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抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法

文献发布时间:2023-06-19 11:11:32



相关技术
  • 膜形成材料、光刻用膜形成用组合物、光学部件形成用材料、抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法、抗蚀剂用永久膜、辐射敏感组合物、非晶膜的制造方法、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜的制造方法及电路图案形成方法
  • 正型抗蚀剂组合物和使用该组合物的抗蚀剂膜、涂有抗蚀剂的掩模坯、抗蚀剂图案形成方法和光掩模
技术分类

06120112837902