减反射膜的制备方法、压模和减反射膜

技术领域

本申请涉及防眩光技术领域，尤其涉及一种减反射膜的制备方法、压模和减反射膜。

背景技术

目前，由于外部的环境光在显示装置表面反射，强反射影响人眼视物功能，导致显示装置在应用过程中存在“眩光”现象。一般采用减反射膜来改善显示装置的“眩光”问题。

相关技术中，减反射膜的制备方法包括在基材上涂覆具有可见光固化性的树脂形成膜，利用的压模将的压模表面形状转印到该膜上形成凹凸膜，再对凹凸膜进行固化处理，从而得到减反射膜。采用此方法制备的减反射膜前，通过在铝制基材表面刻蚀出凹凸结构制备出压模，刻蚀工艺要求高，无法控制凹凸结构的尺寸、形貌等，压模制作难度高，采用才压模制备的减反射膜的反射效果不可控。

发明内容

本申请提一种减反射膜的制备方法、压模和减反射膜，以解决现有的减反射膜制作过程中压模制造难度高的技术问题。

为解决上述方案，本申请提供的技术方案如下：

第一方面的，本申请提供一种减反射膜的制备方法，包括如下步骤：

提供第一模板，所述第一模板包括平板状的主体，所述第一模板还具有多个间隔布置的第一凹陷部；

提供第一基板，并在所述第一基板表面形成材料层，所述第一基板上的图案转印至所述材料层，所述材料层形成第二模板，所述第二模板包括平板状的主体，所述第二模板具有多个间隔设置的第二凹陷部；

将所述第一模板与所述第二模板对位组装形成压模，组装过程中，所述第二模板随所述第一模板的所述第一凹陷部变形产生第三凹陷部，所述第二凹陷部在所述压模上的密度大于所述第三凹陷部在所述压模上的密度；

提供一基材，将所述压模上的所述第二凹陷部和所述第三凹陷部转印至所述基材上，形成减反射膜。

可选的，还包括如下步骤，制备所述第一模板，具体步骤为：

提供第二基板，并在所述第二基板表面形成材料层，所述第二基板上的图案转印至所述材料层，所述材料层形成所述第一模板。

可选的，还包括如下步骤，采用刻蚀工艺制备所述第二基板，所述第二基板表面具有多个第一凸起部，所述第一凸起部与所述第一凹陷部对应。

可选的，还包括如下步骤，采用刻蚀工艺制备所述第一基板，所述第一基板表面具有多个第二凸起部，所述第二凸起部与所述第二凹陷部对应。

可选的，所述刻蚀工艺为激光刻蚀、离子束刻蚀或者电子束刻蚀。

可选的，采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料在所述第一基板或第二基板表面形成所述材料层。

可选的，还包括如下步骤：

采用固化材料，对转印后的所述基材表面进行固化处理。可选的，所述第二模板与所述第一模板采用真空压缩的方式连接。

第二方面的，本申请实施例提供一种压模，包括：

第一模板，包括平板状的主体，所述第一模板的表面设有多个间隔布置的第一凹陷部；

第二模板，包括平板状的主体，所述第二模板的表面设有多个间隔布置的第二凹陷部，所述第二模板与第一模板对位连接，所述第二模板随所述第一模板的所述第一凹陷部变形产生第三凹陷部，所述第二凹陷部的尺寸小于所述第三凹陷部的尺寸，所述第一凹陷部的数量多于所述第三凹陷部的数量。

可选的，所述第一模板靠近所述第一凹陷部的一侧面与所述第二模板背离所述第二凹陷部的一侧面胶粘连接。

可选的，所述第一模板采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料制备而成；

和/或，与所述第二模板采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料制备而成。

第三方面的，本申请实施例提供一种减反射膜，采用上述所述的减反射膜的制备方法制备获得，包括：

基材；

多个防眩凸起，设置于间隔设置于所述基材的表面；

多个蛾眼凸起，间每个所述防眩凸起的表面间隔设有多个所述蛾眼凸起，相邻所述防眩凸起之间的所述基材间隔设有多个所述蛾眼凸起。

可选的，所述防眩凸起尺寸在1-5μm之间；和/或，所述蛾眼凸起的尺寸在10-100nm之间。

可选的，所述基材的材质为涤纶树脂、醋酸三纤维素、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚乙烯和聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰胺或其他硬化类树脂。

有益效果：本申请公开了一种减反射膜的制备方法、压模和减反射膜，通过转印制备第二模板，第一模板上布置多个第一凹陷部，第二模板上布置有第二凹陷部，第一模板与第二模板对位组装出压模，组装过程中第二模板随第一模板的第一凹陷部变形形成第三凹陷部，通过转印法对压模进行转印形成减反射膜，第二凹陷部形成减反射膜的蛾眼凸起，第三凹陷部形成减反射膜的防眩凸起，减反射膜的制备工艺简单，制作难度低，克服了现有的减反射膜制作过程中压模制造难度高的技术问题，第一模板上的第一凹陷部和第二模板上的第二凹陷部的形状、尺寸可控，制备出的减反射膜上的蛾眼凸起和防眩凸起的形状、尺寸也可控，从而生产出减反效果优良的减反射膜。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本申请实施例提供的压模的截面示意图。

图2为本申请实施例提供的压模的第一模板的截面示意图。

图3为本申请实施例提供的压模组装前的第二模板的截面示意图。

图4为本申请实施例提供的第二基板的截面示意图。

图5为本申请实施例提供的第一基板的截面示意图。

图6为本申请实施例提供的减反射膜的局部结构示意图。

图7为本申请实施例提供的减反射膜的防眩凸起的侧视图。

图8为本申请实施例提供的减反射膜的防眩凸起的俯视图。

图9为本申请实施例提供的压模的制备方法流程图。

图10为本申请实施例提供的减反射膜的制备方法流程图。

图11为本申请又一实施例提供的减反射膜的制备方法流程图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

请参阅图1、图2和图3，图1为本申请实施例提供的压模的截面示意图，图2为本申请实施例提供的压模的第一模板的截面示意图，图3为本申请实施例提供的压模组装前的第二模板的截面示意图。

本申请实施例提供一种压模，用于制备减反射膜10，压模包括第一模板100和第二模板200，第一模板100和第二模板200均为平板状结构，可以为矩形平板，第一模板100具有相对设置的第一侧面120和第二侧面130，第二侧面130上设有多个间隔布置的第一凹陷部110，第二模板200具有相对设置的第三侧面230和第四侧面240，第四侧面240上设有多个间隔布置的第二凹陷部210，第二凹陷部210的尺寸小于第一凹陷部110的尺寸，第二凹陷部210的数量多于第一凹陷部110的数量，第二模板200与第一模板100对位连接，第一模板100的第二侧面130与第二模板200的第三侧面230贴合，第二模板200随第一模板100的第一凹陷部110变形产生第三凹陷部220，第三凹陷部220从第四侧面240向第一侧面120凹陷，第三凹陷部220的数量与第一凹陷部110的数量一致。

请参阅图6、图7和图8，图6为本申请实施例提供的减反射膜的局部结构示意图，图7为本申请实施例提供的减反射膜的防眩凸起的侧视图，图8为本申请实施例提供的减反射膜的防眩凸起的俯视图。

可以理解的，请参阅图2和图3，本申请的第一模板100和第二模板200均为平板状结构，在第一模板100上加工出第一凹陷部110，第一凹陷部110为半球形，在第二模板200上加工出第二凹陷部210，第二凹陷部210为半球形或锥形，第二模板200随第一模板的第一凹陷部110形变形成第三凹陷部220，第一模板100和第二模板200的制备方法简单，第一模板100的第一凹陷部110的形貌、尺寸可控，第二模板200上的第二凹陷部210的形貌尺寸可控，第二模板200根据第一凹陷部110变形形成的第三凹陷部220的形貌和尺寸也可控。通过该压模制备出的减反射膜的形貌和尺寸可控，能够生产出减反效果优良的减反射膜。

为了实现第二模板200适应第一模板100的第一凹陷部110的变形，第二模板200的材料应当具有一定的变形能够，避免第二模板200变形过程中，第二凹陷部210变形，保证第二凹陷部210的形貌和尺寸。

在一些实施方式中，第一模板100靠近第一凹陷部110的一侧面与第二模板200背离第二凹陷部210的一侧面胶粘连接。

第一模板100上的第一凹陷部110从第二侧面130向第一侧面120方向凹陷，第二模板200上的第二凹陷部210从第四侧面240向第三侧面230方向凹陷，在第一模板100的第二侧面130涂覆胶水，将第一模板100的第二侧面130与第二模板200的第三侧面230胶粘连接，第一模板100与第二模板200对位组装过程中，使用真空压缩的方式使第二模板200随第一模板100的第一凹陷部110变形产生第三凹陷部220。第一模板100与第二模板200采用胶粘连接，便于压模组装操作。

在一些实施方式中，第一模板100采用聚二甲基硅氧烷(PDMS)材料或者光固化类树脂材料制备而成；和/或，与第二模板200采用聚二甲基硅氧烷(PDMS)材料或者光固化类树脂材料制备而成。

其中，聚二甲基硅氧烷是一种疏水类的有机硅物料，聚二甲基硅氧烷的化学状态二甲基硅油，根据相对分子质量的不同，外观由无色透明的挥发性液体至极高黏度的液体或硅胶，无味，透明度高，具有耐热性、耐寒性、黏度随温度变化小、防水性、表面张力小、具有导热性，导热系数为0.134-0.159W/(m·K)，透光性为透光率100％，二甲基硅油无毒无味，具有生理惰性、良好的化学稳定性。光固化类树脂材料可以为柔性树脂，柔性树脂具有塑形好，表面平整度高的特点。

请参阅图9，图9为本申请实施例提供的压模的制备方法流程图。

本申请实施例提供一种压模的制备方法，包括如下步骤：

S1，提供第一模板100，第一模板100包括平板状的主体，第一模板100还具有多个间隔布置的第一凹陷部110；

请参阅图2，S1步骤制备的第一模板100的结构示意图，第一模板100的主体为平板状结构，第一模板100的第二侧面130上设置有多个间隔布置的第一凹陷部110，第一凹陷部110为半球形，第一凹陷部110的尺寸在5-8μm，可以为5μm、6μm、7μm或8μm，在平板状的第一模板100上加工出第一凹陷部110较为容易，第一凹陷部110的形状和尺寸可控。

S2，提供第一基板400，并在第一基板400表面形成材料层，基板400上的图案转印至材料层，材料层形成第二模板200，第二模板200包括平板状的主题，第二模板200还具有多个间隔设置的第二凹陷部210；

请参阅图5，图5为本申请实施例提供的第一基板400的截面示意图。

第一基板400为平板，第一基板400的表面设有多个纳米级别的第二凸起部410，第一基板400由硬质板材制备而成。

请参阅图3，S2步骤制备的第二模板200的结构示意图，第二模板200包平板状的主体，第二模板200的第四侧面240形成多个间隔布置的第二凹陷部210，第二凹陷部210为半球形、锥形或矩形等，第二凹陷部210的尺寸在10-100nm之间，可以为10nm、20nm、30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm或100nm，通过转印的方式，制备出第二模板200上的纳米级别的第二凹陷部210较为容易，第二凹陷部210的形状和尺寸可控，加工工艺简单。

S3，将第一模板100与第二模板200对位组装形成压模，在组装过程中，第二模板200随第一模板100的第一凹陷部110变形产生第三凹陷部220，第二凹陷部210在压模上的密度大于第三凹陷部220在压模上的密度。

请参阅图1，第一模板100与第二模板200对位组装过程中，第二模板200随第一模板100的第一凹陷部110变形，第二模板200与第一凹陷部110对应的位置处形成第三凹陷部220，第三凹陷部220的形状与第一凹陷部110的形状相同，可以为半球形或锥形，在第二模板200上加工出第三凹陷部220的加工方式简单，第一凹陷部110的形状尺寸决定了第三凹陷部220的形状尺寸，在第一凹陷部110的形状尺寸可控的情况下，第三凹陷部220的形状尺寸可控。

可以理解的，本申请实施例中先提供平板状的第一模板100和第二模板200，再将第一模板100与第二模板200组装，第二模板200在组装过程中形成第三凹陷部220，相较于相关技术中，通过电化学腐蚀法在铝制板材腐蚀制备的压模来说，本申请实施例的制备方法更简单，制备过程中的第二凹陷部210和第三凹陷部220的形状尺寸可控，灵活性好，可以实现定制化的减反射膜10生产，压模的制造工艺简单。

在一些实施方式中，S1步骤之前，制备第一模板100，具体包括如下步骤：

提供第二基板300，并在第二基板300表面形成材料层，第二基板300上的图案转印至所述材料层，材料层形成所述第一模板100。

请参阅图4，图4为本申请实施例提供的第二基板300的截面示意图。

第二基板300为平板，第二基板300的表面设有多个纳米级别的第一凸起部310，第一凸起部310可以形成第一凹陷部110，第二基板300由硬质板材制备而成，避免第二基板300变形。

请参阅图2，第一模板100为平板状，第一模板100的第二侧面130形成多个间隔布置的第一凹陷部110，第一凹陷部110为半球形或锥形等，通过转印的方式，制备出第一模板100上的微米级别的第一凹陷部110较为容易，第二凹陷部210的形状和尺寸可控，加工工艺简单。

在其他实施方式中，第一模板100也可以采用硬质板材制备而成，第一凹陷部110采用激光刻蚀或电化学腐蚀的方式加工。

在一些实施方式中，还包括如下步骤：

采用刻蚀工艺制备第二基板300，第二基板300表面具有多个第一凸起部310，第一凸起部310与第一凹陷部110对应。

请参阅图4，第二基板300为平板状结构，第二基板300采用硅基板制备而成。采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料在第二基板300的表面进行固化处理，制备出第一模板100，第一凸起部310形成第一模板100上的多个第一凹陷部110。第二基板300上的第一凸起部310的数量、形状、尺寸与第一模板100上的第一凹陷部110的数量、形状、尺寸相同，第一凸起部310可以为半球形或锥形，以半球形为例第一凸起部310的尺寸在5-8μm，可以为5μm、6μm、7μm或8μm，第二基板300的加工工艺简单，第一凸起部310的形状、尺寸可控，方便加工。

在一些实施方式中，还包括如下步骤，

采用刻蚀工艺制备第一基板400，第一基板400表面具有多个第二凸起部410，第二凸起部410与第二凹陷部210对应。

请参阅图5，第一基板400为平板结构，第一基板400采用硅基板制备而成。采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料在第一基板400的表面进行固化处理，制备出第二模板200，第二凸起部410形成第二模板200上的多个第二凹陷部210。第一基板400上的第二凸起部410的数量、形状、尺寸与第二模板200上的第二凹陷部210的数量、形状、尺寸相同，第二凸起部410为半球形、锥形或矩形，以半球形为例，第二凸起部410的尺寸在10-100nm之间，可以为10nm、20nm、30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm或100nm。第一基板400的制作工艺简单，第二凸起部410的形状、尺寸可控，方便加工。

在上述实施方式的基础上，刻蚀工艺为激光刻蚀、离子束刻蚀或者电子束刻蚀。

通过激光刻蚀、离子束刻蚀或者电子束刻蚀等高精度刻蚀工艺的方式在第二基板300上刻蚀出第一凸起部310和第一基板400上刻蚀出第二凸起部410，第一凸起部310和第二凸起部410的形状、尺寸可控，相较于湿法刻蚀，采用激光刻蚀、离子束刻蚀或者电子束刻蚀等刻蚀工艺简单，可操作性好，精度高。

在上述实施方式的基础上，采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料在第二基板300表面形成第一模板100的材料层；和/或，采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料在第一基板400表面形成第二模板200的材料层。

在第二基板300和第一基板400的表面涂覆聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材，固化处理后，制备出第一模板100和第二模板200，第一模板100和第二模板200的结构稳定性好，二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材具有一定的变形能力，第一模板100与第二模板200组装过程中，有利于第二模板200变形，形成第三凹陷部220，防止组装过程中第二凹陷部210变形，保证了第二凹陷部210和第三凹陷部220的精度，提高了压模的精度。

在上述实施方式中，采用真空压缩的方式将第二模板200与第一模板100连接。

第二模板200与第一模板100采用真空压缩方式连接，有利于第二模板200沿第一模板100的第一凹陷部110的边缘变形，形成与第一凹陷部110契合的第三凹陷部220，无需使用其他工装模具，压模的组装操作方便，加工成本低。

请参阅图10，图10为本申请实施例提供的减反射膜的制备方法流程图。

本申请实施例提供一种减反射膜的制备方法，包括：

S1，提供第一模板100，第一模板100包括平板状的主体，第一模板100还具有多个间隔布置的第一凹陷部110；

S2，提供第一基板400，并在第一基板400表面形成材料层，基板400上的图案转印至材料层，材料层形成第二模板200，第二模板200包括平板状的主题，第二模板200还具有多个间隔设置的第二凹陷部210；

S3，将第一模板100与第二模板200对位组装形成压模，在组装过程中，第二模板200随第一模板100的第一凹陷部110变形产生第三凹陷部220，第二凹陷部210在压模上的密度大于第三凹陷部220在压模上的密度；

S4，提供一基材11，将压模上的第二凹陷部210和第三凹陷部220转印至基材11上，形成减反射膜。

可以理解的，压模的第四侧面240与基材11表面贴合，将压模的第四侧面的形状转印在基材11表面，第二凹陷部210转印在基材11表面形成蛾眼凸起13，第三凹陷部220转印在基材11表面转印形成防眩凸起12，制备出减反射膜。减反射膜10包括基材11、多个防眩凸起12和多个蛾眼凸起13，减反射膜10的加工工艺简单，由于第二凹陷部210和第三凹陷部220的形状、尺寸可控，对应的，蛾眼凸起13和防眩凸起12的形状、尺寸可控。通过两次转印制备出减反射膜10，减反射膜10加工工艺简单，加工难度低。且减反射膜10上的防眩凸起12和蛾眼凸起13的尺寸形状可控，可以控制减反射膜10表面的粗糙度、精细度、段差、内外雾度，设计灵活，提高减反射膜10的减反效果。

请参阅图11，图11为本申请又一实施例提供的减反射膜的制备方法流程图。

在上述实施方式的基础上，减反射膜的制备方法，还包括如下步骤：

S5，采用固化材料，对转印后的基材11表面进行固化处理。

采用固化树脂进行固化处理，提高减反射膜10稳定性和强度。固化材料可使用各种UV固化树脂，其中预聚物可选择聚酯类丙烯酸数脂，其他还有环氧类丙烯酸树脂，聚氨酯类丙烯酸树脂，聚醚类丙烯酸树脂等，另外，固化材料中还有光引发剂，抗污助剂等其他添加剂。

在一些实施方式中，在S1步骤之前，制备第一模板100，具体包括如下步骤：

提供第二基板300，并在第二基板300表面形成材料层，第二基板300上的图案转印至所述材料层，材料层形成所述第一模板100。

在一些实施方式中，还包括如下步骤：

采用刻蚀工艺制备第二基板300，第二基板300表面具有多个第一凸起部310，第一凸起部310与第一凹陷部110对应。

在一些实施方式中，还包括如下步骤：

采用刻蚀工艺制备第一基板400，第一基板400表面具有多个第二凸起部410，第二凸起部410与第二凹陷部210对应。

在上述实施方式的基础上，刻蚀工艺为激光刻蚀、离子束刻蚀或者电子束刻蚀。

在上述实施方式的基础上，采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料在第二基板300表面形成第一模板100的材料层；和/或，采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料在第一基板400表面形成第二模板200的材料层。

请参阅图6、图7和图8，图6为本申请实施例提供的减反射膜的局部结构示意图。图7为本申请实施例提供的减反射膜的防眩凸起的侧视图。图8为本申请实施例提供的减反射膜的防眩凸起的俯视图。

本申请实施例提供一种减反射膜10，采用上述的减反射膜的制备方法制备获得。

减反射膜10包括基材11、多个防眩凸起12和多个蛾眼凸起13，基材11的表面设有多个防眩凸起12，多个防眩凸起12可以规则排布，如沿第一方向和第二方向呈矩阵排列，防眩凸起12起到防眩功能，防眩凸起12上设有多个蛾眼凸起13，单个防眩凸起12上的多个蛾眼凸起13可以规则排布，如沿防眩凸起12的表面呈矩阵排列，相邻防眩凸起12之间的基材11上设有多个蛾眼凸起13，相邻防眩凸起12之间的基材11的多个蛾眼凸起13可以规则排布，如沿第一方向和第二方向呈矩阵排列，蛾眼凸起13起到防反射功能。

在一些实施方式中，防眩凸起12的尺寸在1-5μm之间；和/或，眼凸起13的尺寸在10-100nm之间。

可以理解的，防眩凸起12的数量少于蛾眼凸起13的数量，防眩凸起12的尺寸大于蛾眼凸起13的尺寸，防眩凸起12的尺寸是指防眩凸起12位于基材11上的轮廓的直径，蛾眼凸起13的尺寸是指蛾眼凸起13位于基材11或防眩凸起12上的轮廓的直径，防眩凸起12的尺寸在1-5μm之间，可为1μm、2μm、3μm、4μm或5μm，蛾眼凸起13的尺寸在10-100nm之间，可以为10nm、20nm、30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm或100nm。防眩凸起12的结构为半球形或圆锥形，蛾眼凸起13的结构为半球形或圆锥形。

可以理解的，位于同一基材11上的多个防眩凸起12的尺寸、形状可以各不相同，位于同一基材11上的蛾眼凸起13的尺寸、形状可以各不相同。

在一些实施方式中，基材11选自常用的具有高透光率的高分子材料，例如涤纶树脂(PET)、醋酸三纤维素(TAC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)、聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)和聚氯乙烯(PVC)、聚碳酸酯(PC)、聚酰胺(PA)或其他硬化类树脂。

本申请实施例提供一种显示面板，包括上述的减反射膜10，显示面板可以液晶显示面板、OLED显示面板、LED显示面板、Micro-LED显示面板、Mini-LED等显示面板。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种减反射膜的制备方法、压模和减反射膜进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。