一种X射线单晶衍射仪及其衰减器装置

技术领域

本发明涉及X射线检测技术领域，特别涉及一种X射线单晶衍射仪及其衰减器装置。

背景技术

X射线单晶衍射仪广泛应用在检测领域，通常根据实际需要往往会在检测中变换调节多种强度模式；但是现有的X射线单晶衍射仪的调整操作复杂，精度和效率较低，影响检测质量和效率。

发明内容

本发明提供一种X射线单晶衍射仪及其衰减器装置，解决现有技术中X射线单晶衍射仪的调整操作复杂，精度和效率较低的技术问题。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种衰减装置，包括：支架、转盘、衰减片组件以及电机；

所述转盘可转动地固定在所述支架上；

所述衰减片组件固定在所述转盘上，跟随所述转盘转动；

所述电机固定在所述支架上，且所述电机的转轴与所述转盘相连，驱动所述转盘转动。

进一步地，所述衰减片组件包括：不同衰减强度的多块衰减片；

所述多块衰减片固定在所述转盘上。

进一步地，所述转盘上开设有多个衰减片安置孔，所述多块衰减片对应固定在所述多个衰减片安置孔内。

进一步地，所述转盘上还开设有全透孔。

进一步地，所述转盘的中心处固定有一转动轴，所述转动轴可转动地固定在所述支架上，所述转动轴与所述电机的转轴相连。

进一步地，所述衰减装置还包括：密封罩；

所述支架、所述转盘、所述衰减片组件以及所述电机布置在所述密封罩内；

所述密封罩上开设有入射窗口和出射窗口，且所述衰减片组件设置在所述入射窗口和所述出射窗口的连线上。

进一步地，所述入射窗口和所述出射窗口处分别对应设置有入射管和出射管。

进一步地，所述衰减装置还包括：密封阀；

所述密封阀设置在所述入射管和/或所述出射管上。

进一步地，所述衰减装置还包括：控制器；

所述控制器与所述电机相连。

一种X射线单晶衍射仪，包括：所述的衰减装置。

本申请实施例中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：

本申请实施例中提供的X射线单晶衍射仪及其衰减器装置，通过在转盘上布置衰减片组，通过电机驱动转盘转动，从而能够调整衰减片组件的分布位置，从而能够对应切换位于X射线轨迹上的衰减片，从而能够实现便捷灵活，高效的衰减控制；同时，由于通过衰减片组进行衰减控制，能够保证衰减的精度，稳定性和可靠性。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的衰减器装置的封装状态示意图；

图2为本发明实施例提供的衰减器装置的内部装配结构示意图；

图3为本发明实施例提供的衰减器装置的剖视图；

图4为图3的A-A剖视图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

需要说明的是，本申请实施例中所有方向性指示仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

下文的公开提供了许多不同的实施例或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

下面结合附图并参考具体实施例描述本申请。

本申请实施例通过提供一种X射线单晶衍射仪及其衰减器装置，解决现有技术中X射线单晶衍射仪的调整操作复杂，精度和效率较低的技术问题。

为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细说明，应当理解本发明实施例以及实施例中的具体特征是对本申请技术方案的详细的说明，而不是对本申请技术方案的限定，在不冲突的情况下，本申请实施例以及实施例中的技术特征可以相互组合。

参见图1、图2和图3，一种衰减装置，包括：支架7、转盘5、衰减片组件以及电机6。

其中，所述转盘5可转动地固定在所述支架7上，所述衰减片组件固定在所述转盘5上，跟随所述转盘5转动；从而能过通过转动所述转盘5实现所述衰减组件的切换，调整衰减强度。

所述电机6固定在所述支架7上，且所述电机6的转轴与所述转盘5相连，驱动所述转盘5转动；实现便捷灵活的强度调整。

值得说明的是，通过电机6驱动能够灵活，便捷，高效的实现衰减强度切换，同时通过切换衰减片组件，从而能够维持稳定的衰减结构，保证衰减精度。

也就是说，本实施例涉及到的X射线的光路固定，通过驱动所述转盘5转动，从而调整置入X射线光路的衰减片组件中的不同规格的衰减片，从而实现衰减控制。

参见图4，本实施例中，所述衰减片组件包括：不同衰减强度的多块衰减片8；所述多块衰减片8固定在所述转盘5上，从而跟随转盘5转动，从而调整所述多块衰减片8的位置，从而调整位于X射线光路中的不同强度的衰减片8。

值得说明的是，所述多块衰减片8设置在一个圆周上，即到达所述转盘5转轴中心距离相等的位置上；通常为了便于控制，任意相邻两个衰减片的间距相等，即等间距均匀布置在一个圆周上，从而通过电机6步进控制所述转盘5，实现不同衰减片的控制。

本实施例中，采用铅衰减片，通过厚度进行衰减强度量化。

具体来说，所述转盘5上开设有多个衰减片安置孔51，所述多块衰减片8对应固定在所述多个衰减片安置51孔内，从而能够高精度的安置衰减片，保证其处于圆周位置上，并且能够便捷拆装。

通常，衰减强度还设置有0％，因此，所述转盘5上还开设有全透孔52，也位于上述圆周上，用于直接输出X射线，不进行衰减。

进一步地，衰减强度可设置成100％、80％、60％、50％、40％、20％、10％和0％，鉴于此，所述衰减片安置孔51设置成七个，对应固定七个厚度规格的衰减片。

为了保证转动精度，所述转盘5的中心处固定有一转动轴，所述转动轴可转动地固定在所述支架7上，所述转动轴与所述电机6的转轴相连；从而实现电机驱动；本实施例中，转动轴与电机6的转轴同轴连接。

参见图1和图3，所述衰减装置还包括：密封罩3；所述支架7、所述转盘5、所述衰减片组件以及所述电机6布置在所述密封罩3内；实现密封防护。

为了保证光路稳定性，所述密封罩3上开设有入射窗口和出射窗口，且所述衰减片组件设置在所述入射窗口和所述出射窗口的连线上，保证衰减可靠性。确切地说，是在转盘5转动时，所述衰减组件可高精度的进入到所述入射窗口和所述出射窗口的连线上，从而进行衰减控制。

为了保证衰减调节质量，所述入射窗口和所述出射窗口处分别对应设置有入射管4和出射管1，连接上游的X射线产生设备，接收X射线，并连接下游的应用设备，出射衰减后的X射线。

本实施例中，所述入射管4和所述出射管1可通过螺栓固定到所述密封罩3上，或者直接成型在密封罩3上，本实施例不做特别限制。

为了保证X射线的安全性，所述衰减装置还包括：密封阀2；所述密封阀2设置在所述入射管4和/或所述出射管1上。

本实施例中，密封阀2采用电控球阀，可实现自动控制。

进一步地，所述衰减装置还包括：控制器；所述控制器与所述电机相连，从而实现自动控制。还可以将所述控制器与电控球阀相连，实现统一联动控制，保证输出的X射线的质量。

本实施例还提供一种X射线单晶衍射仪，包括：所述的衰减装置。

一般来说，在使用时，可在衰减装置外布置防护罩9，应用在具体的检测环境中。

本申请实施例中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：

本申请实施例中提供的X射线单晶衍射仪及其衰减器装置，通过在转盘上布置衰减片组，从而通过电机驱动转盘转动，从而能够调整衰减片组件的分布位置，从而能够对应切换位于X射线轨迹上的衰减片，从而能够实现便捷灵活，高效的衰减控制；同时，由于通过衰减片组进行衰减控制，能够保证衰减的精度，稳定性和可靠性。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“固定”等应做广义理解，例如，“固定”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

另外，在本申请中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本申请要求的保护范围之内。

在本发明的描述中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例进行接合和组合

尽管已描述了本申请的优选实施例，但本领域内的普通技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本申请范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。