显示面板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、及具有该显示面板的显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示面板因具有超越液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)的显示特性与品质，例如：轻薄化、短的反应时间、低的驱动电压、更好的显示色彩以及显示视角等优点，受到大家广泛的关注，近些年其发展日新月异，不仅可以制作曲面显示，同时也逐渐向大尺寸发展。

目前，对于顶发射OLED器件，由于要兼顾透过率，透明面阴极一般做得较薄，导致其导电能力较差。在屏幕尺寸较大时，在屏幕中心的发光点，由于离电极接口较远，长距离的电流传输使其驱动电压上升较大。造成屏幕内边缘靠近电极接口区域与屏幕中心区域驱动电压差距过大，有电压降(IR drop)的问题产生，进而使得显示面板的周边亮度较亮，而中间显示较暗，导致显示不均。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，能够解决OLED显示面板由于阴极层容易产生电压降的现象，进而导致显示面板显示不均的技术问题。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种显示面板，其包括：

像素定义层，包括多个开口区以及围绕各所述开口区的非开口区；

电极层，设置于所述像素定义层上，且所述电极层至少用于形成位于所述开口区内的阳极，以及用于形成位于所述非开口区内的辅助电极；以及

阴极层，设置于所述像素定义层与所述辅助电极上，并与所述辅助电极并联。

在本发明的一种实施例中，所述像素定义层还包括设置于所述非开口区内的挡墙结构，所述辅助电极设置于所述挡墙结构上，所述阴极层连续地覆盖所述像素定义层，并与所述辅助电极搭接。

在本发明的一种实施例中，所述显示面板还包括设置于所述挡墙结构与所述辅助电极上的间隔部，所述间隔部包括至少一开孔，所述阴极层覆盖所述间隔部，并通过至少一所述开孔与所述辅助电极搭接。

在本发明的一种实施例中，所述挡墙结构朝向所述阴极层的一侧形成有槽体，所述辅助电极位于所述槽体内，所述阴极层覆盖于所述挡墙结构以及所述辅助电极上。

在本发明的一种实施例中，所述槽体的深度等于所述辅助电极的厚度。

在本发明的一种实施例中，所述辅助电极在所述像素定义层上的正投影位于所述阳极在所述像素定义层上的正投影的覆盖范围之外。

在本发明的一种实施例中，所述显示面板包括多个所述辅助电极，且每一所述辅助电极对应至少一所述开口区设置，且每一所述辅助电极与其对应的至少一所述开口区相邻设置。

在本发明的一种实施例中，所述显示面板包括显示区以及围绕所述显示区的非显示区，且多个所述辅助电极的分布密度由所述非显示区指向所述显示区的方向递增。

根据本发明的上述目的，提供一种显示面板的制作方法，其包括以下步骤：

形成像素定义层，且所述像素定义层包括多个开口区以及围绕各所述开口区的非开口区；

形成电极层于所述像素定义层上，且所述电极层包括形成于所述开口区内的阳极，以及形成于所述非开口区内的辅助电极；以及

形成阴极层于所述像素定义层与所述辅助电极上，且所述阴极层与所述辅助电极并联。

根据本发明的上述目的，提供一种显示装置，所述显示装置包括所述显示面板，或由所述显示面板的制作方法制得的显示面板。

本发明的有益效果：本发明通过在非开口区设置辅助电极与阴极层搭接，进而可以有效地降低阴极层的面电阻，可以改善显示面板的电压降现象，进而提高了显示面板的显示均一性，提高了显示面板的显示效果。此外，辅助电极与阳极在同一制程中形成，进而可以缩减工艺工序，节省工艺成本。

附图说明

下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的显示面板的制作方法流程图；

图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种像素定义层的平面分布结构示意图；

图6为本发明实施例提供的另一种像素定义层的平面分布结构示意图；

图7A至图7E为本发明实施例提供的显示面板的制作流程结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种辅助电极的平面分布结构示意图；

图9为本发明实施例提供的另一种辅助电极的平面分布结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。此外，本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

目前，对于顶发射OLED器件，由于要兼顾透过率，透明面阴极一般做得较薄，导致其导电能力较差。在屏幕尺寸较大时，在屏幕中心的发光点，由于离电极接口较远，长距离的电流传输使其驱动电压上升较大。造成屏幕内边缘靠近电极接口区域与屏幕中心区域驱动电压差距过大，有电压降(IR drop)的问题产生，进而使得显示面板的周边亮度较亮，而中间显示较暗，导致显示不均。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种显示面板，请参照图1，所述显示面板包括像素定义层10、阴极层21以及电极层，其中，像素定义层10包括多个开口区A以及围绕各开口区A的非开口区B。

电极层设置于像素定义层10上，且电极层至少用于形成位于开口区A内的阳极22，以及用于形成位于非开口区B内的辅助电极30。

阴极层21设置于像素定义层10与辅助电极30上，且阴极层21与辅助电极30并联。

在实施应用过程中，本发明实施例通过在像素定义层10的非开口区B内设置辅助电极30，且辅助电极30与阴极层21并联，可以有效地降低阴极层21的电阻，可以改善显示面板的电压降现象，进而可以提高显示面板的显示均一性。辅助电极30设置于非开口区B内，进而不会影响占用开口区A的面积和空间，提高了显示面板的开口率，进一步地提高了显示面板的显示效果。此外，辅助电极30与阳极22在同一制程中形成，进而可以缩减工艺工序，节省工艺成本。

进一步地，请继续参照图1，显示面板包括基板40、设置于基板40上的薄膜晶体管阵列层50、设置于薄膜晶体管阵列层50上的层间绝缘层60、设置于层间绝缘层60上的平坦层70以及设置于平坦层70上的像素定义层10。

可选的，基板40可为玻璃刚性基板，或柔性基板，且柔性基板的材料包括有机树脂材料，在此不作限定。

薄膜晶体管阵列层50包括阵列分布的薄膜晶体管器件以及包覆薄膜晶体管器件的间隔层，且层间绝缘层60覆盖于薄膜晶体管阵列层50上，以进一步覆盖薄膜晶体管器件。平坦层70覆盖于层间绝缘层60上，且平坦层70背向层间绝缘层60的一侧为平坦的表面，以减小膜层段差，提高制程良率。

像素定义层10包括多个开口区A以及围绕开口区A的非开口区B，进一步地，像素定义层10包括挡墙结构11，且挡墙结构11限定出多个开口区A并位于非开口区B内。其中，开口区A为贯穿像素定义层10的开口所形成。

显示面板还包括设置于像素定义层10上的电极层，且电极层至少用于形成位于开口区A内的阳极22，以及用于形成位于非开口区B内的辅助电极30，即阳极22与辅助电极30在同一制程中形成于像素定义层10上。

此外，显示面板还包括设置于开口区A内且位于阳极22上的有机发光层23，其中，阳极22通过贯穿平坦层70以及层间绝缘层60的过孔与薄膜晶体管阵列层中的薄膜晶体管器件电性连接，以实现电信号的传输。

显示面板还包括连续地覆盖于像素定义层10上的阴极层21，阴极层21连续地覆盖多个开口区A以及非开口区B，且阴极层21覆盖于有机发光层23的上表面，以与有机发光层23搭接，且阴极层21为整面形成于像素定义层10上，阴极层21的边缘区域连接于信号端子，通过信号端子输出电信号，与阳极22相配合，在有机发光层23两侧施加电压，以实现有机发光层23的发光功能。

在本发明实施例中，辅助电极30与阴极层21并联，进而可以降低阴极层21的电阻，可以有效地改善显示面板的电压降现象，提高显示面板的显示均一性。

进一步地，辅助电极30设置于挡墙结构11上，且阴极层21连续地覆盖有机发光层23、挡墙结构11以及辅助电极30，以实现与辅助电极30搭接，且辅助电极30可通过信号走线与信号端子相连接，以实现与阴极层21并联。且信号走线在像素定义层10上的正投影位于非开口区B内，进而可以提高显示面板的开口率，提高显示面板的显示效果。

辅助电极30在像素定义层10上的正投影位于阳极22在像素定义层10上的正投影的覆盖范围之外，以避免辅助电极30与阳极22之间产生寄生电容，提高显示面板的显示效果。

另外，本发明实施例还提供一种上述实施例所述的显示面板的制作方法，请参照图2，该制作方法包括以下步骤：

S10、形成像素定义层10，且像素定义层10包括多个开口区A以及围绕各开口区A的非开口区B。

S20、形成电极层于像素定义层10上，且电极层包括形成于开口区A内的阳极22，以及形成于非开口区B内的辅助电极30。

S30、形成阴极层21于像素定义层10与辅助电极30上，且阴极层21与辅助电极30并联。

在本发明实施例中，辅助电极30的材料与阳极22的材料相同，可选的，辅助电极30与阳极22均可为ITO/Ag/ITO的层叠结构。

进一步地，辅助电极30与阳极22在同一道制程中形成，进而在降低阴极层21电阻的基础上，还可以缩减工艺制程，节省工艺时间以及成本。

在本发明的一种实施例中，请参照图1，显示面板包括基板40、设置于基板40上的薄膜晶体管阵列层50、设置于薄膜晶体管阵列层50上的层间绝缘层60、设置于层间绝缘层60上的平坦层70以及设置于平坦层70上的像素定义层10。

像素定义层10包括多个开口区A以及围绕开口区A的非开口区B，且像素定义层10包括挡墙结构11，挡墙结构11限定出多个开口区A并位于非开口区B内。

显示面板还包括设置于像素定义层10上的电极层，且电极层至少用于形成位于开口区A内的阳极22，以及用于形成位于非开口区B内的辅助电极30，即阳极22与辅助电极30在同一制程中形成于像素定义层10上。此外，显示面板还包括设置于开口区A内且位于阳极22上的有机发光层23。其中，辅助电极30设置于挡墙结构11的上表面，并突出于挡墙结构11的上表面。

显示面板还包括连续地覆盖有机发光层23、挡墙结构11以及辅助电极30的阴极层21，且阴极层21覆盖辅助电极30以实现与辅助电极30搭接。

在本实施例中，显示面板的制作方法包括：

提供基板40，基板40包括玻璃刚性基板或柔性基板，且柔性基板的材料包括有机树脂材料。

制备薄膜晶体管阵列层50于基板40上，且薄膜晶体管阵列层50包括薄膜晶体管器件以及包覆薄膜晶体管器件的间隔层。

制备层间绝缘层60于薄膜晶体管阵列层50上，以进一步地覆盖薄膜晶体管器件。

制备平坦层70于层间绝缘层60上，且平坦层70背向层间绝缘层60的一侧为平坦的表面。

制备像素定义层10于平坦层70上，像素定义层10包括挡墙结构11，挡墙结构11限定出多个开口区A，且挡墙结构11位于非开口区B内，非开口区B围绕开口区A设置。可选的，挡墙结构11的材料包括有机光阻材料。

通过黄光、干刻、光阻剥离等制程形成贯穿平坦层70以及层间绝缘层60的过孔。

制备金属层于像素定义层10上，并通过黄光、蚀刻等工艺对金属层进行图案化处理，以形成图案化的电极层，且电极层包括形成位于开口区A内的阳极22，以及位于非开口区B内的辅助电极30。可选的，金属层包括ITO/Ag/ITO的层叠结构。其中，阳极22通过过孔与薄膜晶体管阵列层50中的薄膜晶体管器件电性连接。

制备有机发光层23于开口区A内，且有机发光层23位于阳极22上。

制备阴极层21于像素定义层10上，且阴极层21连续地覆盖有机发光层23、挡墙结构11以及辅助电极30，并与辅助电极30搭接，以实现阴极层21与辅助电极30并联。

在本发明的另一种实施例中，请参照图3，显示面板包括基板40、设置于基板40上的薄膜晶体管阵列层50、设置于薄膜晶体管阵列层50上的层间绝缘层60、设置于层间绝缘层60上的平坦层70以及设置于平坦层70上的像素定义层10。

像素定义层10包括多个开口区A以及围绕开口区A的非开口区B，且像素定义层10包括挡墙结构11，挡墙结构11限定出多个开口区A并位于非开口区B内。

显示面板还包括设置于像素定义层10上的电极层，且电极层至少用于形成位于开口区A内的阳极22，以及用于形成位于非开口区B内的辅助电极30，即阳极22与辅助电极30在同一制程中形成于像素定义层10上。此外，显示面板还包括设置于开口区A内且位于阳极22上的有机发光层23。其中，辅助电极30设置于挡墙结构11上。

显示面板还包括连续地覆盖有机发光层23、挡墙结构11以及辅助电极30的阴极层21，且阴极层21覆盖辅助电极30以实现与辅助电极30搭接。

在本实施例中，挡墙结构11朝向阴极层21的一侧设置槽体101，且辅助电极30设置于槽体101内。

优选的，槽体101的深度等于辅助电极30的厚度。以减小膜层段差，提高制程良品率。

在本实施例中，显示面板的制作方法包括：

提供基板40，基板40包括玻璃刚性基板或柔性基板，且柔性基板的材料包括有机树脂材料。

制备薄膜晶体管阵列层50于基板40上，且薄膜晶体管阵列层50包括薄膜晶体管器件以及包覆薄膜晶体管器件的间隔层。

制备层间绝缘层60于薄膜晶体管阵列层50上，以进一步地覆盖薄膜晶体管器件。

制备平坦层70于层间绝缘层60上，且平坦层70背向层间绝缘层60的一侧为平坦的表面。

制备像素定义层10于平坦层70上，像素定义层10包括挡墙结构11，挡墙结构11限定出多个开口区A，且挡墙结构11位于非开口区B内，非开口区B围绕开口区A设置。可选的，挡墙结构11的材料包括有机光阻材料。

通过黄光、干刻、光阻剥离等制程形成贯穿平坦层70以及层间绝缘层60的过孔。

于挡墙结构11背向平坦层70的一侧形成槽体101。

制备金属层于像素定义层10上，并通过黄光、蚀刻等工艺对金属层进行图案化处理，以形成图案化的电极层，且电极层包括形成位于开口区A内的阳极22，以及位于槽体101内的辅助电极30。可选的，金属层包括ITO/Ag/ITO的层叠结构。其中，阳极22通过过孔与薄膜晶体管阵列层50中的薄膜晶体管器件电性连接。

制备有机发光层23于开口区A内，且有机发光层23位于阳极22上。

制备阴极层21于像素定义层10上，且阴极层21连续地覆盖有机发光层23、挡墙结构11以及辅助电极30，并与辅助电极30搭接，以实现阴极层21与辅助电极30并联。

在本发明的另一种实施例中，请参照图4，显示面板包括基板40、设置于基板40上的薄膜晶体管阵列层50、设置于薄膜晶体管阵列层50上的层间绝缘层60、设置于层间绝缘层60上的平坦层70以及设置于平坦层70上的像素定义层10。

像素定义层10包括多个开口区A以及围绕开口区A的非开口区B，且像素定义层10包括挡墙结构11，挡墙结构11限定出多个开口区A并位于非开口区B内。

显示面板还包括设置于像素定义层10上的电极层，且电极层至少用于形成位于开口区A内的阳极22，以及用于形成位于非开口区B内的辅助电极30，即阳极22与辅助电极30在同一制程中形成于像素定义层10上。此外，显示面板还包括设置于开口区A内且位于阳极22上的有机发光层23。其中，辅助电极30设置于挡墙结构11上。

在本实施例中，显示面板还设置于挡墙结构11与辅助电极30上的间隔部12，且间隔部12形成有至少一开孔，以暴露辅助电极30的部分上表面。

显示面板还包括连续地覆盖有机发光层23、挡墙结构11以及间隔部12的阴极层21，且阴极层21通过至少一开孔与辅助电极30搭接。

可选的，请参照图5，至少一开孔包括两个通孔31，且两个通孔31位于辅助电极30的两端，在本实施例中，通孔31的形状不作限定，本实施例中以圆形为例，进行说明。

可选的，请参照图6，至少一开孔包括一条形孔32，且条形孔32沿辅助电极30的延伸方向进行排布，以实现辅助电极30与阴极层21具有最大的接触面积。

另外，请参照图4、图7A、图7B、图7C、图7D以及图7E，在本实施例中，显示面板的制作方法包括：

提供基板40，基板40包括玻璃刚性基板或柔性基板，且柔性基板的材料包括有机树脂材料。

制备薄膜晶体管阵列层50于基板40上，且薄膜晶体管阵列层50包括薄膜晶体管器件以及包覆薄膜晶体管器件的间隔层。

制备层间绝缘层60于薄膜晶体管阵列层50上，以进一步地覆盖薄膜晶体管器件。

制备平坦层70于层间绝缘层60上，且平坦层70背向层间绝缘层60的一侧为平坦的表面。

制备像素定义层10于平坦层70上，像素定义层10包括挡墙结构11，挡墙结构11限定出多个开口区A，且挡墙结构11位于非开口区B内，非开口区B围绕开口区A设置。

通过黄光、干刻、光阻剥离等制程形成贯穿平坦层70以及层间绝缘层60的过孔。

制备金属层于像素定义层10上，并通过黄光、蚀刻等工艺对金属层进行图案化处理，以形成图案化的电极层，电极层包括形成位于开口区A内的阳极22，以及位于非开口区B内的辅助电极30。辅助电极30位于挡墙结构11上表面，可选的，金属层包括ITO/Ag/ITO的层叠结构。其中，阳极22通过过孔与薄膜晶体管阵列层50中的薄膜晶体管器件电性连接。

制备间隔部12于挡墙结构11上，且间隔部12覆盖辅助电极30。可选的，间隔部12的材料与挡墙结构11的材料相同，可为有机光阻材料。

于间隔部12背向挡墙结构11的一侧开设至少一开孔，且至少一开孔暴露辅助电极30的部分上表面。

制备有机发光层23于开口区A内，且有机发光层23位于阳极22上。

制备阴极层21于像素定义层10上，且阴极层21连续地覆盖有机发光层23、挡墙结构11以及间隔部12，阴极层21通过至少一开孔与辅助电极30搭接，以实现阴极层21与辅助电极30并联。

承上，本发明实施例通过在像素定义层10的非开口区B内设置辅助电极30，且辅助电极30与阴极层21并联，可以有效地降低阴极层21的电阻，可以改善显示面板的电压降现象，进而可以提高显示面板的显示均一性。辅助电极30设置于非开口区B内，进而不会影响占用开口区A的面积和空间，提高了显示面板的开口率，进一步地提高了显示面板的显示效果。此外，辅助电极30与阳极22在同一制程中形成，进而可以缩减工艺工序，节省工艺成本。

在本发明实施例中，显示面板包括多个辅助电极30，且每一辅助电极30对应至少一开口区A设置，且每一辅助电极30与其对应的至少一开口区A相邻设置。

可选的，请参照图5以及图6，多个辅助电极30与多个开口区A一一对应设置，以对应每个开口区A均设置一个辅助电极30与其相邻，即针对每个像素均设置一辅助电极30与阴极层21并联，以有效地降低阴极层21的电阻，改善电压降现象，提高显示面板的显示均一性。

可选的，每多个开口区A对应设置一个辅助电极30，具体地，可2个开口区A对应设置一个辅助电极30，且辅助电极30位于两个开口区A之间；可3个开口区A对应设置一个辅助电极30，且辅助电极30与位于中间一个开口区A相邻设置。且每个辅助电极30对应的开口区A的数量不作限定。

可选的，请参照图8，显示面板包括显示区C以及围绕显示区C的非显示区D，且多个辅助电极30均匀分布于显示区C内。

可选的，请参照图9，显示面板包括显示区C以及围绕显示区C的非显示区D，在沿非显示区D指向显示区C的方向上，多个辅助电极30的分布密度递增。

进一步地，多个辅助电极30的分布情况，还可以为阴极层21的电阻较大处的辅助电极30的分布密度大于阴极层21的电阻较小处的辅助电极30的分布密度，在此不作限定。

另外，本发明实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括上述实施例所述的显示面板，其结构以及制作方法均与上述实施例中相同，在此不再赘述。

显示装置包括智能手环、智能手表、虚拟现实(Virtual Reality，VR)等可穿戴设备；显示装置还包括移动电话机、电子书、电子报纸、电视机、个人便携电脑、可折叠以及可卷曲OLED等柔性显示及照明设备。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及其制作方法、显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。