一种真空离子阱质谱仪系统

技术领域

本申请涉及质谱仪技术领域，尤其涉及一种真空离子阱质谱仪系统。

背景技术

质谱仪是一种具有较高分辨率与灵敏度的现代分析仪器，它通过获得物质的分子量、分子式和分子结构等信息从而对分析物进行鉴别。

在各种质谱仪中，离子阱凭借其简单的结构、时间串级质谱能力以及高气压分析能力，被视为质谱小型化的首选。而在质谱仪进样方法方面，持续进样大气压接口的质谱分析能力被视为质谱小型化的优选。

对于室温(25°到30°左右)下的气体离子，自由程越大，离子的传输与质量分析的效果越高。

然而，在某些恶劣天气下，真空离子阱质谱仪无法工作在室温环境下，因此，会影响检测效果。

现有的质谱仪无法同时检测多个离子类别，或者无法根据需要使用不同的离子阱。

因此，针对以上不足，需要提供一种技术方案来克服或至少减轻现有技术的至少一个上述缺陷。

发明内容

本申请要解决的技术问题在于，针对现有技术中的缺陷，提供了一种真空离子阱质谱仪系统。

为了解决上述技术问题，本申请提供了一种真空离子阱质谱仪系统，所述真空离子阱质谱仪系统包括:第一真空箱，所述第一真空箱内部中空，所述第一真空箱上设置有第一进气口以及多个第一出气口；第二真空箱，所述第二真空箱的数量与所述第一出气口的数量相同，每个第二真空箱包括一个第二进气口，一个第二真空箱的第二进气口与一个第一出气口连通；

进样接口，所述进样接口安装在所述第一进气口上；

射频离子导引装置，所述射频离子导引装置设置在所述第一真空箱内；

离子阱，所述离子阱的数量与第二真空箱的数量相同，一个第二真空箱内设置有一个离子阱；

离子检测器，所述离子检测器的数量与第二真空箱的数量相同，一个第二真空箱内设置有一个离子检测器；

控制阀，所述控制阀的数量与第一出气口的数量相同，一个第一出气口上设置有一个控制阀，通过控制各个所述控制阀的开合，以使所述第一真空箱内的气体以及离子自打开状态的控制阀进入其所在的第一出气口，从而通过第一出气口进入至第二真空箱。

可选地，每个所述第二真空箱均包括一个第二出气口；所述真空离子阱质谱仪系统进一步包括抽真空泵，抽真空泵的数量与第二真空箱的数量相同，一个抽真空泵安装在一个第二出气口处，用于为与其连接的第二真空箱抽真空。

可选地，所述真空离子阱质谱仪系统进一步包括：第三真空箱，所述第三真空箱内部中空，所述第三真空箱包括一个第三进气口以及一个第三出气口，所述第三出气口与所述进样接口连通。

可选地，所述真空离子阱质谱仪系统进一步包括抽风机，所述抽风机安装在所述第三进气口位置，用于将外界气体抽入所述第三真空箱内。

可选地，所述真空离子阱质谱仪系统进一步包括温度调控装置，所述温度调控装置设置在所述第三真空箱上，用于调整所述第三真空箱内的温度。

可选地，所述温度调控装置包括加热装置，所述加热装置设置在所述第三真空箱外部，用于加热所述第三真空箱。

可选地，所述真空离子阱质谱仪系统进一步包括：

冷却管道，所述冷却管道设置在所述第二真空箱外部；

冷却用泵，所述冷却用泵的输出端与所述冷却管道连通；

冷源，所述冷源设置在所述第二真空箱外部，所述冷源与所述冷却用泵的输入端连通；其中，所述冷却用泵用于将冷源内的冷却液体泵至冷却管道；所述冷却管道用于为所述第二真空箱进行冷却。

可选地，所述第一真空箱内的气压高于各个第二真空箱内的气压。

可选地，所述进样接口为取样锥、金属管或非金属毛细管中的一种，所述进样接口的孔径尺寸小于1mm。

可选地，所述射频离子导引装置为四极杆、八极杆或离子漏斗中的一个。

本申请的真空离子阱质谱仪系统可以根据需要采用一个或者多个离子阱来进行检测，从而可以分别获取不同离子阱以及离子检测器得到的结果，另外，还可以根据实际工况选择合适的离子阱或者离子检测器进行检测。

附图说明

图1是本申请实施例一的真空离子阱质谱仪的结构示意图。

附图标记：

第一真空箱1、第二真空箱2、进样接口4；射频离子导引装置5、离子阱6、离子检测器7。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

图1是本申请实施例一的真空离子阱质谱仪的结构示意图。

如图1所示的真空离子阱质谱仪系统包括第一真空箱1、第二真空箱2、进样接口4、射频离子导引装置5、离子阱6、离子检测器7以及控制阀，其中，第一真空箱1内部中空，第一真空箱1上设置有第一进气口以及多个第一出气口；第二真空箱2的数量与第一出气口的数量相同，每个第二真空箱2包括一个第二进气口，一个第二真空箱2 的第二进气口与一个第一出气口连通；进样接口4安装在第一进气口上；射频离子导引装置5设置在第一真空箱1内；离子阱6的数量与第二真空箱2的数量相同，一个第二真空箱2内设置有一个离子阱；离子检测器7的数量与第二真空箱2的数量相同，一个第二真空箱2 内设置有一个离子检测器；控制阀的数量与第一出气口的数量相同，一个第一出气口上设置有一个控制阀，通过控制各个控制阀的开合，以使第一真空箱内的气体以及离子自打开状态的控制阀进入其所在的第一出气口，从而通过第一出气口进入至第二真空箱。

本申请的真空离子阱质谱仪系统可以根据需要采用一个或者多个离子阱来进行检测，从而可以分别获取不同离子阱以及离子检测器得到的结果，另外，还可以根据实际工况选择合适的离子阱或者离子检测器进行检测。

在本实施例中，多个是指两个及以上。

可以理解的是，各个离子阱可以是相同的离子阱也可以是不同的离子阱。

可以理解的是，各个离子检测器可以是相同的离子检测器也可以是不同的离子检测器。

参见图1，在本实施例中，每个第二真空箱均包括一个第二出气口；

真空离子阱质谱仪系统进一步包括抽真空泵，抽真空泵的数量与第二真空箱2的数量相同，一个抽真空泵安装在一个第二出气口处，用于为与其连接的第二真空箱2抽真空。

通过抽真空泵可以在需要的时候为需要的第二真空箱抽真空。

在一个备选实施例中，真空离子阱质谱仪系统进一步包括第三真空箱，第三真空箱内部中空，第三真空箱包括一个第三进气口以及一个第三出气口，第三出气口与所述进样接口4连通。

在一个备选实施例中，真空离子阱质谱仪系统进一步包括抽风机，抽风机安装在第三进气口位置，用于将外界气体抽入第三真空箱内。

在一个备选实施例中，真空离子阱质谱仪系统进一步包括温度调控装置，温度调控装置设置在第三真空箱上，用于调整第三真空箱内的温度。

通过温度调整可以使气体以及离子在适宜的温度下进入至离子阱。

在一个备选实施例中，温度调控装置包括加热装置，加热装置设置在第三真空箱外部，用于加热第三真空箱。

在一个备选实施例中，真空离子阱质谱仪系统进一步包括冷却管道、冷却用泵以及冷源，冷却管道设置在第二真空箱外部；冷却用泵的输出端与冷却管道连通；冷源设置在第二真空箱2外部，冷源与冷却用泵的输入端连通；其中，冷却用泵用于将冷源内的冷却液体泵至冷却管道；冷却管道用于为第二真空箱进行冷却。

在本实施例中，第一真空箱内的气压高于各个第二真空箱内的气压。通过不同气压，从而使气流顺着第一真空箱流入第二真空箱。

在本实施例中，所述进样接口为取样锥、金属管或非金属毛细管中的一种，所述进样接口的孔径尺寸小于1mm。

在本实施例中，所述射频离子导引装置为四极杆、八极杆或离子漏斗中的一个。

在本实施例中，离子阱为三维离子阱或二维离子阱。

在本实施例中，各个控制阀为第一真空箱内的离子和气流进入至对应的第二真空箱的唯一通道。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围。