触控校准装置以及触控校准方法

技术领域

本公开实施例涉及微电子技术领域，特别涉及一种触控校准装置以及触控校准方法。

背景技术

市面上的智能设备通常配置有触控面板以便书写输入信息，触控面板的类型通常包括电磁屏、电容屏以及电磁电容复合屏。电磁屏需要依靠配件笔才能使用，电容屏可以直接利用手指滑动使用，但精度较低。其中，电磁电容复合屏不仅具有电磁屏的触摸精准度，还具有电容屏无需配件的轻便性，因而深受消费者喜爱。

应用TDDI(Touch and Display Driver Integration，触控与显示驱动器集成)显示技术的LCD((Liquid Crystal Display，液晶显示屏)触控面板是其中的一种产品。以TDDI型LCD触控面板为例，这类电磁电容复合屏却常常出现配件笔笔尖与显示屏上的位置报点偏差较大的问题，影响用户使用，而且还导致了智能设备的产品良率较低。

发明内容

本公开实施例提供一种触控校准装置，至少具有较高的报点精度，有利于提高智能设备的产品良率。

根据本公开一些实施例，本公开实施例提供一种触控校准装置，用于校准触控面板，触控面板包括电磁层、电容触控层以及显示屏，其中，电容触控层与显示屏为一体结构，触控校准装置包括：电磁部，电磁部用于在显示屏表面移动，以改变电磁部与电磁层之间的磁通量；电容部，电容部用于与显示屏接触，且电容部用于在显示屏上移动，以改变电容部与电容触控层之间的电容量；固定杆，固定杆的一端连接电磁部，固定杆的另一端连接电容部，固定杆用于固定电磁部与电容部的相对位置，电磁部与电容部之间具有距离为目标距离；处理器，处理器与触控面板电连接；处理器被配置为，获取第一报点位置函数和第二报点位置函数，第一报点位置函数为电磁部在电磁层上的移动路径对应的电磁层报点位置拟合而成的函数，第二报点位置函数为电容部在电容触控层上的移动路径对应的电容触控层报点位置拟合而成的函数；处理器还被配置为，基于第二报点位置函数以及目标距离，校准第一报点位置函数，生成对应于第一报点位置函数的校准函数；处理器基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，以生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部在校准后的电磁层上的报点位置函数。

在一些实施例中，固定杆包括：第一杆段，第一杆段的一端与电磁部连接，第一杆段上设置有刻度；第二杆段，第二杆段的一端与电容部连接，且第一杆段套设于第二杆段内部，第一杆段可在第二杆段内滑动，第一杆段与第二杆段通过螺柱固定连接；第二杆段上也设置有刻度。

在一些实施例中，触控校准装置还包括：第一钳夹，第一钳夹与固定杆的一端连接，且第一钳夹用于夹持电磁部；第二钳夹，第二钳夹与固定杆的另一端连接，且第二钳夹用于夹持电容部。

在一些实施例中，触控校准装置还包括：第一量角结构，第一量角结构设置在第一钳夹与固定杆的连接处，且第一钳夹的尾端指向第一量角结构上的刻度；处理器还包括输入端口，输入端口用于输入第一量角结构测得的角度，处理器还被配置为，基于第二报点位置函数、目标距离以及角度，校准第一报点位置函数，生成对应于第一报点位置函数的校准函数；处理器基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，以生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部在校准后的电磁层上的报点位置函数。

在一些实施例中，处理器还被配置为，基于第二报点位置函数、目标距离以及电磁部在显示屏上产生的压感信息，校准第一报点位置函数，生成对应于第一报点位置函数的校准函数；处理器基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部在校准后的电磁层上的报点位置函数。

根据本公开一些实施例，本公开实施例另一方面还提供一种触控校准方法，用于校准触控面板，触控面板包括电磁层、电容触控层以及显示屏，其中，电容触控层与显示屏为一体结构，触控校准方法包括：将通过固定杆连接的电磁部与电容部放置在触控面板上方，使电磁部与电磁层产生交互，使电容部电容触控层产生交互，其中，使电容部接地；电磁部与电容部之间具有距离为目标距离；缓慢移动电磁部以及电容部，使电磁部与电容部在显示屏上同步划线；电磁部在显示屏上移动时，电磁部与电磁层之间的磁通量发生改变，电磁层将磁通量发生改变的电磁层报点位置发送到处理器内，处理器将电磁层报点位置拟合为第一报点位置函数；电容部在显示屏上移动时，电容部与电容触控层之间的电容量发生改变，电容触控层将电容量发生改变的电容触控层报点位置发送到处理器内，处理器将电容触控层报点位置拟合为第二报点位置函数；处理器基于第二报点位置函数以及目标距离，校准第一报点位置函数，生成并存储对应于第一报点位置函数的校准函数，处理器基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，以生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部在校准后的电磁层上的报点位置函数。

在一些实施例中，触控校准方法还包括：将通过固定杆连接的电磁部与电容部放置在触控面板上方之前，滑动固定杆的第一杆段，使第一杆段在固定杆的第二杆段内滑动，并通过螺柱固定第一杆段与第二杆段的相对位置，通过第一杆段上的刻度以及第二杆段上的刻度计算目标距离，并通过处理器的输入端口输入目标距离。

在一些实施例中，触控校准方法还包括：将通过固定杆连接的电磁部与电容部放置在触控面板上之前，利用第一钳夹将电磁部固定在固定杆上，利用第二钳夹将电容部固定在固定杆上。

在一些实施例中，触控校准方法还包括：利用第一钳夹将电磁部固定在固定杆上之后，根据第一钳夹的尾端在第一量角结构上指向的刻度，确定第一钳夹的倾斜角度，第一钳夹的倾斜角度即为电磁部相对于触控面板的倾斜角度；多次改变倾斜角度并使电磁部与电容部在显示屏上同步划线；通过处理器的输入端口将电磁部的倾斜角度输入处理器，处理器基于第二报点位置函数、倾斜角度以及目标距离，校准第一报点位置函数，生成并存储对应于第一报点位置函数的校准函数，处理器基于校准函数对第一报点位置函数，生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部在校准后的电磁层上的报点位置函数。

在一些实施例中，触控校准方法还包括：多次改变电磁部在显示屏上的划线压力，并使电磁部与电容部在显示屏上同步划线；触控面板还将电磁部在触控面板上产生的压感信息发送到处理器内，处理器基于第二报点位置函数、压感信息以及目标距离，校准第一报点位置函数，生成并存储对应于第一报点位置函数的校准函数，处理器基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部在校准后的电磁层上的报点位置函数。

本公开实施例提供的技术方案至少具有以下优点：本公开实施例提供的触控校准装置利用电磁部在触控面板的电磁层上移动，利用电容部在触控面板的电容触控层上移动，其中电磁部与电容部之间使用固定杆固定连接。电磁部与电容部之间具有目标距离触控校准装置的处理器记录电磁部在电磁层上的移动路径，并将其拟合为第一报点位置函数，处理器还记录电容部在电容触控层上的移动路径，并将其拟合为第二报点位置函数。处理器基于第二报点位置函数以及目标距离，校准第一报点位置函数，以生成对应于第一报点位置函数的校准函数。处理器基于校准函数对第一报点位置函数进行校准以得到校准后的第三报点位置函数，将第三报点位置函数作为校准后的电磁部在电磁层上的报点位置函数。通过校准电磁部在电磁层上的显示位置报点，可以避免电磁部与显示屏接触点与显示屏上的位置报点出现偏差的问题，从而提高了智能设备的产品良率。

附图说明

一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制；为了更清楚地说明本公开实施例或传统技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为电磁笔与触控面板间的公差示意图；

图2至图4为本公开实施例提供的触控校准装置的一些结构示意图；

图5为本公开实施例提供的触控校准装置的一种局部结构示意图；

图6为本公开实施例提供的处理器的一种结构示意图；

图7为本公开另一实施例提供的触控校准方法的一种步骤示意图；

图8为本公开另一实施例提供的触控面板的一种响应顺序图；

图9为本公开另一实施例提供的触控校准方法的另一种步骤示意图。

具体实施方式

由背景技术可知，电磁触控屏显位置不准确的问题影响到了用户的使用体验，而且没有很好的解决办法。

图1为电磁笔与触控面板间的公差示意图。

分析发现，以TDDI型LCD为例，这类触控面板的显示模组包括电磁层，用于实现电磁触控。显示模组还包括电容触控层，电容触控层与显示屏为一体结构。通过将电磁层与电容触控层组装在一起，可以实现触控面板的电磁触控以及电容触控。其中，电磁层位于反射膜与铁框之间，在将电磁层组装到显示模组上时，由于生产工艺的原因，电磁层与背光膜层间难以避免会存在公差。参考图1，电磁部与触控面板接触时，电磁部笔尖与触控面板的接触点与显示屏上实际显示的接触位点之间存在偏差，影响用户的使用体验。

本公开实施例提供一种触控校准装置，利用触控校准装置校准触控面板的电磁层报点位置坐标，可以矫正由于电磁层装配问题导致的报点偏差，以此提高触控面板的产品良率，从而提高整体智能设备的产品良率。其中，触控校准装置包括用固定杆固定连接的电磁部和电容部，利用电磁部在触控面板的显示屏上移动，处理器将电磁部在电磁层上的移动路径拟合为第一报点位置函数，利用电容部在显示屏上移动，处理器将电容部在电容触控层上的移动路径拟合为第二报点位置函数，然后处理器以第二报点位置函数以及目标距离为基准，校准第一报点位置函数，生成对应于第一报点位置函数的校准函数后，再基于校准函数校准第一报点位置函数为第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部在校准后的电磁层上的报点位置函数。

下面将结合附图对本公开的各实施例进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本公开各实施例中，为了使读者更好地理解本公开而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施例的种种变化和修改，也可以实现本公开所要求保护的技术方案。

在本申请实施例的描述中，技术术语“第一”“第二”等仅用于区别不同对象，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量、特定顺序或主次关系。在本申请实施例的描述中，“多个”的含义是两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

在本申请实施例的描述中，术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如A和/或B，可以表示：存在A，同时存在A和B，存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

在本申请实施例的描述中，术语“多个”指的是两个以上(包括两个)，同理，“多组”指的是两组以上(包括两组)，“多片”指的是两片以上(包括两片)。

在本申请实施例的描述中，技术术语“中心”“纵向”“横向”“长度”“宽度”“厚度”“上”“下”“前”“后”“左”“右”“竖直”“水平”“顶”“底”“内”“外”“顺时针”“逆时针”“轴向”“径向”“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请实施例的限制。

在本申请实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，技术术语“安装”“相连”“连接”“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；也可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请实施例中的具体含义。

图2为本公开实施例提供的触控校准装置的一种结构示意图。

参考图2，本公开实施例提供的触控校准装置100用于校准触控面板200，其中，触控面板200包括电磁层201、电容触控层202以及显示屏203，电容触控层与显示屏203为一体结构。触控校准装置100包括电磁部101，电磁部101用于在显示屏203表面移动，以改变电磁部101与电磁层201之间的磁通量。触控校准装置100还包括电容部102，电容部102用于与显示屏203接触，且电容部102用于在显示屏203上移动，以改变电容部102与电容触控层202之间的电容量。触控校准装置100还包括固定杆103，固定杆103的一端连接电磁部101，固定杆103的另一端连接电容部102，固定杆103用于固定电磁部101与电容部102的相对位置，电磁部101与电容部102之间具有距离为目标距离。触控校准装置100还包括处理器104，处理器104与触控面板200电连接；处理器104被配置为，获取第一报点位置函数和第二报点位置函数，第一报点位置函数为电磁部101在电磁层201上的移动路径对应的电磁层201报点位置拟合而成的函数，第二报点位置函数为电容部102在电容触控层202上的移动路径对应的电容触控层202报点位置拟合而成的函数。处理器104还被配置为，基于第二报点位置函数以及目标距离，校准第一报点位置函数，生成对应于第一报点位置函数的校准函数。处理器104基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，以生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部101在校准后的电磁层201上的报点位置函数。

触控面板200的组成结构包括依次堆叠的显示屏203、电容触控层202以及电磁层201。

利用触控校准装置100校准触控面板200是基于触控面板200中电容触控层202与显示屏203为一体结构的特点，因此，当电容部102在显示屏203表面移动时，电容部102与电容触控层202之间的电容量发生改变的位置与显示屏203上显示的电容部102的移动位置完全一致。也就是说，本专利保护的技术方案是针对具有电容触控与电容触控显示一致的结构特点的各类触控面板200，而不局限于应用了TDDI显示技术的LCD触控面板200。在一些实施例中，触控面板200可以包括应用TDDI显示技术的LCD触控面板200。

电磁部101位于显示屏203上方时，电磁部101会影响显示屏203下的电磁层201，电磁部101与电磁层201之间的磁通量被改变，电磁层201基于电磁层201的坐标系记录磁通量改变的报点位置的坐标。当电磁部101在触控面板200上进行点按操作时，触控面板200的处理器104可以基于电磁层201记录的位置进行相应的响应。电磁层201对电磁部101的响应距离可以大于电磁层201到显示屏203表面的距离，即，在一些实施例中，电磁部101可以悬浮于显示屏203上方，而能与电磁层201进行交互，电磁部101在显示屏203上方悬浮移动而被电磁层201响应并存储磁通量发生改变的对应报点位置。在另一些实施例中，电磁部101还可以与显示屏203接触，而能与电磁层201进行交互，电磁部101在显示屏上移动而被电磁层201响应并存储磁通量发生改变的对应报点位置。

在一些实施例中，电磁部101可以是市面上常见的电磁笔。电磁部101有两种结构类型，一种类型是带电池的电磁部101，电磁部101中的电池激活电磁部101中的发射器，以向电磁层201的接收器发射电磁信号，从而改变电磁部101与电磁层201之间的磁通量；另一种类型是不带电池的电磁部101，电磁部101中设置有线圈，电磁层201的发射器向电磁部101发射电磁信号，电磁信号经线圈转换后再被电磁层201的接收器接收，从而改变电磁部101与电磁层201之间的磁通量。两种类型的电磁部101都能够改变其与电磁层201之间的磁通量，从而使得电磁层201得以记录磁通量改变的报点位置的坐标。

电容部102与显示屏203接触时，电容部102会影响显示屏203下的电容触控层202，电容部102与电容触控层202之间的电容量被改变，电容触控层202基于电容触控层202的坐标系记录电容量改变的报点位置的坐标。由于电容触控层202与显示屏203为一体结构，显示屏203的坐标系与电容触控层202的坐标系一一对应，因此，电容触控层202记录的报点位置与显示屏203上显示的报点位置相同，显示屏203上的光标位置即是电容触控层202上对应的报点位置。

在一些实施例中，电容部102可以包括但不限于铜柱、导电橡胶、导电布或者硬币等导电物体。可以理解的是，电容部102可以是任意导体，只要能够影响电容触控层202产生电容变化。电容部102接地，以对电容触控层202内的电容环境产生扰动，从而与电容触控层202进行交互。

固定杆103的两端分别连接电磁部101以及电容部102，固定杆103可以固定电磁部101与电容部102的相对位置。电磁部101与电容部102之间具有目标距离，目标距离可以通过固定杆103的长度计算得到。例如，通过测量固定杆103的长度、电磁部101的直径以及电容部102的直径可以计算出电磁部101与电容部102之间的中心位置距离，中心位置距离可以作为目标距离。当使用电磁部101在显示屏203上方划线时，电容部102被固定杆103带动而同步划线。同理，当使用电容部102在显示屏203上划线时，电磁部101也被固定杆103带动而同步划线。如此，可以实现基于电磁部101划线轨迹形成的第一报点位置函数与基于电容部102划线轨迹形成的第二报点位置函数的对应。

图3为本公开实施例提供的触控校准装置的另一种结构示意图。

在一些实施例中，参考图3，固定杆103可以包括第一杆段113以及第二杆段123。第一杆段113的一端与电磁部101连接，第二杆段123的一端与电容部102连接，且第一杆段113套设于第二杆段123内部。第一杆段113可在第二杆段123内滑动，第一杆段113与第二杆段123可以通过螺柱等固定零件固定连接。通过滑动第一杆段113可以改变固定杆103的长度，再利用固定零件将第一杆段113与第二杆段123固定，可以改变固定杆103的长度，从而改变电磁部101与电容部102之间的中心位置距离。如此，可以使触控校准装置100适配不同大小型号的触控面板200。例如，将第一杆段113向远离第二杆段123的方向滑动，并用固定零件固定第一杆段113与第二杆段123的相对位置，可以增加固定杆103的长度，从而增加电磁部101与电容部102之间的目标距离，而可以在具有较大尺寸的触控面板200上的不同位置校准电磁部101的报点位置函数。通过改变电磁部101与电容部102的目标距离，还可以获得更大数量的电磁部101的报点位置，从而增加第一报点位置函数与电磁部101移动路径的吻合度，以提高校准的精度。可以理解的是，第二杆段123也可以套设于第一杆段113的内部，第二杆段123可以在第一杆段113内滑动，如此也可以改变固定杆103的长度，从而改变电磁部101与电容部102之间的中心位置距离，以此改变目标距离。

在一些实施例中，第一杆段113与第二杆段123之间还可以通过卡扣连接。可以在第二杆段123内部设置供卡扣固定的卡口，按压第一杆段113上的触扣可以实现卡扣的伸缩，当卡扣伸出则可以将第一杆段113固定在第二杆段123上，当卡扣收缩时可以使第一杆段113在第二杆段123内部滑动。

在一些实施例中，第一杆段113上可以设置有刻度，第二杆段123上也可以设置有刻度。滑动第一杆段113，通过读取第一杆段113位于第二杆段123外部的刻度，可以得知第一杆段113部分的长度。第二杆段123上可以具有贯穿第二杆段123内壁的视窗，通过视窗可以观测到第一杆段113在第二杆段123内部的位置，第一杆段113端部指示的刻度即是第二杆段123部分的长度。将读取到的第一杆段113的长度与读取到的第二杆段123的长度相加可以计算得出固定杆103的长度。将固定杆103的长度与电磁部101的半径以及电容部102的半径相加可以得到电磁部101与电容部102之间的中心位置距离，中心位置距离可以作为目标距离。

图4为本公开实施例提供的触控校准装置的另一种结构示意图。

在一些实施例中，参考图4，触控校准装置100还可以包括第一钳夹115。第一钳夹115与固定杆103的一端连接，第一钳夹115的夹持端与电磁部101夹持连接。第一钳夹115可以用于夹持电磁部101。将第一钳夹115与电磁部101分离可以实现电磁部101与固定杆103的分离，从而可以替换不同的电磁部101。例如，可以替换尺寸更大的电磁部101，以适应具有更大接触面积的触控面板200。又例如，可以替换带电池以及发射器的电磁部101，以对只具有接收器的电磁层201进行校准。

在一些实施例中，触控校准装置100还可以包括第二钳夹125。第二钳夹125与固定杆103的另一端连接，第二钳夹125的夹持端与电容部102夹持连接。第二钳夹125可以用于夹持电容部102。将第二钳夹125与电容部102分离可以实现电容部102与固定杆103的分离，从而可以替换不同的电容部102。例如，可以替换尺寸更大的电容部102，以适应具有更大接触面积的触控面板200。又例如，可以替换其他材料制成的电容部102，以对触控面板200提供多样化的校准维度。

可以理解的是，第一钳夹115并不只能用于夹持电磁部101，同理，第二钳夹125也并非只能用于夹持电容部102。第一钳夹115可以用于夹持电容部102，第二钳夹125也可以用于夹持电磁部101。第一钳夹115与第二钳夹125夹持的结构不同，且被夹持的结构能与触控面板200上的不同触控层进行交互，以便于对不同的触控层进行校准。

图5为本公开实施例提供的触控校准装置的一种局部结构示意图。

在一些实施例中，参考图5，触控校准装置100还可以包括第一量角结构116。第一量角结构116上设置有角度刻度，第一量角结构116可以设置在第一钳夹115与固定杆103的连接处，且第一钳夹115的尾端指向第一量角结构116上的角度刻度。通过查看第一量角结构116上的角度刻度，可以确定第一钳夹115所夹持的结构相对于显示屏203的倾斜角度。例如，第一钳夹115可以夹持电磁部101，将电磁部101对准第一钳夹115上的夹持腔以将电磁部101夹持固定在第一钳夹115上，旋转第一钳夹115至指定角度。其中，第一钳夹115旋转的角度可以通过第一钳夹115的尾端在第一量角结构116上指向的角度刻度确定，第一钳夹115所指向的角度刻度即是电磁部101相对于显示屏203的倾斜角度。

在一些实施例中，触控校准装置100还可以包括第二量角结构126。第二量角结构126上设置有角度刻度，第二量角结构126可以设置在第二钳夹125与固定杆103的连接处，且第二钳夹125的尾端指向第二量角结构126上的角度刻度。通过查看第二量角结构126上的角度刻度，可以确定第二钳夹125所夹持的结构相对于显示屏203的倾斜角度。例如，第二钳夹125可以夹持电容部102，将电容部102对准第二钳夹125上的夹持腔以将电容部102夹持固定在第二钳夹125上，旋转第二钳夹125至指定角度。其中，第二钳夹125旋转的角度可以通过第二钳夹125的尾端在第二量角结构126上指向的角度刻度确定，第二钳夹125所指向的角度刻度即是电容部102相对于显示屏203的倾斜角度。

处理器104可以处理电磁层201以及电容触控层202反馈的报点位置，并基于电磁部101产生的电磁层201报点位置拟合产生第一报点位置函数，基于电容部102产生的电容触控层202报点位置拟合产生第二报点位置函数。其中，第一报点位置函数是通过拟合电磁部101与电磁层201交互时发生磁通量变化的位置在电磁层201上的报点位置坐标产生的函数，第一报点位置函数反应的是电磁部101在未经校准前的电磁层201上移动时对应的电磁层201的坐标系信息。第二报点位置函数是通过拟合电容部102与电容触控层202交互时发生电容量变化的位置在电容触控层202上的报点位置坐标产生的函数，第二报点位置函数反应的是电容部102在电容触控层202上移动时对应的电容触控层202的坐标系信息，也即电容部102在显示屏203上移动时对应的显示屏203的坐标位置信息。第二报点位置函数是触控面板200准确的位置信息，处理器104对触控面板200的校准基于第二报点位置函数展开。

处理器104内可以存储有目标距离，校准过程中，处理器104基于第二报点位置函数以及目标距离，校准第一报点位置函数，以生成对应于第一报点位置函数的校准函数。校准函数是处理器104校准第一报点位置函数时生成的函数，处理器104基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，以生成校准后的第三报点位置函数。例如，通过将校准函数与第一报点位置函数合并，可以得到第三报点位置函数，处理器104存储第三报点位置函数。此时，触控面板200的校准完成，电磁部101与校准后的电磁层201交互时，电磁层201依据第三报点位置函数处理电磁笔的位置信息，并向处理发送该位置信息，以便于使用者与触控面板200进行精准交互。

图6为本公开实施例提供的处理器的一种结构示意图。

在一些实施例中，参考图6，处理器104还可以包括输入端口114。输入端口114可以用于输入电磁部101与电容部102之间的目标距离。例如，滑动第一杆段113以改变固定杆103的长度后，通过第一杆段113与第二杆段123上的刻度计算得到固定杆103的长度，将固定杆103的长度与电磁部101的半径以及电容部102的半径相加，可以得到电磁部101与电容部102之间的中心位置距离，计算得到的中心位置距离可以作为目标距离。将目标距离通过输入端口114输入处理器104，此时再利用电磁部101与电容部102在显示屏203上同步划线，处理器104在生成校准函数时就可以基于通过输入端口114输入的中心位置距离以及第二报点位置函数。如此，可以增加触控校准装置100对不同尺寸的触控面板200的适配度。

输入端口114还可以用于输入第一量角结构116测得的角度。例如，将电磁部101插入第一钳夹115的夹持腔，并旋转第一钳夹115，使第一钳夹115的尾端指向第一量角结构116上的45°处，则电磁部101相对于显示屏203的倾斜角度为45°。并将电容部102插入第二钳夹125的夹持腔，旋转第二钳夹125，使第二钳夹125的尾端指向第二量角结构126上的45°处，则电容部102相对于显示屏203的倾斜角度也为45°。将45°通过输入端口114输入处理器104，此时再利用电磁部101与电容部102在显示屏203上同步划线。处理器104基于第二报点位置函数、目标距离以及角度校准第一报点位置函数，生成该角度下对应于第一报点位置函数的校准函数。处理器104还基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，以生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部101在校准后的电磁层201上的报点位置函数。通过改变电磁部101的倾斜角度并在显示屏203上移动，可以使校准场景更符合触控面板200的使用场景，可以增加校准数据的精度，使校准后的触控面板200适应不同的书写角度而不出现偏差，进一步提高触控面板200的精度。

在一些实施例中，当电磁部101在显示屏203上滑动时，根据电磁部101对显示屏203施加的不同压力，显示屏203还会产生压感信息。处理器104可以接收压感信息，并基于第二报点位置函数、目标距离以及压感信息校准第一报点位置函数，以生成对应于第一报点位置函数的校准函数。处理器104基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部101在校准后的电磁层201上的报点位置函数。

在一些实施例中，显示屏203可以通过显示屏203内的电容压感器产生压感信息。在另一些实施例中，显示屏203还可以通过与显示屏203为一体结构的电容触控层202产生压感信息。

上述公开实施例提供的触控校准装置100可以用于校准触控面板200，其中，触控面板200包括电磁层201、电容触控层202以及显示屏203，电容触控层202与显示屏203为一体结构。触控校准装置100包括电磁部101、电容部102以及用于固定电磁部101和电容部102的固定杆103，触控校准装置100还包括处理器104。利用固定杆103固定电磁部101以及电容部102，并将固定后的电磁部101与电容部102在显示屏203上移动，电磁部101与电容部102之间具有目标距离。其中，电磁部101与电磁层201交互，电磁部101与电磁层201之间的磁通量改变，电磁层201记录磁通量发生改变的报点位置，即电磁部101在电磁层201上的移动路径的报点位置。电容部102与电容触控层202交互，电容部102与电容触控层202之间的电容量发生改变，电容触控层202记录电容量发生改变的报点位置，即电容部102在电容触控层202上的移动路径的报点位置。处理器104存储有目标距离。处理器104被配置为，获取第一报点位置函数和第二报点位置函数。其中，第一报点位置函数是电磁部101在电磁层201上的移动路径对应的电磁层201报点位置拟合而成的函数，第二报点位置函数是电容部102在电容触控层202上的移动路径对应的电容触控层202报点位置拟合而成的函数。处理器104基于第二报点位置函数以及目标距离，校准第一报点位置函数，以生成对应于第一报点位置函数的校准函数。处理器104还基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，以生成校准后的第三报点位置函数。其中，第三报点位置函数作为电磁部101在校准后的电磁层201上的报点位置函数。

相应的，本公开另一实施例还提供一种触控校准方法，触控校准方法可以用于控制前述实施例提供的触控校准装置，以校准触控面板。以下将结合附图对本公开另一实施例提供的触控校准方法进行详细说明，与前一实施例相同或者相应的部分，可参考前述实施例的相应说明，以下将不做详细赘述。

本公开另一实施例提供的触控校准方法可以用于校准触控面板200。其中，触控面板200包括电磁层201、电容触控层202以及显示屏203，其中，电容触控层202与显示屏203为一体结构。

图7为本公开另一实施例提供的触控校准方法的一种步骤示意图。

参考图7，触控校准方法包括下述步骤：

将通过固定杆103连接的电磁部101与电容部102放置在触控面板200上方，使电磁部101与电磁层201进行交互，使电容部102与电容触控层203进行交互。其中，使电容部102接地，以便电容部102与电容触控层202交互。电磁部101与电容部102之间具有目标距离。

缓慢移动电磁部101以及电容部102，使电磁部101与电容部102在显示屏203上同步划线。由于固定杆103的限制，电磁部101的移动过程与电容部102的移动过程始终保持同步，即电磁部101的移动速度与电容部102的移动速度相同，电磁部101的划线轨迹与电容部102的划线轨迹相同。可以理解的是，电磁部101的划线轨迹可以为横向划线、竖向划线、曲线或者图案等形式，同理，电容部102的划线轨迹与电磁部101的划线轨迹相同，电容部102的划线轨迹也可以是横向划线、竖向划线、曲线或者图案等形式。

控制电磁部101与电容部102在显示屏203上同步划线的步骤可以在触控面板200产品在产线上进行电容和电磁划线检测工序时进行，而不增加额外的工序，避免对生产效率的影响。

图8为本公开另一实施例提供的触控面板200的一种响应顺序图。

在一些实施例中，电磁部101与触控面板200的交互与电容部102与触控面板200的交互可以具有时间差，以避免电磁膜扫描时与电容触控层202扫描时产生干扰。例如，参考图8，电磁层201扫描后电容触控层202才进行扫描，电磁膜扫描一次的时间与电容触控层202扫描一次的时间合计为16.7ms。又例如，电容触控层202扫描后电磁层201才开始扫描，二者分时驱动，分时进行。

再次参考图7，电磁部101与电磁屏201交互时，电磁部101与电磁层201之间的磁通量发生改变，电磁层201将磁通量发生改变的电磁层201报点位置发送到处理器104内，处理器104将电磁层201报点位置拟合为第一报点位置函数。电容部102与电容触控层202交互时，电容部102与电容触控层202之间的电容量发生改变，电容触控层202将电容量发生改变的电容触控层202报点位置发送到处理器104内，处理器104将电容触控层202报点位置拟合为第二报点位置函数。

处理器104基于第二报点位置函数以及目标距离，校准第一报点位置函数，生成对应于第一报点位置函数的校准函数，处理器104基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部101在校准后的电磁层201上的报点位置函数。

图9为本公开另一实施例提供的触控校准方法的另一种步骤示意图。

在一些实施例中，参考图9，将电磁部101与电容部102放置在触控面板200上之前，还可以滑动固定杆103的第一杆段113，使第一杆段113在固定杆103的第二杆段123内滑动，并通过螺柱等固定零件固定第一杆段113与第二杆段123的相对位置，再通过第一杆段113上的刻度以及第二杆段123上的刻度计算电磁部101与电容部102的中心位置距离，并通过处理器104的输入端口114输入中心位置距离。处理器104基于第二报点位置函数，利用计算得到的中心位置距离校准第一报点位置函数，生成并存储校准函数，处理器104合并校准函数以及第一报点位置函数，生成第三报点位置函数，第三报点位置函数作为校准后的电磁部101在电磁层上的报点位置函数。

在一些实施例中，将通过固定杆103连接的电磁部101与电容部102放置在触控面板200上之前，还可以利用第一钳夹115将电磁部101固定在固定杆103上，利用第二钳夹125将电容部102固定在固定杆103上。

在一些实施例中，利用第一钳夹115将电磁部101固定在固定杆103上之后，还可以旋转第一钳夹115，根据第一钳夹115的尾端在第一量角结构116上指向的角度刻度，确定第一钳夹115的倾斜角度，第一钳夹115的倾斜角度即电磁部101的倾斜角度。还可以对应旋转第二钳夹125，使第二钳夹125的尾端在第二量角结构126上指向的角度刻度与第一钳夹115的尾端在第一量角结构116上指向的角度刻度相同，则电容部102的倾斜角度与电磁部101的倾斜角度相同。此时再利用电磁部101和电容部102在显示屏203上同步划线，得到在该倾斜角度下划线时的第一报点位置函数以及第二报点位置函数。再通过处理器104的输入端口114将电磁部101的倾斜角度输入处理器104，处理器104基于第二报点位置函数、目标距离以及倾斜角度校准第一报点位置函数，生成对应于第一报点位置函数的校准函数，处理器104基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部101在校准后的电磁层201上的报点位置函数。利用这种方法可以校准不同倾斜角度下在触控面板200上的报点位置，从而进一步提高触控面板200的精度。其中，倾斜角度可以是适应于人手持握触控笔在触控面板200上划线的倾斜角度，以提高使用者的使用体验。

此外，还可以多次改变倾斜角度，并使电磁部101与电容部102在显示屏203上同步划线，得到多组倾斜角度下的第一报点位置函数以及第二报点位置函数，并对不同倾斜角度下的第一报点位置函数进行校准。

在一些实施例中，当使用电磁部101以及电容部102在的显示屏203上划线时，还可多次改变电磁部101在显示屏203上的划线压力，并使电磁部101与电容部102在显示屏203上同步划线。显示屏203记录电磁部101的划线压力，并将划线压力处理为压感信息，触控面板200还将电磁部101在触控面板200上产生的压感信息发送到处理器104内，处理器104基于第二报点位置函数、目标距离以及压感信息校准第一报点位置函数，生成对应于第一报点位置函数的校准函数，处理器104基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部101在校准后的电磁层201上的报点位置函数。利用这种方法，可以充分模拟在触控面板200上书写时对显示屏203的压力状态，通过对显示屏203受不同压力的使用场景进行模拟，可以提高触控校准的精度，避免校准后的触控面板200受不同压力时依旧出现报点位置偏移现象，从而提高触控面板200的良率。

上述公开实施例提供的触控校准方法用于校准触控面板200，其中，触控面板200包括电磁层201、电容触控层202以及显示屏203，且其中的电容触控层202与显示屏203为一体结构。校准触控面板200时，将通过固定杆103连接的电磁部101与电容部102放置在触控面板200上，使电磁部101与电磁层201交互，使电容部102与电容触控层202交互，且将电容部102接地，以便于电容部102与电容触控层202进行交互。其中，电磁部101与电容部201之间具有目标距离。缓慢移动电磁部101以及电容部102，使电磁部101与电容部102在显示屏203上同步划线。此过程可以在每台触控面板200在产线上进行电容和电磁的划线检测时进行，因此，在原有的生产工序上不会增加额外的步骤，有利于避免影响触控面板200产品的生产效率。电磁部101在显示屏203上移动时，电磁部101与电磁层201之间的磁通量发生改变，电磁层201将磁通量发生改变的电磁层201报点位置发送到处理器104内，处理器104将电磁层201报点位置拟合为第一报点位置函数。电容部102在显示屏203上移动时，电容部102与电容触控层202之间的电容量发生改变，电容触控层202将电容量发生改变的电容触控层202报点位置发送到处理器104内，处理器104将电容触控层202报点位置拟合为第二报点位置函数。处理器104基于第二报点位置函数目标距离校准第一报点位置函数，生成对应于第一报点位置函数的校准函数，处理器104基于校准函数对第一报点位置函数进行校准，生成校准后的第三报点位置函数，第三报点位置函数作为电磁部101在校准后的电磁层201上的报点位置函数。因为每台触控面板200设备在产线上都要进行电容和电磁的划线检测，所以每台触控面板200设备都会在出场前利用本技术方案中的触控校准方法进行校准，每台触控面板200设备在出场后都会是校准后的状态，进而提高了触控面板200设备的产品良率，弱化了组装过程中由于组装精度等问题对触控面板200精度造成的影响。

本领域的普通技术人员可以理解，上述各实施方式是实现本公开的具体实施例，而在实际应用中，可以在形式上和细节上对其作各种改变，而不偏离本公开的精神和范围。任何本领域技术人员，在不脱离本公开的精神和范围内，均可作各种改动与修改，因此本公开的保护范围应当以权利要求限定的范围为准。