表面保护膜和光学部件

技术领域

本发明涉及表面保护膜和光学部件。

背景技术

正在使用偏光板、相位差板、显示器用的透镜膜、防反射膜、硬涂膜、触控面板用透明导电性膜等光学用膜、以及使用该光学用膜的显示器等光学产品。在制造、输送光学产品时，在光学用膜的表面贴合表面保护膜，能够防止后续工序中的表面的污染、损伤。

光学产品的外观检查能够在将表面保护膜贴合于光学用膜的状态下进行。如果在贴合有表面保护膜的状态下进行外观检查，则能够省去剥离表面保护膜并再次贴合的操作，因此能够提高作业效率。

表面保护膜例如在表面形成有防静电层。通过设置防静电层，从而在光学产品的制造工序中，在贴合有表面保护膜的光学产品的输送中、处理时能够抑制静电。由此，能够抑制环境中的灰尘、尘埃的吸附。

专利文献1中公开了一种表面保护膜，其在聚酯膜的单面设置防静电层，在该层上设置防污层。防静电层包含将噻吩和/或噻吩衍生物聚合而得到的导电性聚合物。在该表面保护膜中，随着时间的经过，有时表面固有电阻率伴随着氧化劣化、光劣化而上升。

专利文献2中公开的表面保护膜具有包含聚苯胺磺酸和聚噻吩类的防静电层。专利文献2中，通过在防静电层中使用聚苯胺磺酸，从而能够抑制表面固有电阻率的上升(劣化)。在该表面保护膜中，有时因聚苯胺磺酸的影响而对表面保护膜的透视性造成影响。因此，在外观检查的容易度这一点上存在改善的余地。

专利文献3中公开的表面保护膜具有防静电层，该防静电层包含具有活性氢基的树脂、聚氨酯树脂、多异氰酸酯以及碳纳米管。在该保护膜中，由于雾度值变高且透明度变低，有可能对外观检查的容易度产生影响。

现有技术文献

专利文献1：日本特开2000-026817号公报

专利文献2：再公表WO2018/012545号公报

专利文献3：日本特开2007-105928号公报

发明内容

技术问题

本发明的一个方式是鉴于上述情况而完成的，其课题在于提供一种不易引起表面固有电阻率的上升且容易进行外观检查的表面保护膜和光学部件。

技术方案

本发明的一个方式提供表面保护膜，其具备：基材膜，其由具有透明性的树脂构成；防静电层，其形成于所述基材膜的一个面；以及粘合剂层，其形成于所述基材膜的与所述防静电层相反的一侧的面，所述防静电层包含纳米碳，所述防静电层的厚度为0.05μm以上且1.50μm以下，雾度值为4.0％以下，全光线透过率为80.0％以上。

关于所述防静电层的厚度，若厚度薄，则有雾度值变高的倾向，若厚度厚，则有因防静电剂自身的颜色而导致全光线透过率降低的倾向。因此，在更重视透明性的情况下，防静电层的厚度优选为0.10μm至0.50μm左右，进一步最优选为0.15μm至0.25μm左右。

所述表面保护膜可以在所述粘合剂层的与所述基材膜相反的一侧贴合有剥离膜。

所述粘合剂层优选由丙烯酸系粘合剂构成。

本发明的另一方式提供一种光学部件，在被粘体贴合有所述表面保护膜。

发明效果

本发明的一个方式能够提供不易引起表面固有电阻率上升并且容易进行外观检查的表面保护膜和光学部件。

附图说明

图1是示出实施方式的表面保护膜的截面图。

图2是示出在实施方式的表面保护膜上贴合有剥离膜的带剥离膜的表面保护膜的截面图。

图3是示出光学部件的例子的截面图。

符号说明

1：基材膜，2：防静电层，3：粘合剂层，4：剥离膜，5：被粘体(光学产品)，10：表面保护膜，20：光学部件。

具体实施方式

以下，基于实施方式对本发明进行详细说明。

图1是示出实施方式的表面保护膜的截面图。如图1所示，实施方式的表面保护膜10具备基材膜1、防静电层2、以及粘合剂层3。防静电层2形成于基材膜1的一个面(图1中为上表面)。粘合剂层3形成于基材膜1的与防静电层2相反的一侧的面(图1中为下表面)。

[基材膜]

作为基材膜1，使用由具有透明性和挠性的树脂构成的基材膜。由此，能够在将表面保护膜10贴合于作为被粘体的光学产品的状态下进行光学产品的外观检查。作为基材膜1，优选使用由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯形成的膜(聚酯膜)。除了聚酯膜以外，只要具有必要的强度且具有光学适应性，就也能够使用由其他树脂构成的膜。基材膜1可以是未拉伸膜，也可以是单轴或双轴拉伸而得的膜。拉伸膜的拉伸倍率和伴随拉伸膜的结晶化而形成的轴法的取向角度可以控制为特定的值。

基材膜1的雾度值优选为6.0％以下。通过将基材膜1的雾度值设为6.0％以下，能够将表面保护膜10的雾度值设为4.0％以下。表面保护膜10的雾度值容易变得低于基材膜1单体的雾度值。表面保护膜10的雾度值变低能够推测为基于以下理由。由于基材膜1的表面被防静电层2和粘合剂层3覆盖，因此基材膜1的表面的微细凹凸不易出现在表面保护膜10的表面。因此，因表面凹凸引起的散射光变少。其结果是，表面保护膜10的雾度值变低。“雾度值”也称为雾度、雾值、Haze。雾度值例如能够通过JIS K7136“塑料-透明材料的雾度的计算方法”进行测定。

“透明”是指，例如，在测定波长380nm～780nm的范围内测定时，作为整个波长区域中的厚度方向的透射率的平均值而算出的可见光透过率为50％以上(优选为70％以上，进一步优选为80％以上)。透光率能够按照JIS K7375：2008中规定的“塑料-全光线透过率和全光线反射率的计算方法”进行测定。

基材膜1的厚度没有特别限定，例如能够设为12μm～100μm。若基材膜1的厚度为20μm～50μm则基材膜1变得容易处理，因此进一步优选。根据需要，也可以对基材膜1的表面实施基于电晕放电的表面改性、锚涂剂的涂敷等易粘接处理。

[防静电层]

防静电层2包含纳米碳。作为防静电层2中使用的纳米碳，可举出碳纳米管(CNT)、石墨烯以及富勒烯等。碳纳米管包括单层CNT和多层CNT。单层CNT、多层CNT、石墨烯以及富勒烯在防静电功能方面均优异。这些中的单层CNT、石墨烯、以及富勒烯昂贵，因此容易使用多层CNT。纳米碳可以使用一种材料，也可以并用多种材料。

表面保护膜10通过在防静电层2中使用纳米碳，而能够抑制伴随防静电层2的氧化劣化、光劣化的表面固有电阻率的上升(劣化)。

防静电层2中的纳米碳的添加量例如可以为0.1质量％以上且10质量％以下。纳米碳的添加量如果为上述范围的下限值以上，则能够提高抑制伴随着防静电层2的氧化劣化、光劣化的表面固有电阻率的上升(劣化)的效果。若纳米碳的添加量为上述范围的上限值以下，则能够抑制因纳米碳引起的着色，能够提高表面保护膜10的全光线透过率。

防静电层2能够通过将包含纳米碳的防静电剂涂布于基材膜1而形成。

纳米碳在单体的情况下皮膜强度变低，因此优选在防静电剂中添加粘结剂树脂、分散剂等。作为粘结剂树脂，可举出丙烯酸树脂、环氧树脂、氨酯树脂、酚醛树脂、聚酯树脂等。为了使粘结剂树脂交联(也称为固化)，可以根据需要在防静电剂中加入交联剂。作为交联剂，可举出异氰酸酯化合物、三聚氰胺化合物、环氧化合物、金属螯合化合物等。

出于提高防静电剂的涂覆性、防静电层2与基材膜1的密合性、防静电层2的皮膜强度、防静电层2的耐久性(耐磨耗性、耐溶剂性等)的目的，可以在防静电剂中添加紫外线吸收剂、抗氧化剂、流平剂(润湿性改良剂)、密合性提高剂等。

作为防静电剂，可以使用市售的防静电剂用的涂料。作为市售品，可举出DenatronC-300、Denatron CD-001(以上为NagaseChemteX公司制造)、COLCOATCS-3002、COLCOATCS-3202(以上为COLCOAT公司制造)等。

形成防静电层2的方法可以是公知的方法。作为防静电层2的形成方法，例如能够采用以下的方法。在基材膜1的表面，通过公知的涂覆方法涂覆含有纳米碳的涂料(例如，含有纳米碳和粘结剂树脂的防静电剂)。作为涂覆方法，有反向涂布、逗号涂布、凹版涂布、狭缝式挤压涂布、麦勒棒涂布、气刀涂布等。通过对所形成的涂膜实施加热、紫外线照射等，从而使涂膜固化。由此，形成防静电层2。

防静电层2的厚度为0.05μm以上且1.50μm以下。

由于防静电层2的厚度为0.05μm以上，因此能够提高抑制上述的基材膜1表面的微细凹凸的影响而降低雾度值的效果。由于防静电层2为1.50μm以下，因此能够抑制由纳米碳引起的着色，能够提高表面保护膜10的全光线透过率。因此，光学产品的外观检查变得容易。防静电层2的厚度是涂料(防静电剂)固化后的厚度。

在防静电层2的厚度小于0.05μm的情况下，抑制基材膜1表面的微细凹凸的影响而降低雾度值的效果变低。若防静电层2成为超过1.50μm的厚度，则由于因纳米碳引起的着色而使表面保护膜10的全光线透过率降低，因此对光学部件的外观检查的容易度造成影响。

关于防静电层2的厚度，若厚度薄则有雾度值变高的倾向，若厚度厚，则有因防静电剂自身的颜色而导致全光线透过率降低的倾向。因此，在更重视透明性的情况下，防静电层2的厚度优选为0.10μm至0.50μm左右。防静电层2的厚度最优选为0.15μm至0.25μm左右。

防静电层2的厚度可以以防静电层2的表面固有电阻率成为10的7次方(10

表面固有电阻率能够利用高电阻率计(Mitsubishi Chemical Analytech公司制Hiresta(注册商标)-UP)来测定。

[粘合剂层]

粘合剂层3优选具有粘合于被粘体的表面，在使用后简单地剥离且不易污染被粘体的特性。作为粘合剂层3中使用的粘合剂，可举出丙烯酸系粘合剂、氨酯系粘合剂、橡胶系粘合剂等。作为粘合剂，也能够使用聚乙烯醋酸乙烯酯树脂等粘合性树脂。其中，特别优选丙烯酸系粘合剂和氨酯系粘合剂。

作为丙烯酸系粘合剂，优选在(甲基)丙烯酸系聚合物(丙烯酸树脂组合物)中添加了交联剂的粘合剂。(甲基)丙烯酸系聚合物优选为将丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸异壬酯等主要单体、丙烯腈、乙酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等共聚单体、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羟基乙酯、丙烯酸羟基丁酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、N-羟甲基甲基丙烯酰胺等官能性单体共聚而成的聚合物。关于构成(甲基)丙烯酸系聚合物的单体组成，(甲基)丙烯酸系单体优选为50％以上，(甲基)丙烯酸系单体也可以为100％。

交联剂使(甲基)丙烯酸系聚合物交联。作为交联剂，可举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺化合物、金属螯合化合物等。交联剂的添加量只要考虑(甲基)丙烯酸系聚合物的种类、聚合度、官能团量等来决定即可。交联剂的添加量没有特别限定，相对于(甲基)丙烯酸系聚合物100质量份，交联剂优选为0.5～1.0质量份左右。

作为氨酯系粘合剂，优选包含多元醇成分和多异氰酸酯成分的聚氨酯系树脂。聚氨酯树脂只要考虑粘合性、润湿性、被粘体污染性等来选择即可。多元醇成分、多异氰酸酯成分没有特别限制。聚氨酯系树脂可以单独使用，也可以并用两种以上。

作为多元醇成分，可举出例如聚酯多元醇、聚醚多元醇、聚己内酯多元醇、聚碳酸酯多元醇、蓖麻油系多元醇等。这些多元醇成分可以单独使用，也可以并用两种以上。

作为多异氰酸酯成分，可使用脂肪族多异氰酸酯、脂环族多异氰酸酯、芳香族多异氰酸酯、二异氰酸酯的多聚体等。这些多异氰酸酯成分可以单独使用，也可以组合使用两种以上。

作为聚氨酯系粘合剂的市售品，可举出CYABINE(注册商标)SH-101、SH-101M、SP-205、SP-220(Toyo-chem(株)制)、ARACOAT(注册商标)FT100、FT200(荒川化学工业(株)制)、UN1175、UN1176(大同化成工业(株)制)等。粘合剂层可以通过使聚氨酯系粘合剂交联或固化而形成。

在粘合剂层3中，根据需要，为了促进交联反应，可以添加交联催化剂作为添加剂。在粘合剂层3中，根据需要，为了提高基材膜1与粘合剂之间的密合性，可以添加硅烷偶联剂等密合性提高剂作为添加剂。在粘合剂层3中可以根据需要添加防静电剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂等添加剂。

粘合剂层3的厚度没有特别限定，例如优选为5μm～40μm，更优选为10μm～30μm。

表面保护膜10相对于被粘体的表面的剥离速度0.3m/min下的粘合力(低速粘合力)优选为0.3N/25mm以下，进一步优选为0.2N/25mm以下。

表面保护膜10相对于被粘体的表面的剥离速度30m/min下的粘合力(高速粘合力)优选为0.8N/25mm以下。若高速粘合力超过0.8N/25mm，则在使用后剥离表面保护膜10时的作业性有可能变差。在粘合力的调整中能够使用粘合剂组成的改变、固化剂的添加量的调整、增粘剂或粘合力调整剂的添加量调整等公知的方法。

作为在基材膜1的表面形成粘合剂层3的方法，能够使用公知的方法。具体而言，能够使用反向涂布、逗号涂布、凹版涂布、狭缝式挤压涂布、麦勒棒涂布、气刀涂布等公知的涂覆方法。

形成粘合剂层3的方法、以及在粘合剂层3上贴合剥离膜4的方法能够采用公知的方法。具体而言，虽然可举出(1)在基材膜1的单面涂布用于形成粘合剂层3的树脂组合物并进行干燥而形成粘合剂层3后，在粘合剂层3贴合剥离膜4的方法、(2)在剥离膜4的表面涂布用于形成粘合剂层3的树脂组合物并进行干燥而形成粘合剂层3后，在粘合剂层3贴合基材膜1的方法等，但是也可以使用任意方法。

表面保护膜10的雾度值优选为4.0％以下。若雾度值为4.0％以下，则可视性变得良好，能够容易地进行贴合有表面保护膜10的光学产品的外观检查。

表面保护膜10的全光线透过率优选为80.0％以上。若全光线透过率为80.0％以上，则可视性变得良好，能够容易地进行贴合有表面保护膜10的光学产品的外观检查。

谋求即使将表面保护膜10暴露于空气中表面保护膜10的表面固有电阻率也不怎么上升。表面固有电阻率优选为1.0×10的8次方[Ω/□]以上且9.9×10的9次方[Ω/□]以下。表面保护膜10的表面固有电阻率例如在空气暴露前为1.0×10的8次方[Ω/□]的情况下，即使在空气暴露30天后也优选为9.9×10的9次方[Ω/□]以下(以上升率计为9800％以下)、更优选为5.0×10的9次方[Ω/□]以下(以上升率计为4900％以下)。

将表面保护膜10暴露于空气时的耐久性称为“耐空气暴露性”。耐空气暴露性能够通过将表面保护膜10暴露于空气中时的表面固有电阻率来评价。作为耐空气暴露性的评价方法，例如有以下方法。在将表面保护膜10以温度23℃且相关湿度50％的条件而暴露于空气中的状态下放置预定的期间(例如30天)。使用高性能高电阻率计(日东精工Analytech公司制Hiresta(注册商标)-UP)，在施加电压100V且测定时间30秒的条件下测定表面保护膜10的表面固有电阻率(Ω/□)。

图2是示出在表面保护膜10贴合有剥离膜4的带剥离膜的表面保护膜11的截面图。如图2所示，作为剥离膜4，使用公知的剥离膜即可。作为剥离膜4，可以以膜单体的方式使用聚乙烯膜、聚丙烯膜等聚烯烃膜、氟膜等。作为剥离膜4，可以是利用脱模剂(也称为剥离剂)对树脂膜进行了处理的剥离膜。作为树脂膜，可举出例如PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)等聚酯膜、聚酰胺膜。作为脱模剂，可举出有机硅树脂、含长链烷基的树脂、氟树脂等。其中，优选对PET膜利用有机硅系脱模剂进行了处理而得到的剥离膜4。

剥离膜4的厚度没有特别限制，从作业性和成本方面考虑，优选12μm～38μm。

图3是示出作为光学部件的例子的光学部件20的截面图。如图3所示，光学部件20在光学产品5的表面贴合有表面保护膜10。光学部件20按照如下方式制作。在成为将带剥离膜的表面保护膜11(参照图2)的剥离膜4剥离而使粘合剂层3露出的状态后，利用粘合剂层3将该表面保护膜10贴合于作为被粘体的光学产品5。

作为光学产品5，可举出偏光板、相位差板、透镜膜、兼用作相位差板的偏光板、兼用作透镜膜的偏光板等光学用膜。这样的光学产品5用作液晶显示面板等液晶显示装置、各种仪表类的构成构件。

作为光学产品5，还可举出防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透明导电性膜等光学用膜。

在光学部件20中，在表面保护膜10的表面具有防静电层2。因此，能够在光学部件20的输送时、处理时将静电抑制得较低。因此，抑制了工序中的灰尘、尘埃等异物的吸附。在光学部件20中，在将表面保护膜10从光学产品5剥离时，能够将剥离静电压抑制得较低。因此，破坏光学产品5的驱动器IC、TFT元件、栅极线驱动电路等电路部件的可能性小。因此，例如，能够提高制造液晶显示面板等的工序中的生产效率，保持生产工序的可靠性。

表面保护膜10能够抑制暴露于空气时的表面固有电阻率的上升。由于能够长期地抑制表面固有电阻率的上升，因此产业上的利用价值大。

【实施例】

接下来，通过实施例进一步说明本发明。

(实施例1)

制备以固体成分质量比率10/100/10包含碳纳米管分散液(Nagase ChemteX公司制Denatron(注册商标)CD-100)、丙烯酸树脂(高松油脂公司制造的Pesresin(注册商标)SWX-079R)以及甲基化三聚氰胺交联剂(日本Carbide工业公司制NIKALAC(注册商标)MW-30HM)的防静电剂A。防静电剂A是包含纳米碳的防静电剂组合物。

制备由丙烯酸2-乙基己酯80质量份、丙烯酸丁酯10质量份、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯7质量份以及丙烯酸2-羟基乙酯3质量份的共聚物构成的粘合剂。该粘合剂为丙烯酸系粘合剂。相对于该粘合剂的40％乙酸乙酯溶液100质量份，添加作为防静电剂的双(三氟甲烷磺酰)亚胺锂0.3质量份和异氰酸酯系固化剂(东曹(株)制CORONATE(注册商标)HX)2质量份，进行混合而得到粘合剂组合物D。

利用水/乙醇(水/乙醇的质量比50/50)将防静电剂A稀释至10倍，而得到防静电涂料B。在厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(PET膜、基材膜)(雾度值4.6％)的表面，以干燥后的厚度成为厚度0.05μm的方式涂布防静电涂料B，将涂膜在120℃的热风循环式烘箱中干燥1分钟。由此，在PET膜上形成了防静电层。

在PET膜的未层叠防静电层的面上，使用涂抹器，以干燥后的厚度成为厚度20μm的方式涂布粘合剂组合物D，将涂膜在120℃的热风循环式烘箱中干燥3分钟。由此，形成粘合剂层。

在粘合剂层的表面贴合用有机硅系剥离剂进行了处理的剥离膜(25μm厚)(三菱化学公司制造的DIAFOIL(注册商标)MRF-25)，从而得到带剥离膜的表面保护膜。对得到的带剥离膜的表面保护薄膜在40℃下进行3天熟化，得到实施例1的表面保护薄膜。

(实施例2)

除以干燥后的防静电层的厚度成为0.10μm的方式调整防静电涂料B的稀释倍率和涂布量以外，与实施例1同样地制作实施例2的表面保护膜。

(实施例3)

除以干燥后的防静电层的厚度成为0.15μm的方式调整防静电涂料B的稀释倍率和涂布量以外，与实施例1同样地制作实施例3的表面保护膜。

(实施例4)

除以干燥后的防静电层的厚度成为0.25μm的方式调整防静电涂料B的稀释倍率和涂布量以外，与实施例1同样地制作实施例4的表面保护膜。

(实施例5)

除以干燥后的防静电层的厚度成为0.50μm的方式调整防静电涂料B的稀释倍率和涂布量以外，与实施例1同样地制作实施例5的表面保护膜。

(实施例6)

除以干燥后的防静电层的厚度成为1.00μm的方式调整防静电涂料B的稀释倍率和涂布量以外，与实施例1同样地制作实施例6的表面保护膜。

(实施例7)

除以干燥后的防静电层的厚度成为1.50μm的方式调整防静电涂料B的稀释倍率和涂布量以外，与实施例1同样地制作实施例7的表面保护膜。

(实施例8)

除使用聚酯树脂(东洋纺制VYLONAL(注册商标)MD-1480)来代替实施例4中使用的丙烯酸树脂(高松油脂公司制PESRESIN(注册商标)SWX-079R)以外，与实施例4同样地制作实施例8的表面保护膜。

(实施例9)

使用氨酯系粘合剂(荒川化学工业公司制ARACOAT(注册商标)FT200)，来代替在实施例4中使用的丙烯酸系粘合剂。使用荒川化学工业公司制ARACOAT(注册商标)CL2503(固化剂不挥发成分的含有率为40质量％)5.7质量份来代替实施例4中使用的异氰酸酯系固化剂(CORONATEHX)2质量份。除此以外，与实施例4同样地制作实施例9的表面保护膜。

(实施例10)

除使用雾度值5.6％的PET膜来代替PET膜(基材膜)(雾度值4.6％)以外，与实施例4同样地制作实施例10的表面保护膜。

(比较例1)

除以干燥后的防静电层的厚度成为0.04μm的方式调整防静电涂料B的稀释倍率和涂布量以外，与实施例1同样地制作比较例1的表面保护膜。

(比较例2)

除以干燥后的防静电层的厚度成为2.00μm的方式调整防静电涂料B的稀释倍率和涂布量以外，与实施例1同样地制作比较例2的表面保护膜。

(比较例3)

除使用雾度值6.3％的PET膜来代替PET膜(基材膜)(雾度值4.6％)以外，与实施例4同样地制作比较例3的表面保护膜。

(比较例4)

制备以固体成分质量比率30/100/10包含聚噻吩系防静电剂(Starck公司制BAYTRON(注册商标)PAG)、丙烯酸树脂(高松油脂公司制Pesurejin(注册商标)SWX-079R)以及甲基化三聚氰胺交联剂(Nippon Carbide Industries公司制NIKALAC(注册商标)MW-30HM)的防静电剂C。防静电剂C为包含聚噻吩系防静电剂的防静电剂组合物。

除使用防静电剂C来代替防静电剂A以外，与实施例2同样地制作比较例4的表面保护膜。

以下，示出评价试验的方法和结果。

(全光线透过率的测定方法)

使用雾度计(日本电色株式会社制Haze Meter、NDH2000)，以JIS K7105为基准而测定全光线透过率。

(雾度值的测定方法)

使用雾度计(日本电色株式会社制Haze Meter、NDH2000)测定雾度值。

(表面保护膜的表面固有电阻率的测定方法)

表面保护膜的表面固有电阻率(Ω/□)使用高性能高电阻率计(日东精工Analytech公司制Hiresta(注册商标)-UP)，以施加电压100V且测定时间30秒的条件进行测定。

(防静电层的厚度的测定方法)

关于表面保护膜的防静电层的厚度，使用日本分光制紫外可见近红外分光光度计V-770，以入射角度5度对测定波长范围300～900nm的分光反射率进行测定，并且通过干涉间隔法进行测量。

(耐空气暴露性的评价方法)

在将表面保护膜以温度23℃且相关湿度50％的条件暴露于空气中的状态下放置预定的期间(1天或30天)。使用高性能高电阻率计(日东精工Analytech公司制造的Hiresta(注册商标)-UP)，以施加电压100V且测定时间30秒的条件测定表面保护膜的表面固有电阻率(Ω/□)。

(表面保护膜的低速粘合力的测定方法)

使用贴合机，将使用TAC膜作为偏振片保护膜的偏光板贴合于玻璃板的表面。在偏光板的表面贴合裁切为宽度25mm的表面保护膜。将贴合有表面保护膜的偏光板在23℃×50％RH的试验环境下保管一天。使用拉伸试验机测定以0.3m/分钟的剥离速度沿180°的方向剥离表面保护膜时的强度，将其作为低速粘合力(N/25mm)。

(表面保护膜的高速粘合力的测定方法)

使用贴合机，将使用TAC膜作为偏振片保护膜的偏光板贴合于玻璃板的表面。在偏光板的表面贴合裁切为宽度25mm的表面保护膜。将贴合有表面保护膜的偏光板在23℃×50％RH的试验环境下保管一天。使用高速剥离试验机(TESTER SANGYO CO.,LTD.制)测定以30m/分钟的剥离速度剥离表面保护膜时的强度，将其作为高速粘合力(N/25mm)。

(表面保护膜的剥离静电压的测定方法)

使用贴合机，将使用TAC膜作为偏振片保护膜的偏光板贴合于玻璃板的表面。在偏光板的表面贴合裁切为宽度25mm的表面保护膜。将贴合有表面保护膜的偏光板在23℃×50％RH的试验环境下保管一天。一边使用高速剥离试验机(TESTER SANGYO CO.,LTD.制)以30m/分钟的剥离速度剥离表面保护膜，一边将使用表面电位计(KEYENCE(株)制)每隔10ms测定所述偏光板表面的表面电位时的表面电位的绝对值的最大值作为剥离静电压(kV)。

(表面保护膜的表面污染性的确认方法)

使用贴合机，将使用TAC膜作为偏振片保护膜的偏光板贴合于玻璃板的表面。在偏光板的表面贴合裁切为宽度25mm的表面保护膜。将贴合了表面保护膜的偏光板在23℃×50％RH的试验环境下保管三天。剥离表面保护膜，目视观察偏光板的表面的污染性。作为表面污染性的判定基准，将没有污染迁移到偏光板的情况设为“○”(良好)，将确认到污染迁移到偏光板的情况设为“×”(不良)。

对于实施例1～10和比较例1～4的表面保护膜，将测定结果示于表1～表3。在表1～表3中，“防静电层CNT”中的“○”表示使用了包含碳纳米管的防静电剂。“防静电层PEDOT”中的“○”表示使用包含聚3，4-亚乙基二氧噻吩的防静电剂。“防静电层层叠厚度(μm)”表示防静电层的厚度。

“丙烯酸树脂”中的“○”表示防静电层的粘结剂树脂为丙烯酸树脂。“聚酯树脂”中的“○”表示防静电层的粘结剂树脂为聚酯树脂。

“基材膜Hz(％)”表示在基材中使用的PET的雾度值。“保护膜Hz(％)”表示对PET赋予了防静电层和粘合层的保护膜的雾度值。

“丙烯酸粘合剂”中的“○”表示使用丙烯酸系粘合剂作为粘合剂。“氨酯粘合剂”中的“○”表示使用氨酯系粘合剂作为粘合剂。

表面固有电阻率[Ω/□]的1.0E+09表示1.0×10的9次方。

【表1】

【表2】

【表3】

由表1～表3所示的测定结果可知以下内容。

实施例1～10的表面保护膜即使在空气暴露下，表面的防静电层的表面固有电阻率也没有上升(劣化)。另外，保护膜的雾度值成为4.0％以下，全光线透过率为80.0％以上。

另一方面，在防静电层的厚度薄的比较例1中，成为保护膜的雾度值超过4.0％的结果。认为存在由PET膜表面的微细的凹凸引起的散射。另外，在增厚了防静电层的厚度的比较例2中，由于CNT的着色，全光线透过率成为80.0％以下。在基材膜的雾度值高的比较例3中，由PET膜表面的微细的凹凸引起的散射得到抑制，但是由于PET膜自身的雾度值高，因此保护膜中的雾度值成为4.0％以上。另外，在使用聚噻吩作为防静电剂的比较例4中，推测出暴露于大气30天的表面保护膜的表面固有电阻率上升，在工序中容易产生静电。

产业上的可利用性

实施方式的表面保护膜能够用于在例如偏光板、相位差板、透镜膜等光学用膜、以及各种光学部件等的生产工序等中贴合于该光学部件等而保护表面。实施方式的表面保护膜即使在空气暴露下，表面的防静电层的表面固有电阻率也不易上升(劣化)。实施方式的表面保护膜在光学产品的制造工序中，能够抑制贴合有表面保护膜的光学产品的输送中和/或处理时产生的静电，防止吸附环境中的灰尘、尘埃。实施方式的表面保护膜由于雾度值低且全光线透过率高，因此容易进行粘贴有表面保护膜的状态下的外观检查。实施方式的表面保护膜在使用后从组装于液晶显示面板的偏光板和/或相位差板剥离去除时，抑制明显的剥离静电，防止驱动器IC等电路破坏。因此，能够提高生产工序的成品率，产业上的利用价值大。