用于化妆品的包装和/或涂抹组合件的可变形吸收基底

技术领域

本发明涉及一种旨在浸渍有化妆品的可变形吸收基底。本发明还涉及一种包括此类吸收基底的用于化妆品的包装和/或涂抹组合件。本发明还涉及一种用于产生此类吸收基底和用于化妆品的此类包装组合件的方法。

背景技术

出于本发明的目的，“化妆品”被理解为意指旨在涂抹到人类的化妆品。“化妆品”更通常地是指如2009年11月30日的欧洲议会和欧盟理事会的第1223/2009号法规(EC)中定义的与化妆品相关的产品。

申请FR 3,039,378描述了一种包括能够浸渍有化妆品的吸收基底的用于化妆品的包装组合件的实例。此类吸收基底具体地阻止化妆品的任何意外的流动，所述产品通过涂抹器与吸收基底的接触和吸收基底上的压力而被释放。

根据FR 3,039,378，吸收基底是开孔海绵或具有编织或非编织纤维的材料。这些材料具有良好的浸渍有化妆品的能力。然而，所述材料通常只允许重新分配或释放浸渍所述材料的化妆品的一部分。这导致化妆品无法被使用而大量损失。

更通常地，需要用于化妆品的包装组合件的吸收基底，对于所述吸收基底，特征——具体地是吸收性和回收程度——可以更准确地确定。

发明内容

为此，描述了一种用于化妆品的包装和/或涂抹组合件的可变形吸收基底，所述吸收基底具有由脊限定的泡孔，所述脊是通过增材制造产生的。

因此，有利地，具体地通过增材制造工艺产生此类吸收基底使得能够获得比由海绵材料或编织或非编织纺织材料制成的吸收基底的特性更精细和更好控制的特性。

根据优选实施例，所述吸收基底单独地或组合地包括以下特征中的一个或多个特征：

-所述脊是通过以下产生的：选择性激光烧结、选择性激光熔化、立体光刻或熔丝制造；

-在所述基底在主方向上延伸的情况下，当所述吸收基底在所述主方向上通过压力压缩时，所述脊成形为基本上在同一平面上延伸；

-所述脊是具有多边形横截面的圆柱体，所述多边形横截面具体地是正方形或六边形、圆形或椭圆形；

-所述脊通过铰链互连，所述铰链也是通过增材制造产生的，优选地在适当的情况下与所述脊同时产生；

-在所述基底在主方向上延伸的情况下，所述吸收基底具有第一层和第二层，所述吸收基底在所述第一层中具有第一泡孔，所述吸收基底在所述第二层中具有不同于所述第一泡孔的第二泡孔；

-所述第一泡孔和所述第二泡孔：

-形状不同；和/或

-体积不同；

-在所述吸收基底在主方向上延伸的情况下，所述吸收基底具有垂直于所述主方向定向的至少一个层，所述至少一个层具有第三泡孔和第四泡孔，所述第四泡孔不同于所述第三泡孔；

-所述第三泡孔和所述第四泡孔：

-形状不同；和/或

-体积不同；

-所述基底包括：在所述吸收基底的表面中的至少一个表面上的表层，所述表层优选地具有液密部分，所述表层更优选地在其整个表面之上液密，所述表层与所述吸收基底的其余部分成一体或者附接到所述吸收基底的其余部分；

-所述吸收基底基本上呈圆柱体形状，所述吸收基底在主延伸方向上延伸，在所述吸收基底的侧面上产生侧表层，所述表层优选地具有沿所述吸收基底的所述主延伸方向测量的高度，所述高度基本上等于在所述主延伸方向上压缩的所述吸收基底的高度；

-所述吸收基底进一步包括所述侧表面上的通道，所述通道成形为使得当所述吸收基底在所述主延伸方向上被压缩时，所述侧表层至少部分地收纳在所述通道中，所述通道与所述吸收基底的其余部分成一体或者附接到所述吸收基底的其余部分；

-所述吸收基底具有互连的泡孔，在所述互连的泡孔之间具有或没有接触；

-所述泡孔的形状选自：

-规则的多面体，具体地是规则的八面体；以及

-规则的截断多面体，具体地是规则的截断八面体；

-所述泡孔的所述脊的长度介于0.05mm与5mm之间；

-所述泡孔的所述脊的直径介于0.02mm与3mm之间；

-所述吸收基底包括以下中的至少一个：

-开放的泡孔；

-半开的泡孔；以及

-所述吸收基底进一步包括封闭的泡孔。

根据另一方面，描述了一种用于化妆品的包装组合件，所述包装组合件包括：至少一个容器，所述至少一个容器旨在收纳所述化妆品；如上所述的以其所有组合形式的吸收基底，所述吸收基底收纳在所述容器中；以及封盖，所述封盖用于封闭所述容器。

所述包装组合件可以进一步包括：壳体，所述壳体收纳所述容器；化妆品涂抹器构件；以及帽，所述帽用于封闭所述壳体。

还描述了一种具体地如上所述的以其所有组合形式的用于化妆品的包装组合件的化妆品再充装器，所述包装组合件包括如上所述的以其所有组合形式的吸收基底，所述吸收基底在密封袋中浸渍有化妆品。

所述吸收基底可以收纳在容器中，所述容器优选地在所述袋的内部由封盖封闭。

根据又一方面，描述了一种用于制造如上所述的以其所有组合形式的吸收基底的方法，所述方法至少包括步骤a)：通过增材制造来产生所述吸收基底的所述泡孔的所述脊。

所述泡孔的所述脊可以在步骤a)中通过以下产生：3D打印，具体地是SLS、FSL、立体光刻或熔丝制造。

用于制造用于化妆品的包装组合件的方法可以进一步包括由以下组成的步骤：

-通过实施如上所述的以其所有组合形式的方法来产生吸收基底，

-提供旨在收纳所述化妆品的至少一个容器和适于封闭所述容器的封盖，

-将所述吸收基底放置在所述容器中，

-用化妆品浸渍所述吸收基底，以及

-用所述封盖封闭所述容器。

所述制造方法可以进一步包括由以下组成的步骤：

-提供壳体和适于封闭所述壳体的帽，

-提供化妆品涂抹器构件，

-将所述容器和所述化妆品涂抹器构件放置在所述壳体中，以及

-使用所述帽封闭所述壳体。

附图说明

根据参考附图给出的以下描述，将更好地理解本发明，其中：

-图1示意性地表示了具有吸收基底的用于化妆品的包装组合件的截面图；

-图2说明了图1的用于化妆品的包装组合件的用途；

-图3到5说明了图1的吸收基底可能具有的泡孔的实例；并且

-图6示意性地说明了图1的吸收基底可能具有的泡孔的网络；

-图7示意性地说明了图1的吸收基底的泡孔的脊的可能的横截面；

-图8示意性地表示了图1的吸收基底的两个可能的泡孔；

-图9示意性地说明了图1的吸收基底可能具有的泡孔网络的第二实例；

-图10到14说明了图1的吸收基底的变体；

-图15示意性地说明了图1的用于化妆品的包装组合件的示例性化妆品再充装器的截面图；并且

-图16是图1的包装组合件的制造方法的流程图。

具体实施方式

在说明书的剩余部分中，相同或具有相同功能的元件具有相同的附图标记。为了本说明书简洁起见，并未在每个实施例的上下文中描述这些元件。相反，仅描述了实施例之间的差异。

图1说明了用于化妆品的包装组合件的实例10。如所说明的，包装组合件10包括容器12、收纳在容器12中的吸收基底14和用于封闭容器12的封盖16。

“吸收基底”在此处被理解为意指适于例如通过毛细管作用保留化妆品的基底。化妆品可以是流体，具体地是液体，更具体地是粘性的或者呈粉末形式。

吸收基底14适于浸渍有化妆品。优选地，浸渍有化妆品的吸收基底14——换句话说，其保留了化妆品。

吸收基底14是可变形的(或柔性的)。具体地说，吸收基底有利地可借助于用户例如使用拇指手动按压而压缩，以便有利地回收浸渍所述吸收基底的化妆品的至少一部分。可压缩在此处被理解为意指可能在适当的情况下经由负载有来自保留在吸收基底14中的化妆品的化妆品的涂抹器构件、具体地通过用户具体地通过用拇指施加压力手动按压来最小化吸收基底的体积。

压缩吸收基底使得能够回收浸渍所述吸收基底有的化妆品的至少一部分。具体地说，通过压缩使吸收基底的体积最小化，优选地能够从最初用化妆品浸渍到饱和的吸收基底中回收大于80％、更优选地大于90％的最初浸渍吸收基底的化妆品。

另外，此处，包装组合件10还包括收纳容器12的壳体18、化妆品涂抹器构件20和用于封闭壳体18的帽22。此处，涂抹器构件20容纳在封闭容器12的封盖16中。容器12例如可拆卸地收纳在壳体18中。然后可以替换壳体18中的容器12，并且因此用化妆品重新充装包装组合件10。根据一个实例，在此情况下，涂抹器构件20还可以被替换，优选地与容器12同时替换。

涂抹器构件20例如是海绵。

容器12沿在使用期间竖直的主轴线A布置，所述主轴线与吸收基底14的主延伸轴线重合。

在所说明的实例中，吸收基底14基本上呈具有延伸轴线A的圆柱体形状。此处，吸收基底的形状是旋转的圆柱体。吸收基底14的横截面可以具有除盘圆之外的形状。总体上，吸收基底14可以具有任何形状。

封盖20可以通过本领域的技术人员可使用的任何合适的方式固定在容器12上。具体地说，封盖20可以拧在或夹在容器12上。而且，封盖20可以借助于铰链(未说明)铰接在容器12上和/或设置有用于将封盖20锁定在其封闭容器12的位置的装置(未说明)。

类似地，帽22可以通过本领域的技术人员可使用的任何方式直接地或间接地固定到壳体18。因此，帽22可以具体地直接夹在或拧在壳体18或容器12的封盖16上。帽22还可以借助于铰链安装在壳体18或容器12的封盖16上和/或设置有用于将帽22锁定在其封闭壳体18的位置的装置(未示出)。

当然，包装组合件10的其它配置也是可能的。

如图2中可以看到的，此类包装组合件10通过对吸收基底14应用涂抹器构件20来使用，使得浸渍吸收基底14的化妆品被释放并且浸渍涂抹器构件20。然后，用户可以将浸渍涂抹器构件20的化妆品涂抹在例如用户的皮肤上。

化妆品可以具体地是粉底液、半液体粉底、粉末状粉底或任何其它化妆品或自我护理物质，如香料或彩妆。化妆品可以具体地选自需要通过筛子、筛网或皮肤分布的化妆品。化妆品还可以选自需要重新混合的化妆品，如光泽剂、仿晒剂、掺入粉末、珍珠母或颗粒的香料。化妆品还可以选自自我护理方剂，例如：

-所谓的“磨砂膏”方剂，其包括研磨料成分，从而使其具有去角质效果，或

-例如，多相自我护理方剂，具体地是“油包水”、“水包油”或“硅包水”型的多相自我护理方剂，或

-多相卸妆方剂。

化妆品还可以选自掺入表面活性剂的方剂，所述表面活性剂还可以用于借助于吸收基底产生泡沫。

上文指示的实例并不详尽并且不构成产品和用途列表的限制。

因此，吸收基底14的优点首先是将或多或少粘性或甚至粉状化妆品保留在容器12中，并且因此阻止化妆品泄漏或更通常地阻止化妆品损失。

然而，吸收基底14的另一个优点可以在于在化妆品释放和涂抹之前立即混合化妆品。例如，化妆品可以由不溶的成分构成，并且在静止时具有不同相的乳剂的形式。化妆品可以具体地包括流体中的固体颗粒，和/或若干种不同密度的流体。在此情况下，在吸收基底14的主延伸轴线A的方向上在吸收基底14上按压一次或多次使得能够混合不同的相和/或将颗粒分布在化妆品中。因此，所涂抹的化妆品具有更均匀的质地。

此处，应当注意的是，吸收基底14具有由通过增材制造产生的脊26限定的泡孔24。优选地，泡孔24由多个脊26限定。泡孔在此处被理解为意指由脊形成的几何图案，并且重复所述泡孔以形成网络。如果所有泡孔都相同，则网络可以是规则的，或者如果泡孔不同，则网络可以是不规则的。

以本身已知的方式，术语“增材制造”被理解为意指用于通过添加材料来制造的方法。增材制造有利地是计算机辅助的。增材制造可以具体地通过添加材料使零件成形来执行，例如通过堆叠连续的层来执行。因此，增材制造与材料的去除或对其实施方案施加几何约束的模制工艺相反，或者与由化学反应产生的工艺相反，如通常被实施为产生海绵材料并且其结果是随机的和/或不规则的结构的工艺。

增材制造有时尤其是被普通大众称为“三维打印”或“3D打印”。

此类增材制造工艺使得能够产生吸收基底14的多种变体，从而与由海绵材料或编织或非编织织物制成的基底相比，表现出大量有利的特性。

许多工艺可以被实施为产生吸收基底14的泡孔24的脊26，所述工艺具体地是：

-选择性激光烧结(或SLS)：在此工艺中，通过选定厚度的连续二维层来创建三维模型，这是连续扫描细粉罐中的每一层并将其烧结的激光器；

-选择性激光熔化(或SLM)：在此工艺中，通过选定厚度的连续二维层来创建三维模型，这是连续扫描细粉罐中的每一层并将其熔化的激光器。停止激光后，模型固化立即发生；

-立体光刻(或用于“立体光刻设备”的SLA)：在此工艺中，通过选定厚度的连续二维层来创建三维模型，这是连续扫描液浴中的每一层并且两个激光束的交点处使其聚合的一对激光器；

-熔丝制造(或FFF)：在此工艺中，通过沉积熔化的长丝来创建三维模型。

这些制造工艺具体地是根据针对脊26和/或泡孔24所使用的一种或多种材料和/或期望的尺寸选择的。

在吸收基底14的情况下，其可以具体地由以下之一制成：

-聚酰胺，例如PA11，

-聚乙烯，

-热塑性聚氨酯或TPU，

-聚芳醚酮或PAEK，以及

-金属或金属合金，所述金属或金属合金可以具体地选自：

-铝或铝合金，

-钴或钴合金，

-铬或铬合金，具体地钴和铬的合金，

-镍或镍合金，

-不锈钢，以及

-钛或钛合金。

因此，利用增材制造工艺使得能够产生可以保留化妆品的泡孔24。为此，减小每个泡孔24的体积。每个泡孔的体积适用于要包含的方剂。增材制造具体地使得能够适用于泡孔的大小。

因此，泡孔24的体积适用于泡孔所含有的方剂，以便具体地使泡孔能够例如通过毛细作用储存化妆品。

例如，泡孔24的脊26的长度l26介于0.5mm与5mm之间。在此间隔内，选择泡孔24的脊26的长度作为所含有的方剂的函数。

而且，例如，泡孔的脊的直径d26介于0.02mm与3mm之间。“脊的直径”在此处被理解为意指脊的横截面的最大尺寸。

泡孔24的形状可能差别很大。实际上，这些泡孔24可能采取任何形状，所述形状可以通过增材制造工艺产生，并且通过使吸收基底14能够储存化妆品，然后通过按压吸收基底14以将化妆品释放来产生。

具体地说，泡孔24可以是多面体。图3和4说明了此类泡孔的实例。

在图3中，泡孔24的形状为八面体。此处，例如，泡孔是开放的，即脊26之间的空间是空的。

在图3中，泡孔24的形状为截断八面体。此处，所示的泡孔24是半开的，即由脊26形成的截断八面体的某些表面28是空的，而由脊26形成的截断八面体的其它表面30被填充。

通常并且独立于泡孔24的形状，所述泡孔可以是开放的、封闭的或部分开放的(或半开的)。而且，在同一吸收基底14中，能够产生开放的泡孔和/或封闭的泡孔和/或半开的泡孔。此处应当注意的是，利用增材制造工艺能够非常精确地限定开放的泡孔、封闭的泡孔或半开的泡孔。封闭的泡孔和/或半封闭的泡孔的产生可以使得能够引导化妆品的流动。例如，封闭的泡孔和/或半封闭的泡孔成形为在轴线A的方向上朝纵向端部沿轴线A按压吸收基底的情况下引导化妆品的流动。另外或可替代地，封闭的泡孔和/或半封闭的泡孔成形为在朝吸收基底14的侧表面引导的方向上沿轴线A按压吸收基底引导化妆品的流动。

根据特别有利的实施例，泡孔24具有一定形状使得当吸收基底14在延伸方向A上压缩时限定泡孔的脊可以基本上在同一平面上。这具有减少泡孔24的“死体积”的优点，其中当吸收基底14被压缩时，化妆品可以保留在所述“死体积(dead volume)”中。

此类泡孔24的实例在图5中说明。在此图中，泡孔24由以轴线A的截头圆锥螺旋的形式延伸的脊26限定。因此，在通过沿泡孔24的延伸轴线A的方向的压力P来压缩泡孔24的情况下，泡孔在平面内缩小成螺旋形状。

如图6所说明的，泡孔24可以全部相同。泡孔24还可以例如通过与相邻泡孔24共享脊26而互相连接。然而，可替代地，泡孔24可以彼此间隔开。

如可以在图7中看到的，脊26可以具体地是圆柱体，所述圆柱体具有多边形横截面26s，具体地是三角形、正方形或六边形，或者圆形或椭圆形。当基底被压缩时，可以具体地选择脊26的横截面，以改善借助于吸收基底14产生的混合。出于此目的，多边形横截面似乎是优选的。相反地，没有角的横截面似乎优选地用于在吸收基底被压缩时所述吸收基底能够释放的化妆品的体积。

而且，脊26可以具有沿其整个长度基本上恒定的横截面并且彼此直接连接，如图8的左侧所说明。此处直接被理解为意指没有任何插置的结构元件。在此情况下，吸收基底14的柔性由脊26本身的柔性提供。换句话说，为了确保吸收基底14能够释放化妆品，脊26的尺寸应当使得当用户例如用拇指直接或经由涂抹器构件20在吸收基底14上施加压力P时脊可以变形。

相反，如图8的右侧所说明的，脊26可以通过铰链32互连。铰链32可以具体地由减小的横截面的部分产生，所述减小的横截面具体地是横截面小于脊26的横截面。铰链还通过增材制造方法产生，例如与吸收基底14的泡孔24的脊26同时产生。在此情况下，可以简单地借助于铰链32获得吸收基底的柔性，脊26具有足够的刚性，以免在来自用户的压力P的情况下变形。

可替代地，通过脊26的柔性和这些脊26之间的铰链32的存在的组合来获得吸收基底14的柔性。

此外，如图9中示意性可见的，泡孔24可以形成互连的泡孔24

此处，两个网络25

图10表示吸收基底14的另一个实例的截面图。此基底与刚才描述的基底的不同之处基本上在于所述基底包括表层34。此处，此表层34在吸收基底14的侧表面之上延伸。此表层可以单独地产生，并且然后附接到吸收基底14。然而，可替代地，此表层34与吸收基底14的其余部分同时产生，具体地是与泡孔24的脊26同时产生。

可替代地，表层可以由天然或合成的纺织品、天然或合成的织物、毛毡制成，或者可以是合成的表层。

表层34可以形成用于例如通过阻止或相反地通过仅允许局部分布化妆品来过滤或调节化妆品的分布的元件。

此处，表层34液密(或不可渗透)。如图10所说明的，当在沿轴线A引导的压力P的作用下压缩吸收基底14时，表层34延伸对应于吸收基底的最小高度的高度h14。因此，当用户在方向A上压缩吸收基底14时，此表层使得能够减少由吸收基底的侧面逸出的化妆品的量。有利地，在使用期间，此表层34固定在吸收基底14上，在其上部端部附近。

表层34可以在一个或多个点处或者沿表层34的整个高度连接到吸收基底14。为了改善化妆品使用期间的整洁度，吸收基底14还可以在表层的开始几毫米上设置具有封闭或部分封闭结构的环，从而因此形成吸收基底14周围的环。这使得能够在吸收基底的侧表面上，在方剂分布表面周围形成防污损保护环。

在图11中，除了表层34之外，吸收基底还具有与上文所呈现的通道相同的通道36。通道36基本上呈具有U形横截面的环形形状。此处，通道36在使用期间固定到吸收基底14的下部端部。还是此处，通道36可以与吸收基底14的其余部分分离产生并且然后附接到其上，或者与吸收基底的其余部分同时产生，换句话说，与泡孔24的脊26一起产生，并且优选地在适当的情况下与表层34一起产生。如图11中可以看到的，通道36成形为在方向A上在吸收基底14上的压力P的情况下至少部分地收纳表层34。还是此处，在用户在方向A上在吸收支撑件14上的压力P的情况下，收纳在通道36中的表层34的协作旨在减少或者甚至阻止化妆品通过吸收基底的侧面流动。表层34和通道36的协作实际上增加化妆品要克服的压头损失，以便能够通过吸收基底14的侧面流动。

在图12中，将表层38放置在吸收基底14的端部表面——在此情况下是上部表面上。此表层38对化妆品也液密。此表层38还可以单独产生并且附接到吸收基底14，或者与吸收基底的其余部分同时产生，具体地与泡孔24的脊26一起产生，并且优选地在适当的情况下与吸收基底14的侧表面上的表层34和/或通道36一起产生。作为实例，图12中所说明的表层38呈环形形状并且具有通孔40。因此，表层38减少化妆品从泡孔24到吸收基底14的上部表面的通道。因此，此类表层38使得能够当吸收基底14在其主延伸方向A上被压缩时，控制由吸收基底分布的化妆品的量。

另外或可替代地，如上所述，可以具体地在吸收基底14的上部表面上产生表层42。此表层42具体地使得能够获得美学效果和/或指示品牌、文本、徽标、设计或任何其它交流标志。如先前所指示的，此表皮还可以在所含有的方剂的分布中充当“流量减少器”，其目的是优化方剂在涂抹器构件上的回收。

如图14所说明的，吸收基底14可以具有第一层14a和第二层14b，吸收基底14在第一层中具有第一泡孔24a，吸收基底14在第二层中具有不同于第一泡孔24a的第二泡孔24b。具体地说，第一泡孔24a和第二泡孔24b的形状不同和/或体积不同。具体地说，朝吸收基底14的顶部(化妆品从所述顶部收集)定位的第二泡孔24b的体积比第一泡孔24a的体积小。

更通常地，吸收基底14的泡孔24可以不完全相同。吸收基底14的泡孔24的体积可以具体地随着所述泡孔靠近吸收基底14的收集化妆品的表面而减小。

如图15所说明，用于化妆品的包装组合件10可以借助于再充装器44重新充装。如图15所说明，此化妆品再充装器44包括如上所述的吸收基底14(包括其所有变体)，所述吸收基底在密封袋46中浸渍有化妆品。此处，再充装器44进一步包括容器12，所述容器在袋46内部收纳由封盖16封闭的吸收基底14，并且收纳涂抹器构件20。

此外，图16示意性地表示用于制造化妆品10的包装组合件的方法100的流程图。

此制造方法包括步骤102，所述步骤通过增材制造来产生吸收基底14的泡孔24的脊26。

如以上所指示的，所实施的增材制造工艺可以具体地是选择性激光烧结工艺、选择性激光熔化工艺、立体光刻工艺或熔丝制造工艺。

此外，吸收基底14还可以由用于过滤或调节化妆品的分布的元件部分地或完全地覆盖，调节元件允许或相反地局部阻止化妆品的分布。用于过滤或调节化妆品的分布的此元件(如以上描述的表层34)具体地可以由天然或合成纺织品、天然或合成织物、毛毡制成，或者可以是合成表层。过滤元件可以或可以不附接到吸收基底14。

吸收基底14还可以被覆盖以改善用户的感受。

方法100继续进行步骤104，所述步骤提供旨在收纳化妆品的至少一个容器12和适于封闭容器12的封盖16。

此处应当注意的是，吸收基底14可以在其集成到容器12中之前、期间或之后被覆盖。

在步骤106中，将吸收基底14放置在容器12中，并且在步骤108中，用化妆品浸渍吸收基底14。在步骤110中，用封盖16封闭容器12。

在步骤112中，然后提供壳体18和能够封闭壳体18的帽22。在步骤114中，提供了化妆品涂抹器构件20。在步骤116中，将容器12和化妆品涂抹器构件20放置在壳体18中。最后，在步骤118中，使用帽20封闭壳体18。

本发明不仅仅局限于以上参考附图所描述的实施例，而且相反地，本领域的技术人员能够进行多种可用的变体。具体地说，除非另有说明，否则所描述的各个实施例可以组合。

优选地，泡孔的几何形状被选择为在压缩吸收基底的情况下最小化其体积，从而因此减小吸收基底的死体积。

根据未示出的变体，吸收基底在垂直于轴线A延伸的同一层中具有不同的泡孔。垂直于轴线A延伸的层可以具体地对应于吸收基底的整个体积。在此情况下，泡孔仅取决于其相对于轴线A的径向位置并且独立于其沿轴线A测量的竖直位置。例如，泡孔在从轴线A朝吸收基底14的侧表面的径向方向上变得越来越小，或者相反地变得越来越大。随着接近吸收基底14的侧表面而越来越小的泡孔具体地使得能够逐渐增加在接近吸收基底的侧表面的化妆品的流动中的压头损失。因此，能够减少通过侧表面从吸收基底14中逸出的化妆品的量。

在所描述的实例中，吸收基底14用作化妆品储存器/混合器。可替代地，吸收基底可以用作化妆品涂抹器构件。在此情况下，吸收基底可以集成到化妆品涂抹组合件中，所述化妆品涂抹组合件包括储存器和作为涂抹器构件的吸收基底，涂抹器构件有利地与化妆品储存器的内容物分离。