显示面板和显示装置

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年12月30日提交的韩国专利申请第10-2020-0187180号的优先权，为了所有目的将其通过引用并入本文，就像在本文中完整阐述一样。

技术领域

本公开内容涉及一种显示面板和显示装置。

背景技术

信息社会的发展导致对各种类型的显示装置的需求增加，并且近年来，诸如液晶显示装置、等离子体显示装置和有机发光显示装置的各种显示装置被利用。

在这些显示装置中，存在一种触摸显示装置，其提供了基于触摸的输入方法，以便用户能够容易、直观、方便地输入信息或命令，而不是传统的输入方法，例如按钮、键盘或鼠标。触摸显示装置可以包括用于感测触摸输入的触摸电极以提供基于触摸的输入方法。

触摸显示装置需要在提供基于触摸的输入方法的同时提供优良的显示质量。在触摸显示装置的显示质量中，可能存在因外部光反射而导致可见度变差的问题。在触摸显示装置中，例如在用于感测触摸输入的触摸电极中可能发生外部光反射。

为了减少外部光反射，显示装置可以包括偏振板。然而，在显示装置中使用偏振板的情况下，偏振板价格昂贵，并且可能存在由于偏振板的布置而限制产品设计的问题。

发明内容

本公开内容的实施方式可以提供一种能够减少外部光反射的显示面板和显示装置。

本公开内容的实施方式可以提供一种即使没有偏振板也能够减少外部光反射的显示面板和显示装置。

一方面，本公开内容的实施方式可以提供一种显示面板，其包括基板、定位在基板上的封装层、定位在封装层上的触摸电极、定位在触摸电极上的纳米结构、定位在纳米结构上的第一绝缘层、以及定位在第一绝缘层上的滤色器。

基板中限定有第一子像素、第二子像素和第三子像素。第一子像素包括发射具有第一颜色的光的第一发光区，第二子像素包括发射具有第二颜色的光的第二发光区，并且第三子像素包括发射具有第三颜色的光的第三发光区。

基板包括定位在第一发光区、第二发光区和第三发光区周围的非发光区。

触摸电极可以包括第一金属层。

纳米结构可以与第一金属层直接接触。

滤色器可以包括定位在第一绝缘层上并且对应于第一子像素的第一转换部分、定位在第一绝缘层上并且对应于第二子像素的第二转换部分、以及定位在第一绝缘层上并且对应于第三子像素的第三转换部分。

纳米结构、第一转换部分和第三转换部分可以被定位成在非发光区中彼此交叠。

触摸电极还可以包括第二金属层。第二金属层可以包括与第一金属层的金属不同的金属，并且第一金属层可以定位在第二金属层上。

触摸电极还可以包括第三金属层，并且第二金属层可以设置在第三金属层上。

第三金属层可以包括与第一金属层的金属不同的金属。

第一金属层和第三金属层可以包括相同的金属。

纳米结构可以包括与第一金属层直接接触的锥形图案层和定位在锥形图案层上的半圆形图案层。

半圆形图案层可以由与锥形图案层的材料不同的材料制成。

锥形图案层可以由与第一金属层的材料不同的材料制成。

锥形图案层可以由无机绝缘体构成。

锥形图案层可以由无机绝缘体构成，半圆形图案层可以由金属氧化物构成，并且半圆形图案层可以与锥形图案层直接接触。

第一金属层和锥形图案层可以由彼此相同的材料制成，并且半圆形图案层可以与锥形图案层直接接触。

纳米结构可以包括不规则地形成的多个不规则部。

不规则地形成的多个不规则部可以由无机绝缘体构成。

在另一方面，本公开内容的实施方式可以提供一种显示装置，其包括显示面板和用于控制显示面板的控制单元。

根据本公开内容的实施方式，可以提供能够减少外部光反射的显示面板和显示装置。

根据本公开内容的实施方式，可以提供一种显示面板和显示装置，其中设置有纳米结构，并且纳米结构、滤色器的第一转换部分和第三转换部分被定位成在非发光区中彼此交叠，从而减少外部光反射。

附图说明

根据下文给出的详细描述和附图，将更全面地理解本申请，附图仅通过示出方式给出，因而并不限制本发明。

图1和图2示意性地示出了根据本公开内容的实施方式的显示装置。

图3示出了根据本公开内容的实施方式的显示装置的显示面板和触摸面板。

图4和图5示出了根据本公开内容的实施方式的显示面板的子像素结构的示例。

图6示出了根据本公开内容的实施方式的网格型触摸电极的区域与显示装置的子像素区域之间的对应关系。

图7和图8是根据本公开内容的比较例的显示面板的示意性截面图。

图9是根据本公开内容的比较例的显示装置的平面的示意图。

图10和图11是根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置的示意性截面图。

图12示出了根据本公开内容的实施方式的显示装置的纳米结构。

图13是示出根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置的平面的示意图。

图14至图19是用于说明制造根据本公开内容的实施方式的显示装置的方法的图。

图20和图21是根据本公开内容的实施方式的纳米结构的显微照片。

图22至图30是用于说明制造根据本公开内容的实施方式的显示装置的方法的图。

图31是根据本公开内容的实施方式的纳米结构的显微照片。

图32至图34是用于说明制造根据本公开内容的实施方式的显示装置的方法的图。

具体实施方式

在本公开内容的示例或实施方式的以下描述中，将参考附图，其中通过说明的方式示出可以实施的具体示例或实施方式，并且其中相同的附图标记可以用来表示相同或相似的部件，即使它们在彼此不同的附图中示出亦如此。此外，在本公开内容的示例或实施方式的以下描述中，当确定描述可能使本公开内容的一些实施方式中的主题变得相当不清楚时，将省略对并入本文的公知功能和部件的详细描述。本文使用的诸如“包括”、“具有”、“包含”、“构成”、“组成”和“由…形成”的术语通常旨在允许添加其他部件，除非这些术语与术语“仅”一起使用。如本文所用，单数形式旨在包括复数形式，除非上下文另有明确指示。

可以在本文中使用诸如“第一”、“第二”、“A”、“B”、“(A)”或“(B)”的术语来描述本公开内容的元素。这些术语中的每一个不用于限定元素的本质、顺序、次序或数目等，而仅用于将相应元素与其他元素区分开来。

当提到第一元件“连接或耦接至”第二元件、“接触或交叠”第二元件等等时，应当解释为，第一元件不仅可以“直接连接或耦接至”第二元件或“直接接触或交叠”第二元件，而且也可以在第一元件与第二元件之间“插入”第三元件，或者第一元件和第二元件可以经由第四元件彼此“连接或耦接”、“接触或交叠”等。这里，第二元件可以包括在彼此“连接或耦接”、“接触或交叠”等的两个或更多个元件中的至少一个中。

当诸如“之后”、“随后”、“下一步”、“之前”等时间相关术语用于描述元件或配置的过程或操作，或操作、加工、制造方法中的流程或步骤时，这些术语可以用于描述非接续或非连续的过程或操作，除非将术语“直接”或“紧接”一起使用。

此外，当提及任何大小、相对尺寸等时，应考虑元件或特征的数值或相应信息(例如，水平、范围等)包括容差或误差范围，即使未指定相关描述，这些容差或误差范围也可以由各种因素(例如，过程因素、内部或外部影响、噪音等)引起。此外，术语“可以”完全包含术语“能够”的所有含义。

图1是示出了根据本公开内容的显示装置的实施方式的结构图。

参照图1，根据本公开内容的实施方式的显示装置10可以包括：显示面板100，其包括有源区域A/A和非有源区域N/A；栅极驱动电路GDC；数据驱动电路DDC；以及作为控制单元的控制器CTR。

在显示面板100中，设置有多条栅极线GL和多条数据线DL，并且在栅极线GL和数据线DL相交的区域中可以设置子像素SP。此外，显示面板100可以是液晶面板。液晶面板可以包括像素电极、公共电极以及设置在像素电极与公共电极之间的液晶层。液晶层可以通过响应于施加至像素电极和公共电极的电压使分子排列变形以阻挡或透射光来显示图像。

栅极驱动电路GDC由控制器CTR控制，并且可以顺序地向设置在显示面板100上的多条栅极线GL输出扫描信号，以控制多个子像素SP的驱动时序。

数据驱动电路DDC可以从控制器CTR接收图像数据并将图像数据转换成模拟数据电压。数据驱动电路DDC根据通过栅极线GL施加扫描信号的时序向每条数据线DL输出数据电压，使得每个子像素SP可以根据图像数据呈现亮度。

控制器CTR可以向栅极驱动电路GDC和数据驱动电路DDC提供各种控制信号，并且可以控制栅极驱动电路GDC和数据驱动电路DDC的操作。

显示装置10还可以包括用于向显示面板100、栅极驱动电路(GDC)、数据驱动电路(DDC)等提供各种电压或电流、或者控制各种待提供的电压或电流的电力管理集成电路。

根据本实施方式的显示装置10可以是有机发光显示装置、液晶显示装置、等离子体显示装置等。

在根据本实施方式的显示装置10是有机发光显示装置的情况下，布置在显示面板100上的每个子像素SP可以包括诸如作为自发光元件的有机发光二极管(OLED)以及用于驱动有机发光二极管的驱动晶体管的电路元件。

可以根据提供的功能和设计方法不同地确定构成每个子像素SP的电路元件的类型和数目。

图2示意性地示出了根据本公开内容的实施方式的显示装置。

参照图2，根据实施方式的显示装置10可以提供用于显示图像的图像显示功能和用于感测用户的触摸的触摸感测功能。

根据实施方式的显示装置10可以包括：用于显示图像的其上设置有数据线和栅极线的显示面板100，和用于驱动显示面板100的显示驱动电路101。

显示驱动电路101在功能上可以包括用于驱动数据线的数据驱动电路、用于驱动栅极线的栅极驱动电路、以及用于控制栅极驱动电路和数据驱动电路的控制器。

显示驱动电路101可以用一个或更多个集成电路来实现。

根据实施方式的显示装置10可以包括：用于触摸感测的触摸面板TSP，其上设置有多个触摸电极TE作为触摸传感器，并且其上设置有电连接至多个触摸电极TE的全部或一部分的多个触摸线TL；以及触摸电路102，其用于通过驱动触摸面板TSP来感测触摸的存在或触摸位置。

触摸电路102可以向触摸面板TSP提供触摸驱动信号以驱动触摸面板TSP，检测来自触摸面板TSP的触摸感测信号，并且感测是否存在触摸和/或触摸位置(触摸坐标)。

触摸电路102可以实现为一个或更多个部件(例如，集成电路)，并且可以与显示驱动电路101分开实现。

另外，触摸电路102的全部或一部分可以通过与显示驱动电路101或其内部电路集成来实现。例如，触摸电路102的触摸驱动电路可以与显示驱动电路101的数据驱动电路一起实现为集成电路。

同时，根据实施方式的显示装置10可以基于形成在触摸电极TE中的电容来感测触摸。

另外，根据实施方式的显示装置10的显示面板100可以是各种类型，例如有机发光二极管面板(OLED面板)、液晶显示面板(LCD面板)等。在下文中，为了便于说明，主要以有机发光二极管面板(OLED面板)为例进行说明。

参照图3，显示面板100包括显示图像的有源区域A/A和作为有源区域A/A之外的区域的非有源区域N/A。这里，有源区域A/A也称为显示区域，并且非有源区域N/A也称为非显示区域。

由数据线和栅极线限定的多个子像素可以布置在有源区域A/A中。

在非有源区域A/A中，可以设置有用于将有源区域A/A中的数据线、栅极线和各种信号线连接至显示驱动电路101的线和焊盘。

多个触摸电极TE和多条触摸线TL可以设置在触摸面板TSP上。

多个触摸电极TE可以被定位成对应于显示面板100的有源区域A/A。

多条触摸线TL可以被定位成对应于显示面板100的非有源区域N/A。

也就是说，多条触摸线TL可以设置在设置有多个触摸电极TE的触摸电极区域(有源区域A/A或相应区域)之外。

触摸面板TSP可以内置于显示面板100或在显示面板100外部。

如上所述，触摸电极TE设置在显示面板100的有源区域A/A中，并且触摸线TL设置在显示面板100的非有源区域N/A中，使得可以提供与显示状态匹配的触摸感测。

图4和图5示出了根据实施方式的显示装置的子像素结构的示例。

图4和图5示出了在根据实施方式的显示装置的显示面板是有机发光显示面板的情况下子像素结构的示例。

参照图4和图5，在根据实施方式的显示装置10是有机发光显示装置的情况下，每个子像素基本上包括：有机发光二极管(OLED)；驱动晶体管DRT，其用于驱动有机发光二极管；第一晶体管T1，其用于将数据电压传输至与驱动晶体管DRT的栅极节点对应的第一节点N1；以及存储电容器Cst，其用于将与图像信号电压对应的数据电压或与其对应的电压保持一帧时间。

有机发光二极管(OLED)可以包括第一电极(例如，阳极电极或阴极电极)、有机层和第二电极(例如，阴极电极或阳极电极)。有机层包括一个或更多个发光层，并且还可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层、电荷产生层等。

接地电压EVSS可以被施加至有机发光二极管(OLED)的第二电极。

驱动晶体管DRT可以通过向有机发光二极管提供驱动电流来驱动有机发光二极管。

驱动晶体管DRT可以包括第一节点Nl、第二节点N2和第三节点N3。

驱动晶体管DRT的第一节点Nl是对应于栅极节点的节点，并且可以电连接至第一晶体管Tl的源极节点或漏极节点。

驱动晶体管DRT的第二节点N2可以电连接至有机发光二极管OLED的第一电极，并且可以是源极节点或漏极节点。

驱动晶体管DRT的第三节点N3是用于施加驱动电压EVDD的节点，并且可以电连接至用于提供驱动电压EVDD的驱动电压线DVL，并且可以是漏极节点或源极节点。

第一晶体管T1可以电连接在数据线DL与驱动晶体管DRT的第一节点N1之间，并且可以通过经由栅极线在栅极节点处接收扫描信号SCAN被控制。

第一晶体管Tl可以通过扫描信号SCAN导通以将从数据线DL提供的数据电压Vdata传输至驱动晶体管DRT的第一节点Nl。

存储电容器Cst可以电连接在驱动晶体管DRT的第一节点N1与第二节点N2之间。

存储电容器Cst不是作为存在于驱动晶体管DRT的第一节点Nl与第二节点N2之间的内部电容器的寄生电容器(例如，Cgs、Cgd)，而是有意设计在驱动晶体管DRT外部的外部电容器。

同时，对于驱动晶体管DRT的第二节点N2的电压控制，或对于感测子像素的特征值(例如，驱动晶体管DRT的阈值电压或迁移率、有机发光二极管的阈值电压等)，如图5所示，每个子像素还可以包括第二晶体管T2。

第二晶体管T2可以电连接在驱动晶体管DRT的第二节点N2与提供参考电压Vref的参考电压线RVL之间，并且可以通过在栅极节点处接收作为一种扫描信号的感测信号SENSE被控制。

第二晶体管T2可以由感测信号SENSE导通，以将通过参考电压线RVL提供的参考电压Vref施加至驱动晶体管DRT的第二节点N2。

此外，第二晶体管T2可以用作驱动晶体管DRT的第二节点N2的电压感测路径之一。

同时，扫描信号SCAN和感测信号SENSE可以是分开的栅极信号。在这种情况下，扫描信号SCAN和感测信号SENSE可以通过不同的栅极线分别施加至第一晶体管T1的栅极节点和第二晶体管T2的栅极节点。

在一些情况下，扫描信号SCAN和感测信号SENSE可以是同一栅极信号。在这种情况下，扫描信号SCAN和感测信号SENSE可以通过同一栅极线共同施加至第一晶体管T1的栅极节点和第二晶体管T2的栅极节点。

驱动晶体管DRT、第一晶体管Tl和第二晶体管T2中的每一个可以是n型晶体管或p型晶体管。

图6示出了根据本公开内容的实施方式的显示装置10中的网格型触摸电极TE的区域与子像素区域之间的对应关系。

参照图6，在根据示例性实施方式的显示装置10中，多个触摸电极TE中的每一个可以是其中通过以网格型被图案化而存在孔OA的电极金属EM。这里，孔OA也称为开放区域。

在通过将电极金属EM图案化成网格型而形成的触摸电极TE中，每个孔OA可以对应于一个或更多个子像素的发光区。

例如，在显示面板100是LCD面板的情况下，子像素的发光区可以包括像素电极或滤色器。在显示面板100是OLED面板的情况下，子像素的发光区可以包括有机发光二极管的阳极电极、有机发光层等，在一些情况下，可以包括滤色器等。

如上所述，当在平面图中观看时，触摸电极TE的电极金属EM被图案化，其中一个或更多个子像素的发光区对应于存在于触摸电极TE的区域中的开放区域OA中的每一个的位置，使得即使电极金属EM由不透明材料制成，也可提高显示面板100的发光效率。

图7简要地示出了根据本公开内容的比较例的显示面板的截面。

参照图7，显示面板200可以包括封装层220、定位在封装层220上的触摸电极230、定位在触摸电极230上的第一绝缘层250、定位在第一绝缘层250上的滤色器260、以及定位在第一绝缘层250上的黑矩阵270。

触摸电极230可以是诸如上述触摸电极TE和触摸线TL的触摸传感器金属。触摸电极230可以包括与子像素的发光区对应的孔OA。

滤色器260可以定位在触摸电极230上，并且可以包括第一转换部分261、第二转换部分262和第三转换部分263。第一转换部分261可以是用于透射具有第一颜色的光的滤光器，第二转换部分262可以是透射具有第二颜色的光的滤光器，并且第三转换部分263可以是透射具有第三颜色的光的滤光器。

黑矩阵270可以定位在第一转换部分261、第二转换部分262和第三转换部分263中的两个相邻转换部分之间。

黑矩阵270可以定位成与触摸电极230交叠。

在本说明书中，部件被定位成与另一个部件交叠可以指另一个部件在竖直截面上竖直地定位在该部件的上方或下方。

由于黑矩阵270定位成与触摸电极230交叠，因此即使显示面板200外部的光传播以被触摸电极230反射，黑矩阵270也可以阻挡外部光以减少外部光反射。

图8是根据比较例的显示面板的截面图。

参照图8，根据比较例的显示面板200可以包括基板210、定位在基板210上的第一电极215、定位在第一电极215上的堤层216、定位在第一电极215和堤层216上的有机层217、定位在有机层217和堤层216上的第二电极218、定位在第二电极218上的封装层220、定位在封装层220上的触摸电极230、定位在触摸电极230上的第一绝缘层250、定位在第一绝缘层上的黑矩阵270、以及定位在第一绝缘层250上的滤色器260。

包括第一发光区211a的第一子像素211和包括第二发光区212a的第二子像素212可以限定在基板210上。

黑矩阵270可以定位成与触摸电极230交叠，从而可以在朝向触摸电极230入射的外部光L1到达触摸电极230之前将其阻挡。因此，可以通过减弱从触摸电极230反射的光L2的强度而使显示面板200的反射率降低。

图9示出了根据本公开内容的比较例的显示面板200的发光区和非发光区。

参照图9，显示面板200可以包括第一发光区211a、第二发光区212a、第三发光区213a和非发光区214。由于发光区是从有机层产生的光被发射的区域，如果黑矩阵与发光区交叠，则可能存在显示面板200的效率降低的问题。因此，需要通过图案化过程形成黑矩阵以与非发光区214交叠。然而，由于图案化过程是使用需要大量成本和时间的诸如光刻法的方法进行，因此根据比较例的显示面板200的问题在于，需要单独的图案化过程来形成黑矩阵270。

图10是根据本公开内容的实施方式的显示面板100的示意性截面图。

显示面板100可以包括封装层120、定位在封装层120上的触摸电极130、定位在触摸电极130上的第一绝缘层150、和定位在第一绝缘层150上的滤色器160。

封装层120是用于保护显示面板100中包括的诸如有机发光二极管(OLED)的电路元件免受显示面板100外部的水分和氧气影响的层。封装层120可以是单层或多层，并且可以是选自有机层和无机层中的一种或更多种。

第一绝缘层150是用于使触摸电极130平坦化的层。第一绝缘层150可以是单层或多层，并且可以是选自有机层和无机层中的至少一种。

滤色器160可以包括第一转换部分161、第二转换部分162和第三转换部分163。第一转换部分至第三转换部分可以是透射具有特定颜色的光并阻挡具有其余颜色的光的滤光器。例如，第一转换部分161可以透射具有第一颜色的光并且阻挡具有第二颜色和第三颜色的光，并且第二转换部分162可以透射具有第二颜色的光并且阻挡具有第一颜色和第三颜色的光，并且第三转换部分163可以透射具有第三颜色的光并且阻挡具有第一颜色和第二颜色的光。

第一转换部分161和第三转换部分163可以被定位成在非发光区114中交叠。在第一转换部分161和第三转换部分163彼此交叠的区域中，被第一转换部分161阻挡的光和被第三转换部分163阻挡的光可以被阻挡。因此，与根据比较例的显示面板100不同，即使显示面板100不包括黑矩阵，显示面板100也可以防止外部光被触摸电极130反射，从而减少外部光反射。

图11是根据本公开内容的实施方式的显示面板100的截面图。

根据本公开内容的实施方式的显示面板100可以包括基板110、定位在基板上的封装层120、定位在封装层上的触摸电极130、定位在触摸电极上的纳米结构140、定位在纳米结构上的第一绝缘层150、以及定位在第一绝缘层150上的滤色器160。

显示面板100可以包括基板110、定位在基板110上的第一电极115、定位在第一电极115上的堤层116、定位在第一电极115和堤层116上的有机层117、定位在有机层117上的第二电极118、定位在第二电极118上的封装层120、定位在封装层120上的触摸电极130、定位在触摸电极130上的纳米结构140、定位在纳米结构140上的第一绝缘层150、和定位在第一绝缘层150上的滤色器160。

第一子像素111、第二子像素(未示出)和第三子像素113被限定在基板110上。第一子像素111包括用于发射具有第一颜色的光的第一发光区111a，第二子像素包括用于发射具有第二颜色的光的第二发光区(未示出)，并且第三子像素113包括用于发射具有第三颜色的光的第三发光区113a。

基板110包括第一发光区111a、第二发光区(未示出)、第三发光区113a和定位在第一发光区111a、第二发光区和第三发光区113a周围的非发光区114。

触摸电极130可以包括第一金属层131。第一金属层131的类型没有特别限制，但是可以包括例如选自钛(Ti)、钼(Mo)、铝(Al)和铜(Cu)中的一种或更多种。

触摸电极可以包括第二金属层132。第二金属层132可以包括与第一金属层131的金属不同的金属，并且第一金属层131可以定位在第二金属层132上。

第二金属层132的类型没有特别限制，但是可以包括例如选自钛(Ti)、钼(Mo)、铝(Al)和铜(Cu)中的一种或更多种。

触摸电极可以包括第三金属层133，并且第二金属层132可以定位在第三金属层133上。第三金属层133可以包括与第一金属层131的金属不同的金属。

第三金属层133的类型没有特别限制，但是可以包括例如选自钛(Ti)、钼(Mo)、铝(Al)和铜(Cu)中的一种或更多种。

第一金属层131和第三金属层133可以包括相同的金属。

触摸电极130可以具有从顶部开始为第一金属层131/第二金属层132/第三金属层133的结构。图11示出了具有这样的结构的触摸电极130，然而，根据本公开内容的实施方式的显示面板的触摸电极130不限于此。

触摸电极130包括第一金属层131、第二金属层132和第三金属层133。第一金属层131可以是Ti，第二金属层132可以是Al，并且第三金属层133可以是Ti。

纳米结构140可以与第一金属层131直接接触。

纳米结构140的形状和尺寸没有特别限制，只要其具有针对到达纳米结构140的外部光能够呈现出雾度(haze)特性的形状。由于纳米结构140包括能够实现雾度的结构，因此可以防止到达触摸电极130的光被反射。

滤色器160定位在第一绝缘层150上并且可以包括对应于第一子像素111的第一转换部分161、定位在第一绝缘层150上并且对应于第二子像素(未示出)的第二转换部分(未示出)、以及定位在第一绝缘层150上并且对应于第三子像素113的第三转换部分163。

纳米结构140、第一转换部分161和第三转换部分163可以定位成在非发光区114中交叠。由于纳米结构140、第一转换部分161和第三转换部分163在非发光区114中彼此交叠，因此可以显著减少外部光反射。

朝向定位在非发光区114中的触摸电极130入射的光L1的强度在穿过定位成在非发光区114中交叠的第一转换部分161和第三转换部分163时减弱。其强度通过穿过第一转换部分161和第三转换部分163减弱的光L2可以到达定位在触摸电极130上的纳米结构140。由于纳米结构140包括能够实现雾度的结构，光L2的强度在到达纳米结构140后可能非常微弱或可能被阻挡。因此，反射到外部的光L3的强度因第一转换部分161、第三转换部分163和纳米结构140而非常弱，因此显示面板100可以具有关于外部光的低反射率。

根据上述结构，与比较例不同，即使不形成黑矩阵时，显示面板100也可以具有低的外部光反射率，从而可以省略形成黑矩阵的过程，从而减少制造成本和时间。

图12示出了根据本公开内容的实施方式的纳米结构140。

参照图12，纳米结构140可以包括与第一金属层131直接接触的锥形图案层141和定位在锥形图案层141上的半圆形图案层142。

锥形图案层141是具有大致锥形形状的图案层，并且可以具有锥体的上部被切去的形状。

锥形图案层141的材料没有特别限制，但是例如可以包括选自钛(Ti)、钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、硅氧化物(SixOy)、硅氮化物(SixNy)、氮硅氧化物(SiNxOy)、铟锡氧化物(ITO，Indium Tin Oxide)、铟镓氧化物(IGO)、铟锌氧化物(IZO，Indium Zinc Oxide)和铟镓锌氧化物(IGZO，Indium Gallium Zinc Oxide)中的一种或更多种。

锥形图案层141在竖直截面上可以具有例如从与第一金属层131直接接触的基部起100nm至500nm的高度。

半圆形图案层142是具有大致半圆形形状的图案层，位于锥形图案层141上，并且可以具有与锥形图案层141相对的凸侧。

半圆形图案层142的材料没有特别限定，但是例如可以包括选自钛(Ti)、钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、硅氧化物(SixOy)、硅氮化物(SixNy)、氮硅氧化物(SiNxOy)、铟锡氧化物(ITO，Indium Tin Oxide)、铟镓氧化物(IGO，Indium Gallium Oxide)、铟锌氧化物(IZO，Indium Zinc Oxide)和铟镓锌氧化物(IGZO，Indium Gallium Zinc Oxide)中的一种或更多种。

半圆形图案层142在竖直截面上可以具有例如从与锥形图案层141直接接触的基部起10nm至100nm的最大高度。

在纳米结构140包括上述锥形图案层141和半圆形图案层142的情况下，纳米结构140可以通过简单的过程容易地形成。

半圆形图案层142可以由与锥形图案层141的材料不同的材料制成。如果半圆形图案层142和锥形图案层141由不同的材料制成，纳米结构140可以通过简单的过程容易地形成。

锥形图案层141可以由与第一金属层131的材料不同的材料制成。如果锥形图案层141由与第一金属层131的材料不同的材料制成，纳米结构140可以通过简单的过程容易地形成。

锥形图案层141可以由无机绝缘体构成。例如，锥形图案层可以由二氧化硅(SiO2)制成。

锥形图案层141可以由无机绝缘体构成，半圆形图案层142可以由金属氧化物构成，并且半圆形图案层可以与锥形图案层直接接触。例如，锥形图案层可以由二氧化硅(SiO2)制成，并且半圆形图案层可以由铟锡氧化物(ITO)制成。

第一金属层131和锥形图案层141可以由相同的材料制成，并且半圆形图案层142可以直接接触锥形图案层141。例如，第一金属层131和锥形图案层141可以由钛(Ti)制成，并且半圆形图案层142可以由铟锡氧化物(ITO)制成。

在除了图12所示的实施方式之外的实施方式中，纳米结构140可以包括不规则地形成的多个不规则部。

多个不规则部可以由无机绝缘体构成。例如，多个不规则部可以由二氧化硅(SiO2)制成。

在纳米结构140具有与上述相同的结构的情况下，纳米结构140可以具有针对到达纳米结构140的光的雾度特性，从而显示面板可以具有低的外部光反射率。

图13是根据本公开内容的实施方式的显示面板的平面图。

参照图13，显示面板100可以包括第一发光区111a、第二发光区112a、第三发光区113a和非发光区114。非发光区114可以定位在第一发光区111a、第二发光区112a和第三发光区113a周围。

在第一发光区111a中，可以仅定位有滤色器的转换部分中的第一转换部分，在第二发光区112a中，可以仅定位有滤色器的转换部分中的第二转换部分，在第三发光区113a中，可以仅定位有滤色器的转换部分中的第三转换部分。因此，显示面板可以在第一子像素中发射具有第一颜色的光，在第二子像素中发射具有第二颜色的光，并且在第三子像素中发射具有第三颜色的光。

在非发光区114的全部或一部分中，滤色器的第一转换部分和第三转换部分可以定位成彼此交叠。因此，由于第一转换部分和第三转换部分可以阻挡外部光入射到位于非发光区114中的触摸电极上，所以显示面板可以具有低的外部光反射率。

图14至图19是用于说明制造根据本公开内容的实施方式的显示面板的方法的图。

图14示出了在根据本公开内容的实施方式的显示面板100的制造过程中的特定阶段的显示面板100。图14是显示面板100的有源区域的一部分和非有源区域的一部分的截面图。

参照图14，根据本公开内容的实施方式的显示面板100可以包括基板110、定位在基板110上的电极金属119a、定位在电极金属119a上的平坦化层119c、定位在平坦化层119c上的第一电极115、定位在第一电极115上的有机层117、定位在平坦化层119c和第一电极115上的堤层116、定位在有机层117和堤层116上的第二电极118、定位在第二电极上的封装层120、定位在封装层120上的触摸电极130、以及定位在触摸电极130上的锥形图案层141和半圆形图案层142。

显示面板100可以包括在非有源区域中的焊盘119b。

图14所示的触摸电极130、锥形图案层141和半圆形图案层142可以通过图案化形成为上述根据本公开内容的实施方式的显示面板的触摸电极、锥形图案层以及半圆形图案层。

在本说明书中，为了便于描述，在描述根据本公开内容的实施方式的制造显示面板的方法时，将通过与最后阶段中的显示面板的部件相对应的附图标记来指代中间阶段中的一些部件。然而，根据本公开内容的实施方式的显示面板的相应部件的结构和形状不限于附图中所示的用于说明制造方法的中间步骤的结构和形状。

电极金属119a用于驱动根据本公开内容的实施方式的显示面板和显示装置，例如可以是被施加驱动电压EVDD、基极电压EVSS或参考电压Vref的电极。

封装层120可以包括第二绝缘层121、第三绝缘层122、第四绝缘层123、第五绝缘层124和第六绝缘层125。

显示面板100可以包括定位在第五绝缘层124上的桥134。桥134可以与触摸电极130接触。

触摸电极130可以包括第一金属层131，并且第一金属层131可以包括钛(Ti)。

如图14所示，触摸电极130、锥形图案层141和半圆形图案层142可以顺序地形成在显示面板100的整个区域上方。

锥形图案层141可以由二氧化硅(SiO2)制成，并且半圆形图案层142可以由铟锡氧化物(ITO)制成。

图15示出了在图14的显示面板100中执行半圆形图案层142的蚀刻过程的情况。参照图15，如果半圆形图案层142和锥形图案层141由不同的材料制成，则可以仅选择性地蚀刻半圆形图案层142。例如，在锥形图案层141是二氧化硅(SiO2)并且半圆形图案层142是铟锡氧化物(ITO)的情况下，可以在酸性条件下湿蚀刻半圆形图案层142，从而可以制造图15所示的显示面板100。

另外，如图15所示，对半圆形图案层142的蚀刻过程可以进行到保留半圆形图案层142的一部分的程度。

图16示出了在图15所示的显示面板上进行锥形图案层141的蚀刻过程的情况。例如，在锥形图案层141由二氧化硅(SiO2)制成并且半圆形图案层142由铟锡氧化物(ITO)制成的情况下，当对锥形图案层141进行干蚀刻时，由于剩余的半圆形图案层142可以防止定位在其下方的锥形图案层141被蚀刻，因此可以制造图16所示的显示面板100。

另外，通过图16所示的剩余半圆形图案层142，定位在半圆形图案层142下方的锥形图案层141可以具有锥体的上部被切去的形状。

图17示出了对图16所示的显示面板进行光刻胶图案化的情况。光刻胶PR可以通过图案化形成为与非发光区114交叠。

图18示出了在图17所示的显示面板中触摸电极130被蚀刻的情况。由于除了被光刻胶PR保护的部分之外的区域被蚀刻，触摸电极130可以包括与子像素111、112和113的发光区111a、112a和113a对应的孔OA或开放区域。

图19示出了在图18所示的显示面板中的触摸电极130和纳米结构140上形成第一绝缘层150之后，在焊盘119b中形成接触孔的步骤。如图14至图19所示，在根据本公开内容的实施方式的显示面板100中，可以容易地形成纳米结构140。

图20和图21是通过图14至图19形成的纳米结构的显微照片。参照图20和图21，可以看出纳米结构具有包括锥形图案层和半圆形图案层的结构。

图22至图27是用于说明制造根据本公开内容的实施方式的显示面板的方法的图。

参照图22，根据本公开内容的实施方式的显示面板100可以包括基板110、定位在基板110上的电极金属119a、定位在电极金属119a上的平坦化层119c、定位在平坦化层119c上的第一电极115、定位在第一电极115上的有机层117、定位在平坦化层119c和第一电极115上的堤层116、定位在有机层117和堤层116上的第二电极118、定位在第二电极上的封装层120、定位在封装层120上的触摸电极130和锥形图案层141、以及定位在触摸电极130上的半圆形图案层142。

第一金属层131和锥形图案层141可以通过稍后描述的制造过程由图22的一个层130、131和141形成。一个层130、131或141可以包括例如钛(Ti)。

图23示出了在图22的显示面板100中执行半圆形图案层142的蚀刻过程的情况。参照图23，在半圆形图案层142和锥形图案层141由不同的材料制成的情况下，可以仅选择性蚀刻半圆形图案层142。例如，如果第一金属层131和锥形图案层141由钛(Ti)制成并且半圆形图案层142由铟锡氧化物(ITO)制成，则可以在酸性条件下湿蚀刻半圆形图案层142以制造图23所示的显示面板100。

另外，如图23所示，半圆形图案层142的蚀刻过程可以执行到保留半圆形图案层142的一部分的程度。

图24示出了在图23所示的显示面板上执行锥形图案层141的蚀刻过程的情况。例如，在锥形图案层141由钛(Ti)制成并且半圆形图案层142由铟锡氧化物(ITO)制成的情况下，当对锥形图案层141进行干蚀刻时，剩余的半圆形图案层142可以防止位于下方的锥形图案层141被蚀刻，因此可以制造图24所示的显示面板100。

另外，通过图24所示的剩余半圆形图案层142，位于半圆形图案层142下方的锥形图案层141可以具有锥体的上部被切去的形状。

图25示出了在图24所示的显示面板中进行光刻胶图案化的情况。光刻胶PR可以通过图案化形成为与非发光区114交叠。

图26示出了在图25所示的显示面板中蚀刻触摸电极130的状态。由于除了被光刻胶PR保护的部分之外的区域被蚀刻，因此触摸电极130可以包括与子像素111、112和113的发光区111a、112a和113a对应的孔OA或开放区域。

图27示出了在图26所示的显示面板中的触摸电极130和纳米结构140上形成第一绝缘层150之后在焊盘119b中形成接触孔的状态。如图22至图27所示，在根据本公开内容的实施方式的显示面板100中，可以容易地形成纳米结构140。

图28至图33是用于说明制造根据本公开内容的实施方式的显示面板的方法的图。

参照图28，根据本发明的实施方式的显示面板100可以包括基板110、定位在基板110上的电极金属119a、定位在电极金属119a上的平坦化层119c、定位在平坦化层119c上的第一电极115、定位在第一电极115上的有机层117、定位在平坦化层119c和第一电极115上的堤层116、定位在有机层117和堤层116上的第二电极118、定位在第二电极上的封装层120、定位在封装层120上的触摸电极130、以及定位在触摸电极130上的纳米结构140。

触摸电极130可以包括第一金属层131，并且第一金属层131可以包括钛(Ti)。

纳米结构140可以包括二氧化硅(SiO2)。由于纳米结构140是在其下形成诸如有机发光二极管(OLED)的电路元件之后形成的，所以纳米结构140可以在低温过程中形成，并且例如可以包括在低温过程中形成的二氧化硅(SiO2)。

图29示出了在图28所示的显示面板上执行纳米结构140的蚀刻过程的状态。例如，在纳米结构140由在低温过程中形成的二氧化硅(SiO2)制成的情况下，当进行湿蚀刻时，由于二氧化硅(SiO2)在低温下形成的特性，在表面上可能形成多个不规则部。

图30示出了在图29所示的显示面板中进行光刻胶图案化的状态。光刻胶PR可以通过图案化形成为与非发光区114交叠。

图31是通过直到图30的制造方法形成的纳米结构140的显微照片。参照图31，纳米结构140可以包括不规则地形成的多个不规则部。

图32示出了在图30所示的显示面板中蚀刻纳米结构140和触摸电极130的情况。由于除了被光刻胶PR保护的部分之外的区域被蚀刻，所以触摸电极130可以形成为包括与子像素111、112和113的发光区111a、112a和113a对应的孔OA或开放区域。

图33示出了在图32所示的显示面板中的触摸电极130和纳米结构140上形成第一绝缘层150之后在焊盘119b中形成接触孔的状态。如图28至图33所示，在根据本公开内容的实施方式的显示面板100中，可以容易地形成包括多个不规则地形成的不规则部的纳米结构140。

图34示出了在形成第一绝缘层150之后形成滤色器160的显示面板。

参照图34，在形成第一绝缘层150之后，可以在第一绝缘层150上形成包括第一转换部分161、第二转换部分162和第三转换部分163的滤色器160。

在非发光区114中，滤色器的第一转换部分161和第三转换部分163可以定位成彼此交叠。

在该示例中，第一颜色可以是红色，第二颜色可以是绿色，并且第三颜色可以是蓝色。

在另一方面，本公开内容的实施方式可以提供一种显示装置，其包括显示面板和用于驱动显示面板的控制单元。

在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，显示面板与对于根据本公开内容的实施方式的显示面板描述的相同，因此将省略重复描述。

以上描述被呈现以使本领域的任何技术人员能够实现和使用本发明的技术构思，并且在特定应用及其要求的上下文中被提供。对所描述的实施方式的各种修改、添加和替换对于本领域技术人员来说将是明显的，并且在不脱离本发明的精神和范围的情况下，本文中定义的一般原理可以应用于其他实施方式和应用。以上描述和附图仅出于说明的目的提供了本发明的技术构思的示例。也就是说，所公开的实施方式旨在说明本发明的技术构思的范围。因此，本发明的范围不限于所示的实施方式，而是与和权利要求一致的最宽范围相一致。本发明的保护范围应基于所附权利要求来理解，并且在其等同范围内的所有技术构思均应理解为包含在本发明的范围内。