一种抛光AG玻璃的装置、抛光方法及移载装置

技术领域

本发明涉及玻璃生产技术领域，具体为一种用于抛光AG玻璃的装置、抛光方法及移载装置。

背景技术

目前市面上流行的AG玻璃，主流工艺是采用化学蚀刻生产AG玻璃，该工艺是将AG玻璃浸泡到化学制剂中一定时间，来实现化学蚀刻，现有的化学制剂一般都是酸性物质，挥发性较强，挥发的酸雾对工作人员以及环境造成很大危害，且化学蚀刻工艺注定制剂槽无法封盖，因此化学蚀刻工艺在现有技术中只能加装空气净化装置，实现对酸雾的处理，但无法有效阻止其挥发，化学制剂的大量挥发不但造成成本的增加，还会使玻璃加工时间变长，生产效率降低。

现有的AG玻璃浸泡抛光，还没有专用的装载工具，只能一块块将玻璃浸泡然后取出，生产效率慢，劳动强度较大。

发明内容

基于上述技术缺陷，本发明提供一种用于AG玻璃抛光的装置、抛光方法以及实现AG玻璃移载的装置，解决了上述技术问题中的技术缺陷。

本发明一种抛光AG玻璃的装置，包括一溶液槽，其存储有氢氟酸抛光液；浮体，若干浮体悬浮在所述氢氟酸抛光液的液面，且至少覆盖所述氢氟酸抛光液的液面面积的90％；所述浮体位于所述氢氟酸抛光液的液面之上的高度为H1，所述浮体位于所述氢氟酸抛光液的液面之下的高度为H2，其中，H1:H2为2:1-1:2，所述氢氟酸抛光液由3份60％浓度的氢氟酸、5份水、1份90％浓度的硫酸组成；或氢氟酸30％、盐酸60％、氧化铈0.3-0.8％、其余为水组成；所述溶液槽包括外壁和内壁，所述外壁和内壁之间形成一容纳夹层，所述内壁上端开有与容纳夹层相通的泄流口，所述容纳夹层内设有一导流板，该导流板将容纳夹层分为上部和下部，所述导流板由容纳夹层中部向两侧倾斜，所述导流板最低部开有漏液口，所述导流板位于泄流口下方，所述容纳夹层下部与溶液槽相通，所述泄流口上遮盖有滤网，所述溶液槽还具有一进液管，所述进液管穿过所述外壁，伸入容纳夹层下部。

进一步，每一浮体内具有一磁体，相邻两个浮体通过磁体相互吸引贴合，该浮体采用聚四氟乙烯或聚丙烯制成，所述浮体的外表面均匀涂覆有耐腐蚀纳米层。

进一步，所述浮体包括第一浮球和第二浮球，所述第一浮球的直径小于所述第二浮球的直径，所述第一浮球中具有第一磁铁，所述第二浮球中具有第二磁铁，所述第一浮球拟设有一垂直于所述氢氟酸抛光液的液面的第一中心线，所述第二浮球拟设有一垂直于所述氢氟酸抛光液的液面的第二中心线，所述第二磁铁围绕所述第二中心线分布，所述第一中心线通过所述第一磁铁。

进一步，在平行于所述液面方向，所述第二浮球的任意截面为圆形，且所述第二浮球形成有一中心截面；所述第二浮球包括第一球体和所述第二球体，所述第一球体和所述第二球体以所述中心截面对称；所述中心截面的直径小于所述第一球体或所述第二球体所在球的直径。

进一步，所述第一球体或所述第二球体所在球的直径为15-50mm，所述第二浮球的中心截面为5-15mm。

进一步，所述浮体为圆球形时，其直径为5-20mm，所述浮体内部为中空结构，所述浮体上设有配重杆，所述配重杆与浮球采用超声波焊接或粘接，配重杆直径为2-6mm，所述配重杆的长度为5-15mm，所述配重杆为金属材质或橡胶材质。

一种抛光AG玻璃的方法，包括以下步骤：通过机械装置将多块所述AG玻璃浸没于所述溶液槽中，此时，所述浮体从所述AG玻璃的底部重新上浮至所述氢氟酸抛光液的液面；该机械装置内穿设有多条气管，所述气管的出气口位于所述托架的底部，且面向氢氟酸抛光液，该托架浸没于所述氢氟酸抛光液内时，由气管进行通气，气体由出气口排出，扰动该托架底部的氢氟酸抛光液，使滞留在托架底部的浮体移动，进而由托架底部离开，重新上浮至氢氟酸抛光液的液面；改气管内具有单向阀，所述单向阀防止氢氟酸抛光液进入气管，所述气管和单向阀由耐腐蚀材质制成；浸没所述AG玻璃10-20分钟后，将所述AG玻璃从所述溶液槽中取出，将AG玻璃移位到清洗槽中进行清洗，所述清洗槽内装有清洗液；清洗后，移位至吹风口，将AG玻璃表面风干后由托架取出存储。

一种AG玻璃移载装置，包括托架以及机械臂，所述托架安装在机械臂下方，所述托架包括一矩形框架，所述矩形框架自上而下依次设有多组支撑梁，每一组支撑梁包括两根相对设置的第一支撑梁和第二支撑梁，所述第一支撑梁和第二支撑梁侧壁上分别设有支撑块，该支撑块至少设有两块。

进一步，所述支撑块中部位置开有支撑槽，所述支撑槽内壁贴有软垫，所述软垫采用耐腐蚀橡胶制成，该AG玻璃置于所述支撑槽内，所述支撑梁设有2-6组，每一组支撑梁之间均设有间隙，所述矩形框架上部设有一根与机械臂连接的连接梁。

进一步，所述托架还包括一竖向框架，所述竖向框架顶部设有一盖板，盖板侧面开有多个矩形槽，所述竖向框架底部并列设有多根支撑杆，所述支撑杆与矩形槽一一对应，所述支撑杆设置在矩形槽正下方，每一支撑杆上端面至少设有两个支撑块，该支撑块中部位置开有支撑槽，所述支撑槽开口朝上，所述机械臂与盖板上端面连接。

有益效果，本发明相较于现有技术，具有如下显著效果：

(1)本发明的抛光AG玻璃的装置，具有一用于存储氢氟酸抛光液的溶液槽，将若干浮体覆盖在氢氟酸抛光液的液面，使其覆盖面积不小于液面总面积的90％，覆盖在液面的浮体，为氢氟酸抛光液提供遮挡，减少了氢氟酸抛光液的挥发，减少了成本投入，提高了生产效率，进而减少添加使用量，减少氢氟酸抛光液挥发对环境的污染，达到节能环保的效果。

(2)本发明的抛光AG玻璃的装置，每一浮体内具有一磁体，通过设置磁体使悬浮在液面的浮体之间产生相互的吸力，并互相靠近贴合，使浮体不会过于分散，也不会过于集中，覆盖效果好，有利于氢氟酸抛光液减少挥发。

(3)本发明的抛光AG玻璃的装置，所述浮体至少具有两种，直径较大的第一浮球体积较大，因此可接触面也较大，方便直径较小的第二浮球环绕第一浮球并贴在其表面，其贴合原理在于第一磁铁与第二磁铁之间的排列组合，使其产生相互吸引的磁场。

(4)本发明的抛光AG玻璃的装置，第一浮球和第二浮球均有一部分浸没在所述氢氟酸抛光液中，且第一浮球和第二浮球具有多种形状，形态各异的浮体适用于多种抛光场景，以提供多种选择。

(5)本发明的抛光AG玻璃的方法，AG玻璃浸没于氢氟酸抛光液内后，一部分浮体被AG玻璃同步带到氢氟酸抛光液深处，AG玻璃停止运动后，浮体由AG玻璃底部重新上浮至氢氟酸抛光液的液面，并在其氢氟酸抛光液的液面自动排列，重新将氢氟酸抛光液的液面覆盖，实现了最大程度的对氢氟酸抛光液的液面的覆盖率，放置氢氟酸抛光液挥发。

(6)本发明的AG玻璃移载装置，多块AG玻璃同时被置于为其研制的托架内，通过机械臂进行移栽，实现了对多块AG玻璃同时、同步进行化学蚀刻工艺，极大提高了生产效率，减少了人员投入，减轻了劳动强度。

附图说明

图1为本发明实施例的抛光装置结构图；

图2为本发明实施例的浮体结构图；

图3为本发明实施例的圆球形浮体连接示意图；

图4为本发明实施例的第一浮球和第二浮球连接示意图；

图5为本发明实施例的浮体磁场示意图；

图6为本发明实施例的磁体结构示意图；

图7为本发明实施例的第一磁铁结构示意图；

图8为本发明实施例的第二磁铁结构示意图；

图9为本发明实施例的托架结构图；

图10为本发明实施例的竖向框架结构图；

图11为本发明实施例的横梁结构示意图；

图12为本发明实施例的溶液槽结构示意图。

图中：1、溶液槽；11、液面；12、内壁；13、外壁；14、容纳夹层；15、泄流口；16、导流板；17、漏液口；2、浮体；21、第一浮球；22、第二浮球；23、配重杆；3、矩形框架；31、第一横梁；32、第二横梁；33、第一支撑块；34、第二支撑块；52、第三支撑块；331、支撑槽；4、AG玻璃；5、竖向框架；51、支撑杆；53、盖板；6、磁体；61、第一磁铁；62、第二磁铁。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步说明。

其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件，附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖向”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征，在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

根据图1所示的，本发明抛光AG玻璃的装置，包括用于存储氢氟酸抛光液的溶液槽1，该溶液槽1盛装一定量的存储氢氟酸抛光液后，向溶液槽1内放入若干可悬浮在液面11上的浮体2，放入的浮体2至少覆盖氢氟酸抛光液的液面11面积的90％，通过若干浮体2在其液面11形成紧密的遮盖物，使氢氟酸抛光液减少与空气的直接接触，从而实现减少氢氟酸抛光液的挥发，减少氢氟酸抛光液的补充次数及补充量，达到减少成本投入、减少劳动量的目的，由于减少了接触氢氟酸抛光液次数，进而降低了氢氟酸抛光液对人体健康的危害。

由于氢氟酸抛光液易挥发，且挥发后溶液槽1内的液位就会越来越低，当多块AG玻璃4浸没到氢氟酸抛光液中时，位于上层的AG玻璃4可能接触不到氢氟酸抛光液，进而影响AG玻璃4的生产效率；且氢氟酸抛光液挥发后，为了保证生产效率，需要工作人员驻留在一旁观察，并在其液位降低到一定值时，由人工加满氢氟酸抛光液，对工作人员的身体健康造成严重影响，具有酸性的氢氟酸抛光液挥发后也对环境造成严重污染，基于此通过放置多层浮体2，达到层叠堆积的状态，将氢氟酸抛光液的液面11完全遮盖，达到氢氟酸抛光液减少挥发的效果，进而减少了氢氟酸抛光液加液次数，提高了生产效率，减少了工作人员停留时间，保护了人员身体健康，挥发的降低，减少了对环境的污染。

具体的，通过改变浮体2重量，该浮体2在氢氟酸抛光液的液面11悬浮高度为：所述氢氟酸抛光液的液面11之上的高度为H1，所述浮体2位于所述氢氟酸抛光液的液面11之下的高度为H2，其中，H1:H2为2:1，该浮体2质量较轻，其上部在液面11露出较大部分；H1:H2为1:2，该浮体2质量较重，其上部在液面11露出较小部分，浸入氢氟酸抛光液中较大部分；H1:H2为1:1，使浮体2以液面11为中心线对称，露出液面11部分和浸入氢氟酸抛光液部分相等。

其中，所述所述氢氟酸抛光液由3份60％浓度的氢氟酸、5份水、1份90％浓度的硫酸组成；或氢氟酸30％、盐酸60％、氧化铈0.3-0.8％、其余为水组成。

如图2所示的，浮体2包括第一浮球21和第二浮球22，第一浮球21的直径小于第二浮球22的直径，通过设置不同直径的第一浮球21和第二浮球22，能够更加严密的遮盖液面11，直径较小的第一浮球21围绕在大直径的第二浮球22四周，大直径的第二浮球22起到限位定位的作用，具体的，直径较大的浮力较大，当若干第一浮球21和第二浮球22混合放入溶液槽1后，其之间会相互挤压，这时第一浮球21由于体积小，重量较轻，被挤压时，第一浮球21被自动推送到第二浮球22周围，该浮体2采用聚四氟乙烯或聚丙烯制成，所述浮体2的外表面均匀涂覆有耐腐蚀纳米层。

如图3所示的，所述浮体2为圆球形时，其直径为5-20mm，每一浮体2内具有一磁体6，相邻两个浮体2通过磁体6相互吸引贴合，具体的，通过磁力的吸引力，将两个及以上的其他浮体2吸引到一起，组成较大覆盖面。

如图4所示的，当浮体2包括第一浮球21和第二浮球22，所述第一球体或所述第二球体所在球的直径为15-50mm，所述第二浮球22的中心截面为5-15mm，第一浮球21的直径小于所述第二浮球22的直径时，直径较小的第一浮球21围绕在大直径的第二浮球22四周，且将第二浮球22四周弧面夹角位置填满，减少多个浮球贴紧后出现大空档的情况。

如图5所示的，所述浮体2为耐腐蚀材料制成的空心圆球或空心椭圆形球，每一浮体2设有一磁体6，所述磁体6用于使各浮球之间产生吸力，使各浮球之间贴合更紧密，所述浮球采用聚乙烯材料制成，若干所述浮球均匀悬浮在所述液面11上，所述磁体6为球形磁铁或矩形磁铁，所述球形磁铁或矩形磁铁置于所述浮球内部，所述球形磁铁或矩形磁铁的重量小于氢氟酸抛光液的浮力，所述磁体6为环形磁条，所述环形磁条粘连在浮球外表面的中部位置，所述环形磁条外表面，以及环形磁条边侧与浮球连接处均涂有耐腐蚀涂层。

具体的，浮体2通过设置磁体6，以实现浮体2之间的快速吸引贴紧，无需工作时，浮体2悬浮在氢氟酸抛光液的液面11，通过磁体6之间相互吸引的磁场，使浮体2紧贴在一起，形成一覆盖面，减少氢氟酸抛光液的挥发，当AG玻璃4被机械装置移栽并将其浸泡至氢氟酸抛光液时，氢氟酸抛光液的液面11的浮体2被压力打散，随着AG玻璃4向溶液槽1底部下降，一部分浮体2被动随着AG玻璃4一同下降，当下降到氢氟酸抛光液深处时，液体对浮体2产生的浮力，以及AG玻璃4下降时产生的压力迫使被带动的浮体2，向一侧运动且脱离AG玻璃4的下方，浮体2由氢氟酸抛光液内重新上浮至液面11，并再次与其他浮体2相互吸引贴紧。

如图12所示的另一实施例，所述浮体2上设有配重杆23，所述配重杆23与浮体2采用超声波焊接或粘接，配重杆23直径为2-6mm，所述配重杆23的长度为5-15mm，所述配重杆23为金属材质或橡胶材质，所述浮体2取消配备磁体时，采用设置配重杆23的方式，稳定浮体2在氢氟酸抛光液的液面11的位置，具体的浮体2上浮时，配重杆23较重，因此配重杆23位于浮体2的最下方，且垂直于液面，进而拉动所述浮体2也垂直于液面，浮体2产生的浮力大于配重杆23的重力，浮体2上浮至液面，配重杆23的重力为浮体2提供一定的拉力，使浮体2不会任意飘动，使若干浮体2紧密贴紧、密封排布于所述氢氟酸抛光液的液面11。

如图6-图8所示的，浮体2通过磁体6产生相互吸引的磁场，磁体6包括第一磁铁61和第二磁铁62，置入氢氟酸抛光液的若干浮体2在磁场的干预下互相贴紧，使其连接紧密、不会散乱，各浮体2之间的间隙小，有效的覆盖氢氟酸抛光液的液面11上，实现减少挥发的效果，其中第一浮球21内具有第一磁铁61，第二浮球22内具有第二磁铁62。

所述溶液槽1包括外壁13和内壁12，所述外壁13和内壁12之间形成一容纳夹层14，所述内壁12上端开有与容纳夹层14相通的泄流口15，所述容纳夹层14内设有一导流板16，该导流板16将容纳夹层14分为上部和下部，所述导流板16由容纳夹层14中部向两侧倾斜，所述导流板16最低部开有漏液口17，所述导流板16位于泄流口15下方，所述容纳夹层14下部与溶液槽相通，所述泄流口15上遮盖有滤网，所述溶液槽1还具有一进液管，所述进液管穿过所述外壁13，伸入容纳夹层14下部，所述溶液槽1呈矩形或圆柱形，当溶液槽1为矩形时，其溶液槽四个面分别设置下部相通的容纳夹层14。

如图12所示的，所述氢氟酸抛光液装在溶液槽1内，所述溶液槽1由玻璃纤维增强塑料、耐腐蚀不锈钢、耐酸铸铁中的一种制成，所述溶液槽1内壁12还涂有耐腐蚀涂层，所述氢氟酸抛光液由浓度55％的氢氟酸原液加入水调配制成，制成后的氢氟酸抛光液浓度为5％-10％，氢氟酸抛光液浓度是指氢氟酸在水中的浓度。

具体的，由于溶液槽1体积要比较大，使用时人工往其内部灌注氢氟酸抛光液时，无法及时观察到液位，往往使其内部存储的氢氟酸抛光液过多，需要对AG玻璃4进行抛光作业时，AG玻璃4的体积会挤压溶液槽1内的氢氟酸抛光液，使氢氟酸抛光液上升，可能导致氢氟酸抛光液溢出，造成安全事故，设置容纳夹层14，当氢氟酸抛光液溢出时，通过泄流口15进入容纳夹层14上部，防止氢氟酸抛光液外溢，保护操作工人人身安全，当AG玻璃4抛光完成取出后，氢氟酸抛光液回落，位于容纳夹层14上部的氢氟酸抛光液通过倾斜设置的导流板16经过漏液口17流向容纳夹层14下部，回流进溶液槽1中。

如图9所示的，本发明一种AG玻璃移载装置，包括托架以及机械臂，所述托架安装在机械臂下方，所述托架包括一矩形框架3，所述矩形框架3自上而下依次设有多组支撑梁，该矩形框架3正六面均为中空结构，横梁安装在矩形框架3长度较长的且相对的两面，如其中的第一横梁31安装在矩形框架3左侧，第二横梁32则安装在矩形框架3的右侧，第二横梁32上并列设有两个第二支撑块34，第一横梁31的长度面上并列设有两个第一支撑块33,第一支撑块33、第二支撑块34中部均开有支撑槽331，AG玻璃4置于所述支撑槽331内，横梁自上而下依次排列。

AG玻璃4装入时，首先将AG玻璃4抬升，并将其变为水平方向，将AG玻璃4前端分别插入相同一组支撑梁的第一个支撑槽331内，并通过外力将AG玻璃4推到底，具体的是将AG玻璃4的前端推到最后一个支撑槽331中，最终AG玻璃4被水平安置，支撑梁设有2-6组，能够安置的AG玻璃4为2-6块，当AG玻璃4全部放置完成后，由机械臂带动托架移动，最终将其浸泡到溶液槽1内的氢氟酸抛光液，具体的，使AG玻璃4完全浸没到氢氟酸抛光液内10-20分钟。

如图10所述的，托架设置为竖向框架5，竖向框架5顶部具有带矩形槽的盖板53，其底部设置与支撑梁结构相同的支撑杆51，且支撑杆51上设有第三支撑块52，并开有支撑槽331，该支撑槽331的开口向上与矩形槽相对应，使用时，首先将AG玻璃4竖起，使AG玻璃4的底部插入最外侧的支撑槽331内，顶部插入其对应的矩形槽内，通过外力将AG玻璃4向内推，直至AG玻璃4接触到矩形槽的最内侧，实现对AG玻璃4的限位固定，机械臂将其移动浸没到溶液槽1内。

如图11所示的，所述的每一组横梁均包括对称设置的第一横梁31和第二横梁32，且任何两根横梁均对称设置，第一横梁31和第二横梁32的区别在于其位置不在同一侧，而是在相对的两侧，每组横梁的两端分别固定连接在矩形框架3上，自上而下依次设置的多根横梁之间分别具有间隔，其支撑槽331的开口位置水平，以实现AG玻璃4方便、快速的放入托架中。

本发明的工作过程为：人工将AG玻璃4一一装入托架内，然后由机械臂升起托架，并将托架移位到溶液槽1上方，缓慢将托架放入溶液槽1内，使托架中的AG玻璃4部分完全浸没到氢氟酸抛光液中，托架在氢氟酸抛光液中停留10-20分钟后升起，并移位到下一工位，进行下一工艺处理。

抛光AG玻璃4的具体方法为：采用上述的机械臂将装载有多块AG玻璃4的托架浸没于所述溶液槽1中，此时，所述浮体2从所述AG玻璃4的底部重新上浮至所述氢氟酸抛光液的液面11；当浮体2滞留在托架底部而无法自然上浮时，该机械装置内穿设有多条气管，所述气管的出气口位于所述托架的底部，且面向托架底部的氢氟酸抛光液，该托架浸没于所述氢氟酸抛光液内时，由气管进行通气，气体由出气口排出，扰动该托架底部的氢氟酸抛光液，使滞留在托架底部的浮体2移动，进而由托架底部离开，重新上浮至氢氟酸抛光液的液面11；该气管内具有单向阀，所述单向阀防止氢氟酸抛光液进入气管，所述气管和单向阀由耐腐蚀材质制成；浸没所述AG玻璃4达到20分钟后，将所述AG玻璃4从所述溶液槽1中取出；将AG玻璃4移位到清洗槽中进行清洗，所述清洗槽内装有清洗液；清洗后，移位至吹风口，将AG玻璃4表面风干后，再由托架内取出转运，并包装存储。

以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所述技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。