智能真空等离子清洗机

技术领域

本发明涉及等离子清洗机技术领域，具体为智能真空等离子清洗机。

背景技术

智能真空等离子清洗机也叫等离子表面处理仪，其工作中可以产生大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面，提高固体表面的润湿性能，常用于半导体领域，可对引线框架、PCB板、晶圆、陶瓷等材料进行清洗。

现有技术中，如公开号为CN112296026A的一种等离子清洗机，其包括机壳、真空腔体、温度探头、托盘和电极板，真空腔体安装于机壳上，真空腔体上设有抽气管口和进气管；多个电极板安装于真空腔体内，任意两个电极板之间设有一个托盘；电极板上设有冷却管道，温度探头设于电极板上并伸入冷却管道，通过将托盘设于两个电极板之间，使得托盘的上方和下方都能够靠近经电极板电离产生的等离子体，有利于均匀地清洗工件的表面；在多个电极板上分别设置冷却管道，能够防止真空腔体内各个区域的温度过高导致工件表面处理效果不均匀；温度探头能够实时监测真空腔体内的温度，温度探头配合冷却管道可使真空腔体内的各个区域均能保持良好的工作温度。

但是其在使用过程中，工件直接放置于托盘上方，使得工件与托盘的接触面和摆放位置固定，从而使得工件无法与腔体内的等离子进行充分接触，从而使得工件的表面处理均匀性有限，存在着一定的使用缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提供智能真空等离子清洗机，以解决上述背景技术提出的目前市场上等离子清洗机工件直接放置于托盘上方，使得工件与托盘的接触面和摆放位置固定，从而使得工件无法与腔体内的等离子进行充分接触，从而使得工件的表面处理均匀性有限的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：智能真空等离子清洗机，包括机体、腔壳和射频发射器，所述机体的内侧安装有腔壳和射频发射器，所述腔壳的前侧铰接有密封门，且所述密封门上安装有观察窗，同时腔壳的下表面固定安装有电机；

还包括：托盘、电极板，拆卸安装于腔壳的内侧，所述托盘上转动安装有齿轮，且所述托盘上还转动安装有旋转件，用来驱动工件旋转；

衔接组件，设置于电极板上，用来实现相邻齿轮之间的衔接联动；

支撑组件，设置于托盘、电极板之间，实现对工件的有效支撑。

优选的，所述腔壳的内壁安装有屏蔽板，且所述屏蔽板的内侧均匀开设有滑槽，所述托盘、电极板两者的外侧均固定安装有滑块，且所述滑块与滑槽滑动连接，并且滑块为导热材料。

通过采用上述技术方案，使得托盘、电极板可以通过滑块在腔壳的内侧进行抽拉，从而便于对工件进行放置，同时通过改变托盘的数量和位置，可以确保托盘放置不同体积工件。

优选的，所述衔接组件包括转动安装于电极板上的衔接轴，且所述衔接轴的上端与其上方的齿轮的轴部下端相接触吸附，并且衔接轴的下端连接有伸缩杆，同时所述伸缩杆的下端与其下方的齿轮的轴部上端相接触吸附，而且最下层电极板上的伸缩杆的下端与电机的输出端贴合吸附，所述衔接组件和齿轮传动连接。

通过采用上述技术方案，使得电机启动时，其可以通过衔接组件带动多个齿轮进行同步旋转，进而为后续工件位置的调节进行驱动。

优选的，所述衔接轴和伸缩杆构成滑动结构，且所述伸缩杆的上端外壁设置有连接键，并且衔接轴、伸缩杆之间连接有第一弹簧。

通过采用上述技术方案，当相邻托盘距离较远时，可以通过伸缩调节衔接轴和伸缩杆，实现相邻齿轮之间的衔接传动。

优选的，所述旋转件嵌入安装于托盘上，且旋转件的上端外侧固定安装有齿环，并且所述齿环与齿轮啮合连接。

通过采用上述技术方案，使得齿轮旋转时，可以通过啮合作用带动旋转件进行同步旋转，使得旋转件可以对工件位置进行调节。

优选的，所述支撑组件包括均匀设置于托盘下方的分为2组的6个托架，且所述托架上均匀设置有支撑架，并且所述支撑架贯穿旋转件上方的通孔，同时支撑架贴合支撑工件。

通过采用上述技术方案，使得托架上的支撑架可以对工件进行支撑，避免工件与旋转件接触面积过多而导致清洗不充分，提高设备的清洗效果。

优选的，所述支撑组件还包括固定安装于电极板上表面的托举件，且所述托举件呈环形结构设置，并且所述托举件上均匀开设有沉降槽，同时沉降槽的槽边设置有倒角，同时托举件与托架相贴合接触，而且所述托架与旋转件的下表面之间连接有复位弹性件。

通过采用上述技术方案，使得旋转件带动托架进行旋转时，可以使得2组托架会间歇交替进入沉降槽中进行滑动，从而使得2组托架上的支撑架可以对工件进行间歇支撑，从而避免工件的同一位置始终被支撑而导致无法充分清洗，进一步提高清洗效果。

优选的，所述支撑架的腔体内侧伸缩设置有拉杆，且所述拉杆的下端固定安装有第一磁片，所述电极板的上表面均匀固定安装有第二磁片，且第二磁片与沉降槽位置交错设置，并且所述第二磁片在第一磁片的运动轨迹上且两者磁极相反。

通过采用上述技术方案，使得托架脱离沉降槽时，第一磁片会靠近第二磁片，使得两者产生磁力吸附，从而使得托架上升时，支撑架和拉杆进行伸缩调节。

优选的，所述拉杆的上端固定安装有活塞片，且所述活塞片的外壁密封贴合支撑架的内壁，并且活塞片与支撑架的内壁之间连接有第二弹簧。

通过采用上述技术方案，使得拉杆下移过程中会带动活塞片进行同步移动，使得支撑架可以对贴合支撑的工件进行吸附，避免工件在旋转调节过程中发生位置偏移而影响清洁效果。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：该智能真空等离子清洗机可以对工件进行自动固定，并且进行旋转调节，提高工件的清洁均匀性，同时可以在旋转调节过程中对工件不同位置进行交替支撑，确保了工件的全面清洁，具体内容如下；

1、设置有衔接轴、伸缩杆和旋转件，通过托盘、电极板的安装，可以使得衔接轴、伸缩杆在磁力作用下与两者上下方的齿轮进行衔接和传动，使得电机可以驱动多个齿轮进行同步旋转，进而使得齿轮通过啮合作用带动旋转件进行同步旋转，而旋转件可以对工件进行位置调节，确保工件的充分清洗；

2、设置有托架、支撑架和托举件，随着旋转件的旋转，其可以带动托架进行同步旋转，使得托架贴合托举件进行滑动，当托架经过沉降槽时，托架会带动支撑架下移，而另一组托架会带动支撑架上移，从而实现两组支撑架对工件进行交替支撑，从而避免工件单一位置被始终支撑，进而实现工件的全面清洁；

3、设置有支撑架、活塞片、第一磁片和第二磁片，随着托架的上升，可以使得第一磁片和第二磁片相互远离，从而使得第一磁片在磁力作用下带动拉杆下移，使得活塞片在支撑架的内侧进行移动，使得支撑架可以对其上方贴合支撑的工件进行吸附，进而提高工件旋转的稳定性。

附图说明

图1为本发明立体结构示意图；

图2为本发明腔壳立体结构示意图；

图3为本发明托盘和电极板安装结构示意图；

图4为本发明腔壳立体剖视结构示意图；

图5为本发明图4中A处放大结构示意图；

图6为本发明托盘和电极板立体结构示意图；

图7为本发明衔接轴立体剖视结构示意图；

图8为本发明托盘和电极板立体剖视结构示意图；

图9为本发明旋转件安装结构示意图；

图10为本发明电极板立体结构示意图；

图11为本发明托架立体剖视结构示意图。

图中：1、机体；2、腔壳；201、屏蔽板；3、密封门；4、观察窗；5、射频发射器；6、电机；7、托盘；8、电极板；9、滑槽；10、滑块；11、齿轮；12、衔接轴；13、伸缩杆；14、第一弹簧；15、旋转件；16、齿环；17、托架；18、支撑架；19、活塞片；20、第二弹簧；21、拉杆；22、第一磁片；23、托举件；24、沉降槽；25、第二磁片。

实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-图11，本发明提供一种技术方案：智能真空等离子清洗机，包括机体1、腔壳2和射频发射器5，机体1的内侧安装有腔壳2和射频发射器5，腔壳2的前侧铰接有密封门3，且密封门3上安装有观察窗4，同时腔壳2的下表面固定安装有电机6；

还包括：托盘7、电极板8，拆卸安装于腔壳2的内侧，托盘7上转动安装有齿轮11，且托盘7上还转动安装有旋转件15，用来驱动工件旋转；衔接组件，设置于电极板8上，用来实现相邻齿轮11之间的衔接联动；腔壳2的内壁安装有屏蔽板201，且屏蔽板201的内侧均匀开设有滑槽9，托盘7、电极板8两者的外侧均固定安装有滑块10，且滑块10与滑槽9滑动连接，并且滑块10为导热材料。衔接组件包括转动安装于电极板8上的衔接轴12，且衔接轴12的上端与其上方的齿轮11的轴部下端相接触吸附，并且衔接轴12的下端连接有伸缩杆13，同时伸缩杆13的下端与其下方的齿轮11的轴部上端相接触吸附，而且最下层电极板8上的伸缩杆13的下端与电机6的输出端贴合吸附，衔接组件和齿轮11传动连接。衔接轴12和伸缩杆13构成滑动结构，且伸缩杆13的上端外壁设置有连接键，并且衔接轴12、伸缩杆13之间连接有第一弹簧14。旋转件15嵌入安装于托盘7上，且旋转件15的上端外侧固定安装有齿环16，并且齿环16与齿轮11啮合连接。

如图1-图7所示，将工件放置于托盘7的上方，使得工件与支撑架18进行接触支撑，并将托盘7和电极板8通过滑槽9推入腔壳2中，使得衔接轴12、伸缩杆13进行伸缩调节，使得衔接轴12、伸缩杆13分别与上下方的齿轮11的轴端进行吸附衔接，然后关闭密封门3，再启动设备实现等离子清洁，同时启动电机6，使得电机6的输出端通过衔接轴12、伸缩杆13带动多个齿轮11进行同步旋转，进而使得齿轮11与齿环16啮合连接，进而带动旋转件15进行同步旋转，使得旋转件15带动其上方的工件进行同步旋转，进而对工件进行均匀清洁。

支撑组件，设置于托盘7、电极板8之间，实现对工件的有效支撑。支撑组件包括均匀设置于托盘7下方的分为2组的6个托架17，且托架17上均匀设置有支撑架18，并且支撑架18贯穿旋转件15上方的通孔，同时支撑架18贴合支撑工件。支撑组件还包括固定安装于电极板8上表面的托举件23，且托举件23呈环形结构设置，并且托举件23上均匀开设有沉降槽24，同时沉降槽24的槽边设置有倒角，同时托举件23与托架17相贴合接触，而且托架17与旋转件15的下表面之间连接有复位弹性件。支撑架18的腔体内侧伸缩设置有拉杆21，且拉杆21的下端固定安装有第一磁片22，电极板8的上表面均匀固定安装有第二磁片25，且第二磁片25与沉降槽24位置交错设置，并且第二磁片25在第一磁片22的运动轨迹上且两者磁极相反。拉杆21的上端固定安装有活塞片19，且活塞片19的外壁密封贴合支撑架18的内壁，并且活塞片19与支撑架18的内壁之间连接有第二弹簧20；

如图8-图11，随着旋转件15的旋转，其下方的两组托架17会贴合于支撑架18进行滑动，使得两组托架17会间歇交替滑入沉降槽24中，使得两组托架17可以往复交替升降，使得支撑架18可以沿托盘7的通孔进行弹性升降调节，使得两组托架17外侧的支撑架18可以对工件不同位置进行交替支撑，从而避免工件同一位置始终受支撑而无法充分清洁，当托架17下方的第一磁片22运动至第一磁片22上方时，第一磁片22和第二磁片25会产生磁吸力，此时托架17会在托举件23导向上升时，拉杆21会拉动活塞片19在支撑架18中的腔体中进行滑动，使得支撑架18可以上方贴合的工件进行吸附，从而提高工件旋转过程中的稳定性。

综上，在使用该智能真空等离子清洗机时，首先，如图1-图11所示，将工件放置于托盘7上并推入腔壳2中，关闭密封门3后启动射频发射器5和电机6，使得对工件进行等离子清洗，而电机6会驱动多个旋转件15进行同步旋转，实现对工件位置的调节，确保工件的清洁均匀性，同时两组托架17会对工件进行交替吸附和支撑，从而避免工件同一位置被持续支撑而无法进行清洁，确保设备可以对工件进行全面清洗，有效提高了清洗效果，从而完成一系列工作。

本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。

在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。