一种光学薄膜的镀膜制备方法

技术领域

本发明涉及光学薄膜技术领域，更具体的说，尤其涉及一种光学薄膜的镀膜制备方法。

背景技术

光学薄膜是由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。

主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。它们在国民经济和国防建设中得到了广泛的应用，获得了科学技术工作者的日益重视。

镀膜材料制备的主要方法可概括为：

1、湿法(水法)制备工艺：酸(碱)溶法、液相萃取法、分馏法、结晶法。

2、火法高温制备工艺：热还原法、物理汽相沉积(PVD)法、化学汽相沉积(CVD)法、液相外延生长法(LEC)、热等静压成型法、高温烧结法(或熔炼法)。一般材料的制备都是采用特定的湿法工艺和火法工艺相结合的方法，而且不同材料的制备工艺也有所不同。

有鉴于此，提供一种光学薄膜的镀膜制备方法，旨在通过该技术，达到解决问题与提高实用价值性的目的。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光学薄膜的镀膜制备方法，以解决上述背景技术中提出的问题和不足。

为实现上述目的，本发明提供了一种光学薄膜的镀膜制备方法，由以下具体技术手段所达成：

一种光学薄膜的镀膜制备方法，包括：S1酸分解、S2浸出、S3冷却结晶、S4浓缩、S5水解分离、S6煅烧、S7静压成型、S8低温除气、S9高温除杂、烧结；所述S1酸分解，向钛铁矿（FeTIO

由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：

本发明通过对光学薄膜的镀膜制备方法的改进，具有设计合理，制备方法较为简单，易于实现，稳定性强，成本较低，易于大批量生产的优点，从而有效的解决了本发明提出的问题和不足。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

本发明提供一种光学薄膜的镀膜制备方法的具体技术实施方案：

一种光学薄膜的镀膜制备方法，包括：S1酸分解、S2浸出、S3冷却结晶、S4浓缩、S5水解分离、S6煅烧、S7静压成型、S8低温除气、S9高温除杂、烧结；S1酸分解，向钛铁矿（FeTIO

综上所述：该一种光学薄膜的镀膜制备方法，通过对光学薄膜的镀膜制备方法的改进，具有设计合理，制备方法较为简单，易于实现，稳定性强，成本较低，易于大批量生产的优点，从而有效的解决了本发明提出的问题和不足。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。