一种视差屏障型光栅表面清洁装置

技术领域

本申请涉及光栅表面清洁的技术领域，特别是涉及一种视差屏障型光栅表面清洁装置。

背景技术

一般立体显示技术大致上可分为需配戴特殊眼镜与不需配戴特殊眼镜这两大类，其中不需配戴特殊眼镜的立体显示技术又称裸眼式立体显示技术，而屏障式(BarrierType)立体显示技术即是属于裸眼式立体显示技术的一种。

屏障式立体显示技术是利用于空间多功式裸视3D立体显示是在同一个荧屏上，以分割显示区域(空间)同时显示左右两眼画面(多功)来达成3D立体显示效果的方式，因此被称为“空间多功”，柱状透镜式3D立体显示荧屏是屏障式立体显示技术的一种，是在荧屏表面设置垂直排列的圆柱状凸透镜薄膜，透过透镜折射来控制光线行进方向，让左右两眼接受不同影像产生视差呈现立体效果。

在现有的光栅表面清洁设备中，如公告号为CN113514966A的中国专利，其公开了一种等离子组合精密3D光栅表面清洁装置，具体的，通过净化空气输出单元吹出净化空气的气流，清洁视差屏障3D光栅表面的灰尘、等离子Plasma除尘单元发出星雨状的高能离子与介质内分子发生非弹性碰撞，将能量转化成基态分子(原子)的内能，发生激发、离解、电离等一系列过程使污染介质处于活化状态。污染介质在等离子体的作用下，产生活性自由基，活化后的污染物分子经过等离子体定向链化学反应后被脱除、后面的吸气除尘单元吸走除掉的尘埃垃圾，实现对视差屏障3D光栅表面的清洁。

上述现有技术中，是采用非接触的清洁方式，但是第一方面，上述现有技术中是通过高能离子与介质之间的碰撞使污染介质处于活化状态以实现除杂的目的，其在工作时需要经过激发、离解、电离等一系列过程，因此在对光栅进行清洁时，需要多种设备配合使用，导致设备体积大、不适用室外的3D光栅平面；第二方面，视差屏障型光栅表面通常是凹凸不平的，当对光栅表面进行擦拭清洁时，不能准确的对光栅表面内的缝隙进行清理，导致光栅表面容易残留较多的杂质，影响光栅的清洁效果。

发明内容

为了能够对光栅表面进行准确的清洁处理，本申请提供一种视差屏障型光栅表面清洁装置。

本申请提供的一种视差屏障型光栅表面清洁装置采用如下的技术方案：

一种视差屏障型光栅表面清洁装置，包括安装框架，所述安装框架呈矩形框型结构，安装框架中部设置有视窗区域，视窗区域内安装有光栅屏幕，光栅屏幕表面为凹凸不平面，安装框架中部设置有U型槽，U型槽内安装有移动单元，移动单元前端面上安装有清洁单元，清洁单元往复用于对光栅屏幕表面进行清洁。

所述移动单元包括升降架、滑槽架、移动模块以及调节模块，所述U型槽内部对称安装有滑槽架，滑槽架与安装框架之间安装有升降架，滑槽架截面呈U型结构，滑槽架内部安装有移动模块，安装框架前端面上设置有与移动模块配合的滑槽a1，位于U型槽上端的移动模块中部安装有调节模块。

所述清洁单元包括U型架、清洁辊、转动轴和清理架，所述的U型架安装在移动单元外侧，U型架中部安装有转动轴，转动轴上端通过齿轮与移动单元相啮合，清洁辊贯穿设置在转动轴上，U型架上对称安装有对清洁辊清洗的清理架，转动轴为空心结构，转动轴中部设置有透气孔，U型架下端安装有进液管。

所述清洁辊包括导向辊、转动套筒、喷液单元和擦拭垫，所述的U型架内部对称安装有导向辊，导向辊中部设置有与转动轴配合的轴孔，导向辊外侧套设有转动套筒，转动套筒通过轴承与导向辊相连接，转动套筒中部与转动轴相连接，转动套筒上均匀设置有通槽，通槽呈长条形结构，通槽内侧安装有喷液单元，喷液单元内侧面与导向辊紧贴，通槽外侧安装有擦拭垫。

通过采用上述技术方案，在对光栅屏幕表面进行清洁时，移动模块带动U型架往复移动，当U型架往复移动的同时，调节模块通过转动轴带动清洁辊转动，使得清洁辊可以准确的对光栅屏幕表面进行准确的清洁，清洗剂通过进气管进入清洁辊内部，高压清洗剂通过喷液单元向外喷出，擦拭垫受力产生形变，使得擦拭垫可以与凹凸不平的光栅屏幕表面准确贴合，利于光栅屏幕的准确清洁。

优选的，所述移动模块包括电动滑块、滑动板和连接板，所述滑槽架内部对称安装有电动滑块，滑槽内通过滑动配合的方式连接有滑动板，滑动板内侧与电动滑块相连接，滑动板外侧安装有连接板，连接板之间安装有清洁单元。

通过采用上述技术方案，连接板可以与清洁单元相连接，电动滑块可以带动滑动板准确移动，运动平稳，利于清洁单元对光栅屏幕表面进行清洁。

优选的，所述调节模块包括齿轮轴、L型架、齿条板和连接齿轮，所述的移动模块中部通过轴承安装有齿轮轴，滑槽架内部中间安装有L型架，L型架上端安装有齿条板，齿条板与齿轮轴相啮合，齿轮轴内侧安装有连接齿轮，连接齿轮与清洁单元相啮合。

通过采用上述技术方案，当连接板运动时，连接板可以带动齿轮轴在齿条板上运动，齿条板通过齿轮啮合的方式带动齿轮轴进行转动，齿轮轴通过连接齿轮带动清洁辊对表面进行清洁。

优选的，所述的滑槽a1为向下倾斜结构，滑槽a1内安装有挡雨条，挡雨条为柔性橡胶材质。

通过采用上述技术方案，向下倾斜的滑槽a1可以防止雨水进入安装框架内部，防止安装框架内部零件发生损坏、锈蚀的现象，挡雨条可以进一步的起到阻挡雨水的作用。

优选的，所述喷液单元包括导杆、伸缩弹簧、密封板和喷液板，所述的通槽内安装有密封板，密封板上设置有通孔，通孔内通过滑动配合的方式连接有导杆，导杆上设置有伸缩弹簧，导杆内侧为光滑面，导杆外侧安装有喷液板；

喷液板上均匀设有喷孔。

通过采用上述技术方案，当导杆受力向外运动时，导杆与密封板相分离，高压清洗剂通过喷液板上的喷孔均匀向外喷出，保证光栅屏幕表面的清洗效果。

优选的，所述的导向辊一侧设置有用于顶起喷液单元的弧形凸起，弧形凸起表面为光滑面。

通过采用上述技术方案，当转动套筒转动时，转动套筒带动导杆同步运动，当导杆内侧与弧形凸起相接触时，弧形凸起带动导杆向外运动，导杆进而可以带动喷液单元打开，利于清洗剂喷射到光栅屏幕上。

优选的，所述擦拭垫为可形变的柔性橡胶材质，擦拭垫外侧面设置有擦拭布带。

通过采用上述技术方案，当高压清洗剂经喷液板上的喷孔均匀向外喷出时，擦拭垫受力发生形变，使得擦拭垫可以向外扩张，擦拭垫进而可以准确的与凹凸不平的光栅屏幕相贴合，保证光栅屏幕表面准确清理。

优选的，所述擦拭垫上均匀设置有喷孔，喷孔呈漏斗型结构，喷孔内部安装有密封圈。

通过采用上述技术方案，当擦拭垫内侧受力时，擦拭垫发生形变，喷孔内部的密封圈受力同步发生形变，密封圈中部打开，清洗剂进而可以从密封圈中部向外喷出，当擦拭垫复原时，密封圈中部闭合，避免未完全喷出的清洗剂流出，减少清洗剂发生浪费的现象。

优选的，所述清理架可拆卸安装在U型架外侧，清理架中部设置有收集槽，收集槽内均匀安装有刮料板。

通过采用上述技术方案，当转动套筒转动时，刮料板可以对擦拭垫表面进行清理，防止光栅屏幕上的杂质堆积在擦拭垫表面，利于擦拭垫后续使用。

优选的，所述刮料板倾斜布置，刮料板端部为柔性材质，刮料板端部与擦拭垫表面紧贴。

通过采用上述技术方案，柔性材质的刮料板可以有效地起到缓冲的作用，防止擦拭垫表面发生损坏的现象，利于擦拭垫长时间使用。

综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

1.光栅屏幕为表面设置垂直排列的圆柱状凸透镜薄膜，在实际对光栅屏幕表面进行清洁时，需要考虑光栅屏幕表面凹凸不平的情况，通过移动模块带动U型架往复移动，当U型架往复移动的同时，调节模块通过转动轴带动清洁辊转动，使得清洁辊可以准确的对光栅屏幕表面进行准确的清洁，清洗剂通过进气管进入清洁辊内部，高压清洗剂通过喷液单元向外喷出，擦拭垫受力产生形变，使得擦拭垫可以与凹凸不平的光栅屏幕表面准确贴合，使得清洁辊在往复移动的同时可以转动，利于光栅屏幕的准确清洁；

2.为了保证清洗剂均匀喷射在光栅上不浪费，在擦拭垫上均匀设置有喷孔，喷孔呈漏斗型结构，当高压清洗剂经喷液板上的喷孔均匀向外喷出时，擦拭垫受力发生形变，使得擦拭垫可以向外扩张，擦拭垫进而可以准确的与凹凸不平的光栅屏幕相贴合，清洗剂经喷孔向外喷出，保证光栅屏幕表面准确清理，同时为了避免擦拭垫不与光栅屏幕接触时清洗剂流出，在喷孔内安装有密封圈。当擦拭垫发生形变时，喷孔内部的密封圈受力同步发生形变，密封圈中部打开，清洗剂进而可以从密封圈中部向外喷出，当擦拭垫复原时，密封圈中部闭合，避免未完全喷出的清洗剂流出，减少清洗剂发生浪费的现象；

3.为了能够防止擦拭垫表面粘附的杂质二次污染光栅屏幕，设置有相应的清理架，清理架中部设置有收集槽，收集槽内均匀安装有刮料板，当转动套筒转动时，刮料板可以对擦拭垫表面进行清理，防止光栅屏幕上的杂质堆积在擦拭垫表面，利于擦拭垫后续使用，经刮料板刮除的杂质收集在清理架内部；清理架可拆卸连接，当清理架长时间使用后，可以将清理架拆卸后进行清洗。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1是本申请的立体结构示意图。

图2是本申请图1的剖面结构示意图。

图3是本申请安装框架、升降架、移动模块与调节模块之间的结构示意图。

图4是本申请安装框架与滑槽之间的结构示意图。

图5是清洁单元的结构示意图。

图6是清洁单元的第一剖面结构示意图。

图7是清洁单元的第二剖面结构示意图。

图8是清理架的结构示意图。

附图标记说明：1、安装框架；10、光栅屏幕；2、移动单元；21、升降架；22、滑槽架；23、移动模块；231、电动滑块；232、滑动板；233、连接板；24、调节模块；241、齿轮轴；242、L型架；243、齿条板；244、连接齿轮；3、清洁单元；31、U型架；32、清洁辊；321、导向辊；322、转动套筒；323、喷液单元；3231、导杆；3232、伸缩弹簧；3233、密封板；3234、喷液板；33、转动轴；34、清理架；341、刮板。

具体实施方式

以下结合附图1-8对本申请作进一步详细说明。

本申请实施例公开一种视差屏障型光栅表面清洁装置，能够对光栅表面进行准确的清洁处理。

实施例一：

参照图1所示，为本实施例公开的一种视差屏障型光栅表面清洁装置，其包括安装框架1，所述安装框架1呈矩形框型结构，安装框架1中部设置有视窗区域，视窗区域内安装有光栅屏幕10，光栅屏幕10表面为凹凸不平面，安装框架1中部设置有U型槽，U型槽内安装有移动单元2，移动单元2前端面上安装有清洁单元3，清洁单元3往复用于对光栅屏幕10表面进行清洁。

参照图2、图3、图5所示，为了便于清洁单元3能够往复移动对光栅屏幕10表面进行清洁，本实施例中在安装框架1呈内部的U型槽内安装有移动单元2，移动单元2前端面上安装有清洁单元3，具体的，所述移动单元2包括升降架21、滑槽架22、移动模块23以及调节模块24，所述U型槽内部对称安装有滑槽架22，滑槽架22与安装框架1之间安装有升降架21，滑槽架22截面呈U型结构，滑槽架22内部安装有移动模块23，安装框架1前端面上设置有与移动模块23配合的滑槽a1，安装框架1前端设有收纳槽，收纳槽与U型槽相连通，清洁单元3可收缩在收纳槽内部，滑槽a1与收纳槽连接处为光滑面，位于U型槽上端的移动模块23中部安装有调节模块24。

升降架21可以起到升降的作用，当需要对光栅屏幕进行清洁时，升降架21通过滑槽架22带动清洁单元3向外运动，之后移动模块23可以带动清洁单元3向外运动，此时移动模块23刚好进入滑槽a1内部，移动模块23可以带动清洁单元3对屏幕表面进行充分清洁。

所述清洁单元3包括U型架31、清洁辊32、转动轴33和清理架34，所述的U型架31安装在移动单元2外侧，U型架31中部安装有转动轴33，转动轴33上端通过齿轮与移动单元2相啮合，清洁辊32贯穿设置在转动轴33上，U型架31上对称安装有对清洁辊32清洗的清理架34，转动轴33为空心结构，转动轴33中部设置有透气孔，U型架31下端安装有进液管，进液管下端通过高压泵与外接清洗剂相连通，高压清洗剂经转动轴33上的透气孔进入清洁辊32内部。

所述清洁辊32包括导向辊321、转动套筒322、喷液单元323和擦拭垫324，所述的U型架31内部对称安装有导向辊321，导向辊321中部设置有与转动轴33配合的轴孔，导向辊321外侧套设有转动套筒322，转动套筒322通过轴承与导向辊321相连接，转动套筒322中部与转动轴33相连接，转动套筒322上均匀设置有通槽，通槽呈长条形结构，通槽内侧安装有喷液单元323，喷液单元323内侧面与导向辊321紧贴，通槽外侧安装有擦拭垫324。

光栅屏幕10为表面设置垂直排列的圆柱状凸透镜薄膜，在实际对光栅屏幕10表面进行清洁时，需要考虑光栅屏幕10表面凹凸不平的情况，通过移动模块23带动U型架31往复移动，当U型架31往复移动的同时，调节模块24通过转动轴33带动清洁辊32转动，使得清洁辊32可以准确的对光栅屏幕10表面进行准确的清洁，清洗剂通过进气管进入清洁辊32内部，高压清洗剂通过喷液单元323向外喷出，擦拭垫324受力产生形变，使得擦拭垫324可以与凹凸不平的光栅屏幕10表面准确贴合，使得清洁辊32在往复移动的同时可以转动，利于光栅屏幕10的准确清洁。

除此之外，为了进一步提高擦拭垫324的清洁效果，所述擦拭垫324为可形变的柔性橡胶材质，擦拭垫324外侧面设置有擦拭布带，所述擦拭垫324上均匀设置有喷孔，喷孔呈漏斗型结构。当高压清洗剂经喷液板3234上的喷孔均匀向外喷出时，擦拭垫324受力发生形变，使得擦拭垫324可以向外扩张，擦拭垫324进而可以准确的与凹凸不平的光栅屏幕10相贴合，清洗剂经喷孔向外喷出，保证光栅屏幕10表面准确清理。

擦拭布带外侧均匀设置有柔性刷毛，柔性刷毛在转动时可以准确的与光栅屏幕10相接触，进而可以准确的对光栅屏幕10上的缝隙进行清理，防止杂质残留在缝隙内部。

同时为了避免擦拭垫324不与光栅屏幕10接触时清洗剂流出，在喷孔内安装有密封圈。当擦拭垫324发生形变时，喷孔内部的密封圈受力同步发生形变，密封圈中部打开，清洗剂进而可以从密封圈中部向外喷出，当擦拭垫324复原时，密封圈中部闭合，避免未完全喷出的清洗剂流出，减少清洗剂发生浪费的现象。

实施例二：

参照图2、图3所示，在实施例一的基础上，为了能够实现清洁辊32在水平移动的同时可以发生转动，在本实施例二中设置了相互配合的移动模块23和调节模块24。

在实际使用过程中，通过移动模块23和调节模块24相互配合，当移动模块23水平移动时，移动模块23可以带动调节模块24进行转动，从而实现清洁辊32在水平移动时对光栅屏幕10表面进行清洁。

参照图3所示，所述移动模块23包括电动滑块231、滑动板232和连接板233，所述滑槽架22内部对称安装有电动滑块231，滑槽内通过滑动配合的方式连接有滑动板232，滑动板232内侧与电动滑块231相连接，滑动板232外侧安装有连接板233，连接板233之间安装有清洁单元3。

为了能够实现对清洁单元3的往复移动调节，在滑槽架22内部对称安装有电动滑块231，电动滑块231可以带动滑动板232准确移动，运动平稳，利于清洁单元3对光栅屏幕10表面进行清洁。

参照图5所示，为了便于控制清洁辊32在水平移动时发生转动，本实施例二中的分所述调节模块24包括齿轮轴241、L型架242、齿条板243和连接齿轮244，所述的移动模块23中部通过轴承安装有齿轮轴241，滑槽架22内部中间安装有L型架242，L型架242上端安装有齿条板243，齿条板243与齿轮轴241相啮合，齿轮轴241内侧安装有连接齿轮244，连接齿轮244与清洁单元3相啮合。

实际工作的过程中，当移动模块23带动齿轮轴241水平移动时，齿轮轴241可以与齿条板243相啮合，齿轮轴241通过斜齿轮啮合带动清洁辊32发生转动，无需外加驱动，保证清洁辊32的清洁效果。

实施例三：

在实施例一的基础上，为了能够实现光栅屏幕10表面的准确清理，在本实施例三中设置有相应的清洁机构。

参照图5、图6、图7所示，具体的，所述喷液单元323包括导杆3231、伸缩弹簧3232、密封板3233和喷液板3234，所述的通槽内安装有密封板3233，密封板3233上设置有通孔，通孔内通过滑动配合的方式连接有导杆3231，导杆3231上设置有伸缩弹簧3232，导杆3231内侧为光滑面，导杆3231外侧安装有喷液板3234，喷液板3234上均匀设有喷孔，当导杆3231受力向外运动时，导杆3231与密封板3233相分离，高压清洗剂通过喷液板3234上的喷孔均匀向外喷出，保证光栅屏幕10表面的清洗效果。

导向辊321一侧设置有用于顶起喷液单元323的弧形凸起，弧形凸起表面为光滑面，当转动套筒322转动时，转动套筒322带动导杆3231同步运动，当导杆3231内侧与弧形凸起相接触时，弧形凸起带动导杆3231向外运动，导杆3231进而可以带动喷液单元323打开，利于清洗剂喷射到光栅屏幕10上。

需要说明的是，弧形凸起仅设置在导向辊321一侧，只有当喷液单元323运动到导向辊321上的弧形凸起表面时，喷液单元323才会被顶起，使得高压清洗剂只能从清洁辊32内侧喷射到光栅屏幕10表面，其余位置处的喷液单元323与通槽密封配合，减少清洗剂浪费的现象。

实施例四：

在实施例一的基础上，为了能够防止擦拭垫324表面粘附的杂质二次污染光栅屏幕10，在本实施例四中设置有相应的刮板结构。

参照图8所示，所述清理架34可拆卸安装在U型架31外侧，清理架34中部设置有收集槽，收集槽内均匀安装有刮料板341，当转动套筒322转动时，刮料板341可以对擦拭垫324表面进行清理，防止光栅屏幕10上的杂质堆积在擦拭垫324表面，利于擦拭垫324后续使用，经刮料板341刮除的杂质收集在清理架34内部；清理架34可拆卸连接，当清理架34长时间使用后，可以将清理架34拆卸后进行清洗。

所述刮料板341倾斜布置，刮料板341端部为柔性材质，刮料板341端部与擦拭垫324表面紧贴，柔性材质的刮料板341可以有效地起到缓冲的作用，防止擦拭垫324表面发生损坏的现象，利于擦拭垫324长时间使用。

需要说明的是，刮料板341端部的柔性材质为可更换的，其可以采用套设、卡接的方式进行连接，便于柔性材质的端部进行更换。

本实施例的实施原理为：

1：清洁单元移出，升降架21可以起到升降的作用，当需要对光栅屏幕进行清洁时，升降架21通过滑槽架22带动清洁单元3向外运动，之后移动模块23可以带动清洁单元3向外运动，此时移动模块23刚好进入滑槽a1内部，移动模块23可以带动清洁单元3对屏幕表面进行充分清洁。

2：光栅屏幕清洁，在实际对光栅屏幕10表面进行清洁时，需要考虑光栅屏幕10表面凹凸不平的情况，通过移动模块23带动U型架31往复移动，当U型架31往复移动的同时，调节模块24通过转动轴33带动清洁辊32转动，使得清洁辊32可以准确的对光栅屏幕10表面进行准确的清洁，清洗剂通过进气管进入清洁辊32内部，高压清洗剂通过喷液单元323向外喷出，擦拭垫324受力产生形变，使得擦拭垫324可以与凹凸不平的光栅屏幕10表面准确贴合，使得清洁辊32在往复移动的同时可以转动，利于光栅屏幕10的准确清洁。

3：杂质收集，清理架中部设置有收集槽，收集槽内均匀安装有刮料板，当转动套筒转动时，刮料板可以对擦拭垫表面进行清理，防止光栅屏幕上的杂质堆积在擦拭垫表面，利于擦拭垫后续使用，经刮料板刮除的杂质收集在清理架内部；清理架可拆卸连接，当清理架长时间使用后，可以将清理架拆卸后进行清洗。

本具体实施方式的实施例均为本发明的较佳实施例，并非依此限制本发明的保护范围，故：凡依本发明的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本发明的保护范围之内。