电清洗，降温后放至输送带的传送孔上方；S2：当输送带将晶体传送至顶升机构对应位置时，顶升机构上的顶升壳通过吸孔吸附晶体下端面，用气缸将晶体顶入吸尘管内，随后晶体与第一按钮接触触发第一电磁铁吸附拉绳板；S3：检测板在拉绳板滑动相应距离后与晶体侧面顶靠定位，而第一拉绳根据拉绳板的滑动距离拉动凸块向转盘中心靠近相应距离；S4：启动马达转动转盘，使凸块与拨杆间歇接触，拨杆与凸块接触时敲击杆下滑拉动第一弹簧，拨杆与凸块脱离接触后敲击杆敲击晶体下端面，使晶体上粘附的不稳定盐类及粉尘脱落，被吸尘管吸走。

本发明的有益效果是：本发明提供了一种可去除电清洗后晶体表面不稳定盐类的清洗装置，同时根据不同晶体大小提供不同的敲击力，使小的晶体不会因恒定的敲击力而损坏，大大提升了晶体产品的稳定性。

附图说明

图1为本发明立体结构示意图。

图2为本发明A处放大结构示意图。

图3为本发明剖视结构示意图。

图4为本发明气缸及顶升壳结构示意图。

图5为本发明顶升壳内部零件剖视图。

图6为本发明凸块及敲击杆处立体结构示意图。

图7为本发明马达立体结构示意图。

图8为本发明卡接杆立体结构示意图。

图9为本发明检测板立体结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述：参见图1-图9，扫频式电清洗装置，包括电清洗装置1及输送机2，所述电清洗装置1为扫频式电清洗装置，其用于清洗石英晶体表面的不稳定离子，将矩形石英晶体放入电清洗装置1中，加电场，温度以20℃/ｈ的速度上升到最高温度，一直保持，直至电流密度降至某一恒定值，再以20℃/ｈ的速度降至室温，最后关闭电源。

所述输送机2设于电清洗装置1外，且紧挨电清洗装置1固定连接，晶体在经过电清洗装置1后，通过机械手或人工将晶体放置于输送机2上；所述输送机2包括机架3及输送带4，所述输送带4上设有若干等距的传送孔5，所述晶体放置于传送孔5上，所述传送孔5外缘小于需要传送的晶体最小尺寸的外形，所述晶体为正方形晶体，所述传送孔5为正方形孔体，所述晶体中心与传送孔5中心对齐。

所述输送机2为步进式输送机，即传送时相邻传送孔5为一个移动工位，所述输送机2远离电清洗装置1一侧设有与传送孔5相配合的顶升机构，所述顶升机构包括气缸6及顶升壳7，所述顶升壳7设于气缸6的气缸轴轴端，所述顶升壳7被气缸6顶升后可通过传送孔5，所述气缸6固设于机架3上，且设于输送带4之间，即气缸6顶升后使顶升壳7通过传送孔5。

所述顶升壳7上端面上设有若干吸孔8，所述吸孔8可吸附晶体下端面，所述吸孔8优选为橡胶吸盘，所述顶升壳7中心滑动设有敲击杆11，所述敲击杆11上端滑动穿设顶升壳7后其端部优选置于橡胶吸盘上端面与顶升壳7上端面之间，所述敲击杆11下端固设有横向的弹簧板33，所述敲击杆11置于弹簧板33中心，所述弹簧板33两端与顶升壳7内部顶面间设置有第一弹簧31，所述第一弹簧31两端分别固定于顶升壳7与弹簧板33上，所述第一弹簧31优选为拉簧。

所述敲击杆11下端还设有拨杆32，所述拨杆32与敲击杆11垂直设置，且与弹簧板33呈“+”字型设置，所述顶升壳7侧壁上设有与拨杆32相配合的凸轮机构，所述凸轮机构包括马达13及设于马达13上的转盘14，所述转盘14上滑动设有凸块12，所述凸块12可由转盘14中心向远离或靠近转盘14中心侧滑动。

所述凸块12优选为凸轮凸块，所述凸块12靠近转盘14中心的端面上固设有对称的第一导向杆41，所述转盘14上设有与第一导向杆41相配合的第一导向板42，所述第一导向杆41滑动穿设第一导向板42，所述第一导向杆41上套设有第二弹簧43，所述第二弹簧43两端分别顶靠凸块12及第一导向板42，所述凸块12靠近转盘14中心一端固设有第二拉绳44，所述转盘14转动带动凸块12转动与拨杆32配合，拨杆32沿转盘14及凸块12外缘作往复运动，即拨杆32与凸块12圆弧顶端接触时，拨杆32位于最下方，第一弹簧31被拉伸，脱离接触后，第一弹簧31复位力使敲击杆11向上滑动顶出，凸块12圆弧顶端离转盘14中心的距离与敲击杆11向上滑动顶出的力成正比。

所述转盘14中心端面上固设有拉绳套45，所述第二拉绳44向转盘14中心一侧竖直穿设拉绳套45后从拉绳套45内孔穿出，随后在第二拉绳44端部铆接有卡接块46，所述卡接块46在第二弹簧43处于自由拉伸状态时与拉绳套45端面接触，且此时凸块12圆弧端顶点离转盘14中心距离最远。

所述卡接块46上设有环形的卡接槽47，所述卡接槽47上设有卡接杆48，所述卡接块46可通过卡接槽47在卡接杆48上转动，所述卡接杆48一端卡设于卡接槽47上，另一端向顶升壳7侧壁延伸后设有与卡接杆48相互垂直的第二导向杆49，所述第二导向杆49滑动设于顶升壳7内壁的导板上，所述第二导向杆49滑动穿设导板后固设有第一拉绳15。

所述顶升机构上方设有与之相对应的吸尘管21，所述吸尘管21下端面置于输送带4上方，所述吸尘管21下端面与输送带4端面间的距离大于所需清洗的晶体的最大厚度，所述吸尘管21中心与对应的传送孔5中心对齐，所述吸尘管21两侧内壁上对称设有可检测晶体宽度的检测板22，当晶体被吸孔8吸附后被顶升机构顶入吸尘管21内，随后可通过检测板22的横向滑动检测晶体的宽度。

所述检测板22一侧端面上设有若干与晶体表面接触的硬质橡胶颗粒，另一侧端面上对称设有第三导杆51，所述第三导杆51滑动穿设吸尘管21管壁，所述第三导杆51一端连接吸尘管21内的检测板22，另一端固设有拉绳板52，所述第三导杆51上套设有第三弹簧53，所述第三弹簧53两端分别顶靠拉绳板52及吸尘管21外壁。

所述吸尘管21外壁上设有与拉绳板52相配合的第一电磁铁55，所述拉绳板52优选为铁质薄板，所述第三弹簧53为细质弹簧，吸尘管21两侧的拉绳板52其中的一个与第一拉绳15固定连接，所述吸尘管21外壁上设有与第一拉绳15相配合的定位板54，所述第一拉绳15穿设定位板54后与第二导向杆49连接。

所述吸尘管21内设有与第一电磁铁55电连接的第一按钮61，所述第一按钮61竖直设于吸尘管21内，所述第一按钮61与吸尘管21之间设有第四弹簧63，晶体在被顶升机构顶升后，其上端面可与第一按钮61向顶靠接触，触发第一按钮61使第一电磁铁55通电。

为使凸块12在转动时与转盘14位置相对不滑动，优选在转盘14表面设置有可与凸块12吸附的第二电磁铁，所述吸尘管21内设有与第一按钮61平行设置的第二按钮62，所述第二按钮62优选为延时按钮，其延时时间可根据检测板22动作时间设定，所述第二按钮62与吸尘管21之间也设有第四弹簧63，所述第二按钮62与第二电磁铁电连接，所述凸块12优选为铁质凸块，当晶体顶升后上端面与第二按钮62接触时，第二按钮62延时后使第二电磁铁通电吸附凸块12，使凸块12与转盘14间配合更牢固。

所述的扫频式电清洗装置的工艺，其工艺如下：S1：矩形晶体放入电清洗装置内，进行晶体表面的电清洗，降温后放至输送带4的传送孔5上方；S2：当输送带4将晶体传送至顶升机构对应位置时，顶升机构上的顶升壳7通过吸孔8吸附晶体下端面，随后启动气缸6，将晶体顶入吸尘管21内，晶体与第一按钮61接触触发第一电磁铁55吸附拉绳板52；S3：检测板22在拉绳板52滑动相应距离后与晶体侧面顶靠定位，而第一拉绳15根据拉绳板52的滑动距离拉动凸块12向转盘14中心靠近相应距离，同时，第二按钮62经过延时后使第二电磁铁与凸块12吸附，此时凸块12与转盘14可为一体；S4：启动马达13转动转盘14，使凸块12与拨杆32间歇接触，拨杆32与凸块12接触时敲击杆11下滑拉动第一弹簧31，拨杆32与凸块12脱离接触后敲击杆11敲击晶体下端面，使晶体上粘附的不稳定盐类及粉尘脱落，被吸尘管21吸走，检测板22滑动的距离越长，即晶体越小，则敲击杆11敲击的力越小，保证晶体不被破坏的同时使晶体表面的附着盐类及颗粒被击落，从吸尘管21吸走。

以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。