一种光学膜涂布的精密微调机构

技术领域

本发明涉及光学膜涂布机零部件领域，特别涉及一种光学膜涂布的精密微调机构。

背景技术

光学膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。涂布机主要用于薄膜、纸张等的表面涂布工艺生产，此机是将成卷的基材涂上一层特定功能的胶、涂料或油墨等，并烘干后收卷。它采用专用的多功能涂布头，能实现多种形式的表面涂布产生，涂布机的收放卷均配置全速自动接膜机构，PLC程序张力闭环自动控制。涂布头与背辊之间的间隙对涂布效果具有非常大的影响，现有涂布机多数采用螺杆直顶方式或螺杆带动楔形块的方式调整模头和背辊间隙，精度较差且由于摩擦系数较大，难以实现在线调整间隙。

发明内容

本发明的目的是提供一种光学膜涂布的精密微调机构，其优点在于能高精度在线调整模头间隙。

本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种光学膜涂布的精密微调机构，包括安装板、侧板、顶板、底板、前支撑板和后支撑板，其中侧板、顶板、底板、前支撑板和后支撑板组成箱体结构，箱体结构安装在安装板上，箱体结构中转动连接有丝杆，所述丝杆上螺纹连接有螺母，螺母通过螺钉固定有下楔形块，箱体结构上活动设置有上楔形块，所述上楔形块的下斜面与下楔形块上斜面相接触。

进一步的，所述上楔形块与下楔形块的接触位置设置有若干第一滚针轴承。

进一步的，所述丝杆上套设有第一弹簧，所述第一弹簧与下楔形块相抵。

进一步的，所述上楔形块与顶板之间上设置有若干第二弹簧。

进一步的，所述丝杆的一端伸出前支撑板并且其上固定有手柄。

进一步的，所述底板上安装有若干第二滚针轴承，第二滚针轴承与下楔形块的底面接触。

综上所述，本发明具有以下有益效果：

1.在使用的时候，转动手柄带动丝杆转动，螺母带动下楔形块左右移动，随之带动上楔形块上下移动，继而带动上楔形块的摸头上下运动，完成调节间距的功能，可以实现高精度的模头间隙调整；

2.传动部分为滚动摩擦，摩擦力小，减少模头运动受到的阻碍；

3.结构紧凑，体积小，占有工作空间小，方便在光学膜涂布设备中安装使用。

附图说明

图1是光学膜涂布的精密微调机构的结构示意图；

图2是光学膜涂布的精密微调机构的剖视结构示意图。

图中，1、安装板；2、手柄；3、侧板；4、顶板；5、后支撑板；6、前支撑板；7、底板；8、第一滚针轴承；9、下楔形块；10、螺母；11、丝杆；12、第一弹簧；13、上楔形块；14、第二弹簧；15、模头；16、第二滚针轴承。

具体实施方式

以下结合附图对本发明作进一步详细说明。

其中相同的零部件用相同的附图标记表示。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“底面”和“顶面”、“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。

实施例：一种光学膜涂布的精密微调机构，结合图1和图2所示，包括安装板1、侧板3、顶板4、底板7、前支撑板6和后支撑板5，其中侧板3、顶板4、底板7、前支撑板6和后支撑板5组成箱体结构，箱体结构安装在安装板1上。

如图2所示，底板7朝内的一面上安装有若干第二滚针轴承16。

如图2所示，箱体结构中转动连接有丝杆11，丝杆11位于箱体中的端部螺纹连接有螺母10，丝杆11的母具有自锁功能，杆的另一端伸出前支撑板6并且其上固定有手柄2，通过转动手柄2带动丝杆11转动。丝杆11上套设有第一弹簧12。

如图2所示，箱体结构中安装有可以左右运动的下楔形块9，下楔形块9的底面与第二滚针轴承接触，下楔形块9与螺母10螺丝固定，下楔形块9与第一弹簧12相抵。在工作的时候，转动手柄2带动丝杆11转动，进而驱使螺母10沿丝杆11轴向做左右移动，第一弹簧12使用处于压缩状态具有回弹的运动趋势，方便下楔形块9复位。

如图2所示，箱体结构中安装有上楔形块13，上楔形块13的顶部设置有圆台形的模头15，上楔形块13的下斜面与下楔形块9上斜面相接触，当下楔形块9做左右移动的时候驱使上楔形块13做上下移动。上楔形块13与下楔形块9的接触位置设置有若干第一滚针轴承8，第一滚针轴承8主要用于减少上楔形块13与下楔形块9摩擦阻力，第一滚针轴承8和第二滚针轴承16配合作用，减轻零件损耗。

如图2所示，上楔形块13与顶板4之间上设置有若干第二弹簧14，上楔形块13向上运动第二弹簧14受到挤压，当上楔形块13向下运动，第二弹簧14回弹有利于驱使上楔形块13快速复位。

具体实施过程：在使用的时候，转动手柄2带动丝杆11转动，螺母10带动下楔形块9左右移动，随之带动上楔形块13上下移动，继而带动上楔形块13的摸头上下运动，完成调节间距的功能，能够实现微米级精度调整。

本具体实施例仅仅是对本发明的解释，其并不是对本发明的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。