一种球顶直边淋釉部件及淋釉方法

技术领域

本发明涉及淋釉器技术领域，具体涉及一种球顶直边淋釉部件及淋釉方法。

背景技术

施釉作为陶瓷瓷砖(岩板)生产中必不可少的一道工序，目前常用的施釉方法主要有淋釉和喷釉两种，而国内主流的淋釉工艺主要为钟罩式淋釉，其所对应的设备为钟罩淋釉器，总的来说淋釉设备操作简单，但对釉幕厚度、釉浆的比重、黏度都有一定的要求。

然而现有的钟罩淋釉器的淋釉部件采用圆形弧面结构的钟罩，因为结构原理的原因，多年来一直困扰行业，当坯体(砖坯、岩板等)经过钟罩下方的时候，淋到坯体上的釉料会产生钟罩纹，影响施釉品质，进而影响陶瓷产品质量的难题。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种球顶直边淋釉部件及淋釉方法。

本发明解决上述技术问题的技术方案如下：一种球顶直边淋釉部件，包括：

釉料承接区，釉料承接区为球顶结构；

弧形过渡区，弧形过渡区与釉料承接区平滑相接；

斜面直边区，斜面直边区与弧形过渡区平滑相接，斜面直边区向外倾斜，并与弧形过渡区具有倾角；

通过釉料承接区和弧形过渡区对釉料进行拉薄和均化，并通过斜面直边区使得拉薄和均化后的釉料形成直线型釉幕。

进一步地，斜面直边区包括与弧形过渡区相适配的倾斜平面以及与倾斜平面平滑相接的直边刀口，直边刀口的后沿面为内斜面，该内斜面与铅锤面具有夹角。

进一步地，釉料承接区上放置有用于釉料进行缓流的稳流环。

进一步地，釉料承接区上放置有用于对两侧及中部的釉料进行分配的配流弧。

进一步地，釉料承接区上设置有用于对釉料进行围挡的挡釉条。

进一步地，斜面直边区的斜面与铅锤面之间的夹角为1.5°-50°。

进一步地，釉料承接区的球顶中心至直边刀口在垂直方向的水平距离为球顶半径的1/10-1/3。

进一步地，弧形过渡区的过渡圆弧半径为釉料承接区的球顶半径的1/10-1/40。

进一步地，斜面直边区的长度为釉料承接区的球顶至直边刀口在垂直方向的水平距离的1-5倍。

本发明还提供了一种球顶直边淋釉部件的淋釉方法，包括以下步骤：

S1：将淋釉部件安装在淋釉器的安装架上，并调整好淋釉部件与釉料释放容器的位置和角度；

S2：打开釉料释放容器，釉料流入釉料承接区，并沿釉料承接区的球顶向中部及两侧流动，随后釉料流经弧形过渡区向斜面直边区流动，通过过釉料承接区的球顶和弧形过渡区的弧面，在液体表面张力作用下，对釉料进行拉薄和均化；

S3：经过拉薄和均化后的釉料经斜面直边区流下，并在直边刀口处形成厚薄均匀的釉幕；

S4：将坯体以一定速度穿过釉幕，釉料均匀地平铺在坯体表面，形成厚薄均匀的釉膜，完成施釉作业。

本发明具有以下有益效果：本发明所提供的一种球顶直边淋釉部件及淋釉方法，运用流体力学设计，其结构可靠，使用性能好，通过釉料承接区和弧形过渡区的液体表面张力作用，对釉料进行拉薄和均化，彻底消除釉料中细微气泡，并通过斜面直边区使得拉薄和均化后的釉料形成直线型釉幕，釉幕厚薄均匀，有效地避免了传统钟罩淋釉器中间薄、两侧厚的施釉圆弧边积分效应问题，同时彻底解决了传统钟罩淋釉器困扰多年的，在其施釉时，会产生钟罩纹难题。并且，该斜面直边区具有前沿斜面，有效地避免釉料内返。此外，本申请中通过对各个区域形状和比例运用流体力学，进行特定设计，有效地保证釉料流动路径的稳定可靠性，大大提高施釉品质，保证产品质量。且节约釉料，降低使用成本，并更加环保。

附图说明

图1为本发明结构示意图；

图2为本发明中侧视图；

图3为本发明中具有稳流环的淋釉部件结构示意图；

图4为本发明中具有配流弧的淋釉部件结构示意图；

图5为本发明中具有挡釉条的淋釉部件结构示意图；

图6为本发明中具有稳流环、配流弧以及挡釉条的淋釉部件结构示意图；

图7为本发明中淋釉部件(单侧型)结构示意图；

图8为本发明中淋釉部件(近半圆型)结构示意图；

图9为本发明中淋釉部件(对称型)结构示意图。

图1至图9中所示附图标记分别表示为：1-釉料承接区，2-弧形过渡区，3-斜面直边区，30-倾斜平面，31-直边刀口，4-稳流环，5-配流弧，6-挡釉条。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本发明，并非用于限定本发明的范围。

如图1至图2所示，一种球顶直边淋釉部件，包括：

釉料承接区1，釉料承接区1为球顶结构。该球顶结构为大半径球顶球面，其中部为拱形、两侧平滑向下过渡。釉料承接区1位于釉料释放容器的下方，釉料释放容器优选地采用供釉漏斗，打开供釉漏斗下方的球阀后，釉料流至釉料承接区1的表面，并沿其球顶球面顺势流动。釉料承接区1平滑相接有弧形过渡区2，经釉料承接区1的釉料流动至弧形过渡区2，通过釉料承接区1和弧形过渡区2，在液体表面张力的作用下，对釉料进行拉薄和均化，可有效地彻底消除釉料中细微气泡。弧形过渡区2平滑相接有斜面直边区3，斜面直边区3向外倾斜，并与弧形过渡区2具有倾角，通过斜面直边区3使得拉薄和均化后的釉料形成直线型釉幕。具体地，斜面直边区3包括与弧形过渡区2相适配的倾斜平面30以及与倾斜平面30平滑相接的直边刀口31，直边刀口31的后沿面为内斜面，该内斜面与铅锤面具有夹角。釉料经倾斜平面30流动后在直边刀口31处形成厚薄均匀的直线型釉幕，当坯体穿过釉幕时，釉料会均匀地平铺在砖坯表面，形成厚薄均匀的釉膜，完成施釉作业。

上述釉料承接区1、弧形过渡区2以及斜面直边区3表面平顺光滑，不得不得有局部凹凸和波浪纹。直边刀口31必须平直光滑，不得有弯曲和局部凸起或缺口。本发明中坯体所指代的是瓷砖、岩板等需要施釉的产品，但不仅限于瓷砖、岩板和日用瓷。

在本发明中，针对不同的工况和坯体对象，同时结合实际使用需要，淋釉部件可以设计为不同的形状，如单侧型、对称型、近半圆型。其中，单侧型即为图7所示，其俯视图为矩形结构，釉料承接区1、弧形过渡区2以及斜面直边区3分别为一组，且依次平滑相接。其中，近半圆型，即为图8所示，其俯视图为近半圆形结构，其与单侧型相似，其区别仅在于釉料承接区1的边缘形状。其中，对称型，即为图9所示，其附俯视图为等边梯形结构，釉料承接区1为一组，弧形过渡区2以及斜面直边区3分别为两组，对称相接在釉料承接区1的两侧，当其中一侧不具备施釉条件时，可通过另一侧进行施釉作业，保证施釉作业的持续有效进行。并延长施釉部件的使用寿命。

此外，需要注意的是，本发明中，限定了釉料承接区1、弧形过渡区2以及斜面直边区3是依次平滑相接的，其并不代表本发明中这几个区域之间仅仅是通过螺栓、定位销等连接件连接，需要说明的是：只要是能保证釉料承接区1、弧形过渡区2以及斜面直边区3之间的连接无缝隙并且平顺光滑，同时保证不会因为连接件的影响而使得釉料流动路径发生劣性变化，都在本发明的保护范围当中。优选地，本发明中采用的淋釉部件为整体结构，针对不同形状的淋釉部件可以采用不同的工艺进行制造，如开模工艺等。

如图3所示，釉料承接区1上放置有用于釉料进行缓流的稳流环4。稳流环4具有一定的深度，稳流环4可以放置在釉料承接区1上的球顶中心位置处，也可以根据实际需要放置在球顶偏心位置处。稳流环4与釉料释放器的出口端相对应，当釉料从釉料释放器的出口端流下时，首先进入到稳流环4内，釉料在稳流环4里缓流，消除进料浪涌，并沉淀细微杂质和消除微小气泡，釉料在稳流环4内聚集而满溢，溢出的釉料覆盖釉料承接区1的球顶表面。

如图4所示，釉料承接区1上放置有用于对两侧及中部的釉料进行分配的配流弧5。配流弧5为弧形结构，其用于对流经在釉料承接区1上的釉料进行分配，使得中部和两侧的釉料基本一致，进一步避免两侧釉料过多、中部釉料偏少的问题。

如图5所示，釉料承接区1上设置有用于对釉料进行围挡的挡釉条6。挡釉条6为吸盘结构，其吸附在釉料承接区1的边缘位置处，根据实际需要进行围挡，从而围设出釉料的流动范围，避免釉料的大范围流动造成的浪费。

如图6所示，根据实际使用需要，在釉料承接区1上分别放置有稳流环4、配流弧5以及挡釉条6。

优选地，斜面直边区3的内斜面与铅锤面之间的夹角为1.5°-50°。通过该角度限定，可避免釉幕内返，获得优秀的施釉品质。

优选地，釉料承接区1的球顶中心至直边刀口31在垂直方向的水平距离为球顶半径的1/10-1/3，弧形过渡区2的过渡圆弧半径为釉料承接区1的球顶半径的1/10-1/40。通过对该区域的形状和比列，运用流体力学，进行特定设计，使得釉料承接区1、弧形过渡区2以及斜面直边区3处在最佳的状态范围内，保证对釉料拉薄和均匀的效果。

优选地，斜面直边区3的长度为釉料承接区1的球顶至直边刀口31在垂直方向的水平距离的1-5倍。通过对该范围的限定，保证两侧与中部的釉料流动路程相当，保证施釉质量。

本发明还提供了一种球顶直边淋釉部件的淋釉方法，包括以下步骤：

S1：将淋釉部件安装在淋釉器的安装架上，并调整好淋釉部件与釉料释放容器的位置和角度；

S2：打开釉料释放容器，釉料流入釉料承接区1，并沿釉料承接区1的球顶向中部及两侧流动，随后釉料流经弧形过渡区2向斜面直边区3流动，通过过釉料承接区1的球顶和弧形过渡区2的弧面，在液体表面张力作用下，对釉料进行拉薄和均化；

S3：经过拉薄和均化后的釉料经斜面直边区3流下，并在直边刀口31处形成厚薄均匀的釉幕；

S4：将坯体以一定速度穿过釉幕，釉料均匀地平铺在坯体表面，形成厚薄均匀的釉膜，完成施釉作业。

以上仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。