一种抗腐蚀金属导电线路光学胶膜

技术领域

本发明涉及胶粘剂技术领域，尤其涉及一种抗腐蚀金属导电线路光学胶膜。

背景技术

印刷电路板是在绝缘基材上，制作出供元器件之间电气连接的导电图形，采用印刷蚀刻阻剂的工法，做出电路的线路及图面。因其具有装配密度高等优点而得到了广泛的应用。金属导电线路是印刷电路板的关键部件，其抗腐蚀性尤为重要，为了提高其抗腐蚀性，保护电路，通过采用光学胶膜将电路板与其它模组进行组装。可见，发展综合性能和性能稳定性优异的透明印刷电路板的瓶颈之一是如何开发一种综合性能和性能稳定性佳的光学胶膜。

现有的光学胶普遍存在着润湿性较差的问题，从而导致将其涂布在基材上制备光学胶膜时易出现缩孔，降低了光学胶膜的良品率。此外，现有光学胶形成的光学胶膜还存在着粘性和剥离性较差、耐老化性不足、耐高温性能不足的问题，难以满足印刷电路板用抗腐蚀金属导电线路的使用要求。

为了解决上述问题，中国发明专利文献CN107353854B公开了一种OCA光学胶和OCA光学胶膜。该发明提供的OCA光学胶以重量份数计，包括：含可交联基团的饱和聚丙烯酸酯10～40份；含不饱和键的低聚物20～40份；稀释剂20～40份；光引发剂0.5～5份；交联剂0.1～2份。该发明通过对光学胶的组成成分进行优化选择，获得了性能优异的OCA光学胶，该OCA光学胶涂布润湿性优良，涂布在基材上不会出现缩孔；由该光学胶制备得到的OCA光学胶膜具有较高的粘性，且贴合显示材料上不容易残胶，胶膜具有较好的剥离性。该发明还提供了一种OCA光学胶膜，该OCA光学胶膜由上述OCA光学胶经涂布和固化后形成，具有较高的粘性和较好的剥离性。然而，其耐老化性、耐高温性仍有待进一步提高。

可见，本领域仍然需要一种耐老化性、耐高温性优异，粘结性能佳的抗腐蚀金属导电线路光学胶膜。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种耐老化性、耐高温性优异，粘结性能佳的抗腐蚀金属导电线路光学胶膜。

为达到以上目的，本发明提供一种抗腐蚀金属导电线路光学胶膜，包括如下按重量份计的各原料制成：降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物30-40份、共轭二烯类单体1-3份、巯基化合物4-6份、催化剂0.5-0.8份、2,4,6-三乙烯基环硼氧烷1-3份、氨基封端的超支化聚酰亚胺3-5份、2,6-二(环氧乙烷-2-甲基)-1,2,3,5,6,7-六氢吡咯并[3,4-f]异吲哚-1,3,5,7-四酮0.6-1.2份、抗氧剂0.1-0.4份、溶剂40-60份；所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物是由5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺通过酰胺化缩聚反应制成。

优选的，所述溶剂为N-甲基吡咯烷酮、丁酮按质量比1:(1-3)混合形成的混合物。

优选的，所述抗氧剂为抗氧剂1010、抗氧剂168中的至少一种。

优选的，所述氨基封端的超支化聚酰亚胺的来源无特殊要求，在本发明的一个实施例中，所述氨基封端的超支化聚酰亚胺是按中国专利文献CN107789677B中实施例1的方法制成。

优选的，所述催化剂为2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、偶氮二异丁腈按质量比1:(3-5)混合形成的混合物。

优选的，所述巯基化合物为双巯基乙酸乙二醇酯、2,5-二巯基噻二唑、4,6-二氨基-2-巰基嘧啶按质量比1:1:(0.3-0.5)混合形成的混合物。

优选的，所述共轭二烯类单体为2-甲基-1,3-丁二烯、1,3-丁二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯中的至少一种。

优选的，所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物的制备方法，包括如下步骤：将5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、4-二甲氨基吡啶、高沸点溶剂加入带有回流装置的反应釜中，用惰性气体置换釜内空气，后在常压110-120℃下反应3-5小时，再升温至210-220℃，搅拌反应4-7小时；然后抽真空至300-600Pa，加热到235-245℃，再缩聚反应6-10小时，后在水中沉出，抽滤，并用乙醇洗3-6次，再旋蒸除去乙醇，得到降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物。

优选的，所述5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、4-二甲氨基吡啶、高沸点溶剂的摩尔比为1:1:(0.6-0.8):0.5:(15-25)。

优选的，所述高沸点溶剂为N-甲基吡咯烷酮；所述惰性气体为氮气、氩气、氦气中的任意一种。

本发明的另一个目的，在于提供一种所述抗腐蚀金属导电线路光学胶膜的制备方法，包括如下步骤：将各原料按重量份混合均匀后，抽真空排气泡，即得到光学胶，将光学胶依次进行涂布和固化，得到抗腐蚀金属导电线路光学胶膜。

优选的，所述固化具体为：先进行紫外固化，再进行热固化；所述紫外固化是在波长为365nm、光强度为20-110mW/cm

由于上述技术方案的运用，本发明具有以下有益效果：

（1）本发明公开的抗腐蚀金属导电线路光学胶膜的制备方法，工艺易于操作，可大规模生产应用，制备效率和良品率高，对设备依赖性和能耗低，资金投入少。

（2）本发明公开的抗腐蚀金属导电线路光学胶膜，包括如下按重量份计的各原料制成：降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物30-40份、共轭二烯类单体1-3份、巯基化合物4-6份、催化剂0.5-0.8份、2,4,6-三乙烯基环硼氧烷1-3份、氨基封端的超支化聚酰亚胺3-5份、2,6-二(环氧乙烷-2-甲基)-1,2,3,5,6,7-六氢吡咯并[3,4-f]异吲哚-1,3,5,7-四酮0.6-1.2份、抗氧剂0.1-0.4份、溶剂40-60份；通过各原料之间的相互配合，共同作用，使得制成的抗腐蚀金属导电线路光学胶膜耐老化性、耐高温性优异，粘结性能佳，满足抗腐蚀金属导电线路光学胶膜使用要求。

（3）本发明公开的抗腐蚀金属导电线路光学胶膜，所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物是由5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺通过酰胺化缩聚反应制成；在该缩聚物上同时引入降冰片烯基、双环[2.2.1]庚烷基、酰胺基结构，这些结构与其它原料引入的六氢吡咯并[3,4-f]异吲哚-1,3,5,7-四酮、超支化聚酰亚胺、环硼氧烷引入的结构之间相互配合，共同作用，使得制成的光学胶膜耐高温性、耐老化性和粘结性能得到进一步改善。

（4）本发明公开的抗腐蚀金属导电线路光学胶膜，巯基化合物上的巯基能与含有不饱和烯键的降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物和2,4,6-三乙烯基环硼氧烷发生点击反应，同时含有氨基的组分巯基化合物和氨基封端的超支化聚酰亚胺上的氨基能与2,6-二(环氧乙烷-2-甲基)-1,2,3,5,6,7-六氢吡咯并[3,4-f]异吲哚-1,3,5,7-四酮上的环氧基发生环氧开环固化反应，使得光学胶膜分子结构中同时形成多重互穿网络结构，有效提高了胶膜的综合性能和性能稳定性，具体体现在耐高温性、耐老化性和粘结性能更加优异。

具体实施方式

以下描述用于揭露本发明以使本领域技术人员能够实现本发明。以下描述中的优选实施例只作为举例，本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。

实施例1

一种抗腐蚀金属导电线路光学胶膜，包括如下按重量份计的各原料制成：降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物30份、共轭二烯类单体1份、巯基化合物4份、催化剂0.5份、2,4,6-三乙烯基环硼氧烷1份、氨基封端的超支化聚酰亚胺3份、2,6-二(环氧乙烷-2-甲基)-1,2,3,5,6,7-六氢吡咯并[3,4-f]异吲哚-1,3,5,7-四酮0.6份、抗氧剂0.1份、溶剂40份；所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物是由5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺通过酰胺化缩聚反应制成。

所述溶剂为N-甲基吡咯烷酮、丁酮按质量比1:1混合形成的混合物；所述抗氧剂为抗氧剂1010；所述氨基封端的超支化聚酰亚胺是按中国专利文献CN107789677B中实施例1的方法制成；所述催化剂为2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、偶氮二异丁腈按质量比1:3混合形成的混合物。

所述巯基化合物为双巯基乙酸乙二醇酯、2,5-二巯基噻二唑、4,6-二氨基-2-巰基嘧啶按质量比1:1:0.3混合形成的混合物；所述共轭二烯类单体为2-甲基-1,3-丁二烯。

所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物的制备方法，包括如下步骤：将5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、4-二甲氨基吡啶、高沸点溶剂加入带有回流装置的反应釜中，用惰性气体置换釜内空气，后在常压110℃下反应3小时，再升温至210℃，搅拌反应4小时；然后抽真空至300Pa，加热到235℃，再缩聚反应6小时，后在水中沉出，抽滤，并用乙醇洗3次，再旋蒸除去乙醇，得到降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物；所述5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、4-二甲氨基吡啶、高沸点溶剂的摩尔比为1:1:0.6:0.5:15；所述高沸点溶剂为N-甲基吡咯烷酮；所述惰性气体为氮气。通过GPC测试，美国Waters 515-2410测定该缩聚物的Mn=14620g/mol，M

一种所述抗腐蚀金属导电线路光学胶膜的制备方法，包括如下步骤：将各原料按重量份混合均匀后，抽真空排气泡，即得到光学胶，将光学胶依次进行涂布和固化，得到抗腐蚀金属导电线路光学胶膜；所述固化具体为：先进行紫外固化，再进行热固化；所述紫外固化是在波长为365nm、光强度为20mW/cm

实施例2

一种抗腐蚀金属导电线路光学胶膜，包括如下按重量份计的各原料制成：降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物33份、共轭二烯类单体1.5份、巯基化合物4.5份、催化剂0.6份、2,4,6-三乙烯基环硼氧烷1.5份、氨基封端的超支化聚酰亚胺3.5份、2,6-二(环氧乙烷-2-甲基)-1,2,3,5,6,7-六氢吡咯并[3,4-f]异吲哚-1,3,5,7-四酮0.7份、抗氧剂0.2份、溶剂45份；所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物是由5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺通过酰胺化缩聚反应制成。

所述溶剂为N-甲基吡咯烷酮、丁酮按质量比1:1.5混合形成的混合物；所述抗氧剂为抗氧剂168；所述氨基封端的超支化聚酰亚胺是按中国专利文献CN107789677B中实施例1的方法制成；所述催化剂为2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、偶氮二异丁腈按质量比1:3.5混合形成的混合物。

所述巯基化合物为双巯基乙酸乙二醇酯、2,5-二巯基噻二唑、4,6-二氨基-2-巰基嘧啶按质量比1:1:0.35混合形成的混合物；所述共轭二烯类单体为1,3-丁二烯。

所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物的制备方法，包括如下步骤：将5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、4-二甲氨基吡啶、高沸点溶剂加入带有回流装置的反应釜中，用惰性气体置换釜内空气，后在常压113℃下反应3.5小时，再升温至213℃，搅拌反应5小时；然后抽真空至400Pa，加热到238℃，再缩聚反应7小时，后在水中沉出，抽滤，并用乙醇洗4次，再旋蒸除去乙醇，得到降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物。

所述5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、4-二甲氨基吡啶、高沸点溶剂的摩尔比为1:1:0.65:0.5:17；所述高沸点溶剂为N-甲基吡咯烷酮；所述惰性气体为氩气。

一种所述抗腐蚀金属导电线路光学胶膜的制备方法，包括如下步骤：将各原料按重量份混合均匀后，抽真空排气泡，即得到光学胶，将光学胶依次进行涂布和固化，得到抗腐蚀金属导电线路光学胶膜；所述固化具体为：先进行紫外固化，再进行热固化；所述紫外固化是在波长为365nm、光强度为40mW/cm

实施例3

一种抗腐蚀金属导电线路光学胶膜，包括如下按重量份计的各原料制成：降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物35份、共轭二烯类单体2份、巯基化合物5份、催化剂0.65份、2,4,6-三乙烯基环硼氧烷2份、氨基封端的超支化聚酰亚胺4份、2,6-二(环氧乙烷-2-甲基)-1,2,3,5,6,7-六氢吡咯并[3,4-f]异吲哚-1,3,5,7-四酮0.9份、抗氧剂0.25份、溶剂50份；所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物是由5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺通过酰胺化缩聚反应制成。

所述溶剂为N-甲基吡咯烷酮、丁酮按质量比1:2混合形成的混合物；所述抗氧剂为抗氧剂1010；所述氨基封端的超支化聚酰亚胺是按中国专利文献CN107789677B中实施例1的方法制成。

所述催化剂为2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、偶氮二异丁腈按质量比1:4混合形成的混合物；所述巯基化合物为双巯基乙酸乙二醇酯、2,5-二巯基噻二唑、4,6-二氨基-2-巰基嘧啶按质量比1:1:0.4混合形成的混合物；所述共轭二烯类单体为2,3-二甲基-1,3-丁二烯。

所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物的制备方法，包括如下步骤：将5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、4-二甲氨基吡啶、高沸点溶剂加入带有回流装置的反应釜中，用惰性气体置换釜内空气，后在常压115℃下反应4小时，再升温至215℃，搅拌反应5.5小时；然后抽真空至450Pa，加热到240℃，再缩聚反应8小时，后在水中沉出，抽滤，并用乙醇洗5次，再旋蒸除去乙醇，得到降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物。

所述5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、4-二甲氨基吡啶、高沸点溶剂的摩尔比为1:1:0.7:0.5:20；所述高沸点溶剂为N-甲基吡咯烷酮；所述惰性气体为氦气。

一种所述抗腐蚀金属导电线路光学胶膜的制备方法，包括如下步骤：将各原料按重量份混合均匀后，抽真空排气泡，即得到光学胶，将光学胶依次进行涂布和固化，得到抗腐蚀金属导电线路光学胶膜；所述固化具体为：先进行紫外固化，再进行热固化；所述紫外固化是在波长为365nm、光强度为80mW/cm

实施例4

一种抗腐蚀金属导电线路光学胶膜，包括如下按重量份计的各原料制成：降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物38份、共轭二烯类单体2.5份、巯基化合物5.5份、催化剂0.75份、2,4,6-三乙烯基环硼氧烷2.5份、氨基封端的超支化聚酰亚胺4.5份、2,6-二(环氧乙烷-2-甲基)-1,2,3,5,6,7-六氢吡咯并[3,4-f]异吲哚-1,3,5,7-四酮1.1份、抗氧剂0.35份、溶剂55份；所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物是由5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺通过酰胺化缩聚反应制成。

所述溶剂为N-甲基吡咯烷酮、丁酮按质量比1:2.5混合形成的混合物；所述抗氧剂为抗氧剂1010、抗氧剂168按质量比3:5混合形成的混合物；所述氨基封端的超支化聚酰亚胺是按中国专利文献CN107789677B中实施例1的方法制成。

所述催化剂为2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、偶氮二异丁腈按质量比1:4.5混合形成的混合物；所述巯基化合物为双巯基乙酸乙二醇酯、2,5-二巯基噻二唑、4,6-二氨基-2-巰基嘧啶按质量比1:1:0.45混合形成的混合物；所述共轭二烯类单体为2-甲基-1,3-丁二烯、1,3-丁二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯按质量比1:1:3混合形成的混合物。

所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物的制备方法，包括如下步骤：将5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、4-二甲氨基吡啶、高沸点溶剂加入带有回流装置的反应釜中，用惰性气体置换釜内空气，后在常压118℃下反应4.5小时，再升温至218℃，搅拌反应6.5小时；然后抽真空至550Pa，加热到243℃，再缩聚反应9.5小时，后在水中沉出，抽滤，并用乙醇洗6次，再旋蒸除去乙醇，得到降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物。

所述5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、4-二甲氨基吡啶、高沸点溶剂的摩尔比为1:1:0.75:0.5:23；所述高沸点溶剂为N-甲基吡咯烷酮；所述惰性气体为氮气。

一种所述抗腐蚀金属导电线路光学胶膜的制备方法，包括如下步骤：将各原料按重量份混合均匀后，抽真空排气泡，即得到光学胶，将光学胶依次进行涂布和固化，得到抗腐蚀金属导电线路光学胶膜；所述固化具体为：先进行紫外固化，再进行热固化；所述紫外固化是在波长为365nm、光强度为100mW/cm

实施例5

一种抗腐蚀金属导电线路光学胶膜，包括如下按重量份计的各原料制成：降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物40份、共轭二烯类单体3份、巯基化合物6份、催化剂0.8份、2,4,6-三乙烯基环硼氧烷3份、氨基封端的超支化聚酰亚胺5份、2,6-二(环氧乙烷-2-甲基)-1,2,3,5,6,7-六氢吡咯并[3,4-f]异吲哚-1,3,5,7-四酮1.2份、抗氧剂0.4份、溶剂60份；所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物是由5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺通过酰胺化缩聚反应制成。

所述溶剂为N-甲基吡咯烷酮、丁酮按质量比1:3混合形成的混合物；所述抗氧剂为抗氧剂168；所述氨基封端的超支化聚酰亚胺是按中国专利文献CN107789677B中实施例1的方法制成。

所述催化剂为2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、偶氮二异丁腈按质量比1:5混合形成的混合物；所述巯基化合物为双巯基乙酸乙二醇酯、2,5-二巯基噻二唑、4,6-二氨基-2-巰基嘧啶按质量比1:1:0.5混合形成的混合物；所述共轭二烯类单体为1,3-丁二烯。

所述降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物的制备方法，包括如下步骤：将5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、4-二甲氨基吡啶、高沸点溶剂加入带有回流装置的反应釜中，用惰性气体置换釜内空气，后在常压120℃下反应5小时，再升温至220℃，搅拌反应7小时；然后抽真空至600Pa，加热到245℃，再缩聚反应10小时，后在水中沉出，抽滤，并用乙醇洗6次，再旋蒸除去乙醇，得到降冰片烯基双环[2.2.1]庚烷基聚酰胺类缩聚物。

所述5-降冰片烯-2,3-二羧酸、双环[2.2.1]庚烷二甲胺、1-乙基-(3-二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐、4-二甲氨基吡啶、高沸点溶剂的摩尔比为1:1:0.8:0.5:25；所述高沸点溶剂为N-甲基吡咯烷酮；所述惰性气体为氮气。

一种所述抗腐蚀金属导电线路光学胶膜的制备方法，包括如下步骤：将各原料按重量份混合均匀后，抽真空排气泡，即得到光学胶，将光学胶依次进行涂布和固化，得到抗腐蚀金属导电线路光学胶膜；所述固化具体为：先进行紫外固化，再进行热固化；所述紫外固化是在波长为365nm、光强度为110mW/cm

对比例1

一种抗腐蚀金属导电线路光学胶膜，其与实施例1基本相同，不同的是没有添加共轭二烯类单体和氨基封端的超支化聚酰亚胺。

对比例2

一种抗腐蚀金属导电线路光学胶膜，其与实施例1基本相同，不同的是没有添加2,6-二(环氧乙烷-2-甲基)-1,2,3,5,6,7-六氢吡咯并[3,4-f]异吲哚-1,3,5,7-四酮和2,4,6-三乙烯基环硼氧烷。

为了进一步说明本发明各实施例制成的抗腐蚀金属导电线路光学胶膜的有益技术效果，对实施例1-5及对比例1-2制成的抗腐蚀金属导电线路光学胶膜进行相关性能测试，测试样品胶膜厚度为200μm，测试结果见表1，测试方法如下：

（1）把胶膜转移到PET膜上，进行压敏胶粘带180°剥离强度测定，胶粘带剥离力测试标准及方法按照GB/T 7122-1996；

（2）把胶膜转移到PET膜上，贴合于钢板，2kg辊自然往复压合一次，静置20分钟，轻轻的将胶膜撕起，看是否也有胶残余在粘合材料上；

（3）将两面覆有离型膜的胶膜放置在80℃条件下进行烘烤，时间为100小时。再按测试剥离力，观察老化后胶膜的粘性。

（4）耐高温性能：将胶膜与50μm的CPI膜进行紧密贴合，再经150℃/30min烘箱热处理，观察膜翘曲情况。

表1

从表1可见，本发明实施例公开的抗腐蚀金属导电线路光学胶膜，与对比例产品相比，具有更加优异的耐高温性能、耐老化性能和粘结性能，实施例产品剥离力随着80℃下老化后不降反而上升，这是各组分协同作用的结果。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明的范围内。本发明要求的保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。