熔块干粒、保护釉、立体纹理柔光釉面砖及其制备方法

技术领域

本发明涉及陶瓷领域，特别涉及一种熔块干粒、保护釉、立体纹理柔光釉面砖及其制备方法。

背景技术

为了增加陶瓷砖的耐用性和耐摩擦性能，目前釉面砖的保护釉多采用高钙高铝的配方，以形成更多硬度高的晶体颗粒。为了形成晶体颗粒，保护釉主要采用生料如高铝质粘土、石英石、长石、白云石等作为基础原料。这些采用生料形成的高钙高铝保护釉配方虽然具有优良的耐摩擦性能，但是普遍存在防污性能不足的问题。

此外，现今的陶瓷砖为了增加美观性，还设置有凹凸纹理，而为了保护凹凸纹理在日常使用中不被损坏，一般还需要在凹凸纹理上施保护釉。凹凸纹理的设置本身会增加陶瓷砖的清洁难度，降低防污性能，而目前的保护釉本身也存在防污性能不足的问题，两者结合以后导致现今具有凹凸纹理的陶瓷砖存在较为明显的防污性能不足的问题。

当陶瓷砖接触到酸碱后，部分陶瓷砖的表面还形成腐蚀痕，这会进一步降低陶瓷砖的防污性能。

可见，现有技术还有待改进和提高。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足之处，本发明的目的在于提供一种熔块干粒、保护釉、立体纹理柔光釉面砖及其制备方法，旨在解决现有技术中保护釉的防污性能不足的技术问题。

为了达到上述目的，本发明采取了以下技术方案：

本发明第一方面提供了一种熔块干粒，按重量百分比计，所述熔块干粒的化学组分包括：Al

本发明第二方面提供了一种保护釉，所述保护釉的制备原料为如上所述的熔块干粒，所述保护釉的釉浆为250目筛余0.3～0.5％。

本发明第三方面提供了一种立体纹理柔光釉面砖，包括依次设置的坯体层、化妆土层、图案层和凹凸纹理层；所述凹凸纹理层的制备原料包括以上所述的保护釉。

所述的立体纹理柔光釉面砖，其中，按重量百分比计，所述坯体层的化学组分包括：Al

所述的立体纹理柔光釉面砖，其中，所述化妆土层由底釉烧制得到，按重量百分比计，所述底釉的化学组分包括：Al

本发明第四方面提供了一种陶瓷砖的制备方法，用于制备如上所述的立体纹理柔光釉面砖，包括如下步骤：

在坯体层上施底釉，以形成化妆土层；根据设计需要，在化妆土层上打印图案，以形成图案层，然后打印亮光精雕墨水和哑光深刻墨水，再施保护釉，以形成凹凸纹理层；烧成，烧成温度为1210～1220℃；刷抛，制得成品。

所述的陶瓷砖的制备方法，其中，按重量份数计，所述亮光精雕墨水的制备原料包括：低温高硼熔块25～30份、钒酸铋8～12份、钾长石5～10份、碳酸钡6～12份、矿化剂1～3份、分散剂6～10份、酯类化合物10～20份、溶剂40～50份、功能树脂0.5～0.8份、悬浮剂0.5～0.6份。

所述的陶瓷砖的制备方法，其中，按重量份数计，所述哑光深刻墨水的制备原料包括：低温高硼熔块20～35份、钒酸铋6～10份、钾长石4～11份、碳酸钡5～12份、矿化剂1～4份、分散剂5～10份、酯类化合物9～21份、溶剂38～52份、功能树脂0.3～0.8份、悬浮剂0.5～0.6份。

所述的陶瓷砖的制备方法，其中，所述亮光精雕墨水的用量为10～20g/m

所述的陶瓷砖的制备方法，其中，所述保护釉的比重为1.4～1.5g/mL。

有益效果：

本发明第一方面提供了一种熔块干粒，所述熔块干粒采用高钙高铝配方，具有良好的耐摩擦性能以及防污性能，可直接用于形成保护釉，无需添加其他生料。所述熔块干粒还搭配有高含量的ZnO，所形成的保护釉可以增加温润感，并提高釉面的防污性能。

本发明第二方面提供了一种保护釉，所述保护釉采用以上所述的熔块干粒制备，所述保护釉的釉浆为250目筛余0.3～0.5％，烧制后的釉面致密性好，防污等级高。

本发明第三方面提供了一种立体纹理柔光釉面砖，所述立体纹理柔光釉面砖包括依次设置的坯体层、化妆土层、图案层和凹凸纹理层，所述保护釉层由以上所述的保护釉制得，与凹凸纹理层结合后，不仅能够很好地起到保护作用，而且保护釉层能很好地结合在凹凸纹理层的上面，凸起和凹陷处过渡圆润，不藏污，不吸污。

本发明第四方面提供了一种陶瓷砖的制备方法，所述制备方法用于制备以上所述的立体纹理柔光釉面砖，所述制备方法采用亮光精雕墨水和哑光深刻墨水形成凹凸纹理层，亮光精雕墨水和哑光深刻墨水在烧成时与保护釉结合，形成的釉面虽然凹凸不平，但是触感光滑温润，防污性能好。

附图说明

图1为立体纹理柔光釉面砖的层级结构示意图。

图2为实施例1的实物图。

主要元件符号说明：1-坯体层，2-化妆土层，3-图案层，4-凹凸纹理层。

具体实施方式

本发明提供一种熔块干粒、保护釉、立体纹理柔光釉面砖及其制备方法，为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本发明第一方面提供了一种熔块干粒，按重量百分比计，所述熔块干粒的化学组分包括：Al

熔块干粒采用生料在高温条件下熔融后再经过破碎球磨制得。相对于生料配方的保护釉，熔块干粒用于保护釉再次烧制时，熔融温度更低，并且本身无气孔形成，表面结构致密，防污性能更高。此外，由于熔块干粒形成的保护釉无大颗粒的晶体形成，因此，触感更加平滑温润，透明度也更好。

本发明第二方面提供了一种保护釉，所述保护釉的制备原料为以上所述的熔块干粒，所述保护釉的釉浆为250目筛余0.3～0.5％，喷釉量为514～572g/m

请参阅图1，本发明第三方面提供了一种立体纹理柔光釉面砖，所述立体纹理柔光釉面砖包括依次设置的坯体层1、化妆土层2、图案层3和凹凸纹理层4；所述凹凸纹理层的制备原料包括以上所述的保护釉。所述化妆土层用于遮盖坯体层；所述凹凸纹理层的纹理深度控制在0.2～0.5mm。

优选的，按重量百分比计，所述坯体层的化学组分包括：Al

所述化妆土层由底釉烧制得到，按重量百分比计，所述底釉的化学组分包括：Al

本发明第四方面提供了一种陶瓷砖的制备方法，用于制备如上所述的立体纹理柔光釉面砖，包括如下步骤：

在坯体层上施底釉，以形成化妆土层；根据设计需要，在化妆土层上打印图案，以形成图案层，然后打印亮光精雕墨水和哑光深刻墨水，再施保护釉，以形成凹凸纹理层；烧成，烧成温度为1210～1220℃；刷抛，制得成品。

所述亮光精雕墨水和哑光深刻墨水均为油性陶瓷墨水，油性陶瓷墨水会沿着其纹理将后续布施的保护釉排斥开来，在油性陶瓷墨水烧成后形成凹陷纹理。

优选的，按重量份数计，所述亮光精雕墨水的制备原料包括：低温高硼熔块25～30份、钒酸铋8～12份、钾长石5～10份、碳酸钡6～12份、矿化剂1～3份、分散剂6～10份、酯类化合物10～20份、溶剂40～50份、功能树脂0.5～0.8份、悬浮剂0.5～0.6份。

优选的，所述溶剂为三羟甲基乙烷。

优选的，按重量份数计，所述哑光深刻墨水的制备原料包括：低温高硼熔块20～35份、钒酸铋6～10份、钾长石4～11份、碳酸钡5～12份、矿化剂1～4份、分散剂5～10份、酯类化合物9～21份、溶剂38～52份、功能树脂0.3～0.8份、悬浮剂0.5～0.6份。

优选的，所述亮光精雕墨水的用量为10～20g/m

优选的，所述保护釉的比重为1.4～1.5g/mL。

实施例1

一种立体纹理柔光釉面砖，其制备方法包括如下步骤：

S100.在坯体层上施底釉，以形成化妆土层；

S200.根据设计需要，在化妆土层上打印图案，以形成图案层，然后打印亮光精雕墨水和哑光深刻墨水，再施保护釉，以形成凹凸纹理层；

S300.烧成，烧成温度为1200℃；

S400.刷抛，磨边，制得成品；

所述S100中，按重量百分比计，所述坯体层的化学组分包括：Al

所述底釉的化学组分为：Al

所述S200中，所述亮光精雕墨水的制备原料包括：低温高硼熔块30份、钒酸铋10份、钾长石8份、碳酸钡8份、矿化剂2份、分散剂8份、酯类化合物15份、溶剂43份、功能树脂0.5份、悬浮剂0.5份。

所述哑光深刻墨水的制备原料包括：低温高硼熔块25份、钒酸铋6份、钾长石8份、碳酸钡7份、矿化剂3份、分散剂8份、酯类化合物12份、溶剂45份、功能树脂0.5份、悬浮剂0.5份；

所述S300中，所述保护釉由熔块干粒制备，所述保护釉的釉浆为250目筛余0.3～0.5％，喷釉量为514～572g/m

所述熔块干粒的化学组分为：Al

所述保护釉的浆料比重为1.4～1.5g/mL。

实施例2

一种立体纹理柔光釉面砖，其制备方法与实施例1的区别在于：

所述熔块干粒的化学组分不同；

本实施例中，按重量百分比计，所述熔块干粒的化学组分为：Al

实施例3

一种立体纹理柔光釉面砖，其制备方法与实施例1的区别在于：

所述熔块干粒的化学组分不同；

本实施例中，按重量百分比计，所述熔块干粒的化学组分为：Al

实施例4

一种立体纹理柔光釉面砖，其制备方法与实施例1的区别在于：

所述熔块干粒的化学组分不同；

本实施例中，按重量百分比计，所述熔块干粒的化学组分为：Al

对比例1

一种立体纹理柔光釉面砖，其制备方法与实施例1的区别在于：

所述保护釉的制备原料不同；

按重量百分比计，所述保护釉的制备原料包括：钾长石10％、钠长石8％、高铝质粘土3％、石英20％、氧化铝15％、烧滑石3％、硅灰石3％、碳酸钡5％、氧化锌2％、硼砂8％、硅酸锆15％、玻璃碎渣8％。

对比例2

一种立体纹理柔光釉面砖，其制备方法与实施例1的区别在于：

所述熔块干粒的化学组分不同；

本实施例中，按重量百分比计，所述熔块干粒的化学组分为：Al

对比例3

一种立体纹理柔光釉面砖，其制备方法与实施例1的区别在于：

所述熔块干粒的化学组分不同；

本实施例中，按重量百分比计，所述熔块干粒的化学组分为：Al

对比例4

一种立体纹理柔光釉面砖，其制备方法与实施例1的区别在于：

所述熔块干粒的化学组分不同；

本实施例中，按重量百分比计，所述熔块干粒的化学组分为：Al

对比例5

一种立体纹理柔光釉面砖，其制备方法与实施例1的区别在于：

所述熔块干粒的化学组分不同；

本实施例中，按重量百分比计，所述熔块干粒的化学组分为：Al

18.36％、SiO

对比例6

一种立体纹理柔光釉面砖，其制备方法与实施例1的区别在于：

所述熔块干粒的化学组分不同；

本实施例中，按重量百分比计，所述熔块干粒的化学组分为：Al

对比例7

一种立体纹理柔光釉面砖，其制备方法与实施例1的区别在于：

所述熔块干粒的化学组分不同；

本实施例中，按重量百分比计，所述熔块干粒的化学组分为：Al

18.69％、SiO

对比例8

一种立体纹理柔光釉面砖，其制备方法与实施例1的区别在于：所述所述保护釉的釉浆的细度不同；

本实施例中，所述保护釉的釉浆为250目筛余0.8～1.0％。

测定各实施例和对比例的各项性能；其中，防污性能参照

《GB/T3810.14-2016》进行测试；硬度参照《GB/T 4100-2015》进行测试；耐酸碱性参照GB/T3810.13-2016《陶瓷砖试验方法第13部分：耐化学腐蚀性的测定》进行测试。

相应的测试结果如下：

从以上结果可以看出，实施例1-4的立体纹理柔光釉面砖的莫氏硬度均在4级以上，耐磨性能较好，并且防污等级均在5级以上，耐酸碱等级均为GLA(V)级，综合性能较好。图2为实施例1的实物图，从图中可以看出，釉层表面有明显的凹凸纹理，立体感较好，并且凹凸纹理的设置不会导致防污等级下降。

对比例1采用了一种现有技术的配方来烧制保护釉，该配方由生料组成，在Si、Al、Ca以及Mg的含量上与本发明相近，从测试结果上看，对比例1的莫氏硬度虽然能达到4级，但是由于生料烧成的釉层的致密度不够，防污等级不如实施例1-4。另外，该釉层的耐酸碱等级也不如实施例1-4。

对比例2的保护釉配方中，Al

对比例3的保护釉配方中，Al

对比例4的保护釉配方中，CaO的含量低于本发明的保护范围，其硬度较实施例1-4有所下降，其原因是CaO可以与SiO

对比例5的保护釉配方中，CaO的含量大于本发明的保护范围，其耐酸碱等级较实施例1-4有所下降，其原因是CaO若用量过大，则会导致析晶过多，这些晶体中有部分的耐酸碱性能弱，并且釉层表面的晶体颗粒过大也不利于防污等级的提高。

对比例6的保护釉配方中，ZnO的含量小于本发明的保护范围，其防污等级较实施例1-4有所下降，其原因是ZnO具有降膨胀，助溶的作用，当其用量不足，釉面的膨胀系数过大，会导致釉面存在缺陷，从而防污性能下降。

对比例7的保护釉配方中，ZnO的含量大于本发明的保护范围，其耐酸碱等级较实施例1-4有所下降，其原因是ZnO的耐酸碱性能较弱，当用量过多时，则釉面的酸碱等级会相应的下降。

对比例8的保护釉配方中，保护釉的釉浆250目筛余较实施例1-4更大，在烧制时流动性会较实施例1-4差，烧制后釉面会存在较多凸起的颗粒，影响防污性能。

可以理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，而所有这些改变或替换都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。