一种显影清洁剂及其制备方法

技术领域

本发明涉及清洁剂技术领域，具体来说，涉及一种显影清洁剂及其制备方法。

背景技术

PCB广泛应用于信息、通讯、工业、医疗、交通、军工、消费性等电子产品作为重要的电子产品零部件，是电子元器件的主要支撑体及电子元器件电气连接的载体。

在制作PCB过程中会利用影像转移的方式进行曝光作业，将有线路图形的菲林按照PCB板的孔位进行对准并贴在压好干膜的PCB覆铜板上，将贴好菲林的PCB板放入手动曝光机进行曝光，曝光后菲林上的线路图形会转移到PCB板面的干膜上。以此完成影像转移的过程。

在影像转移的过程中需要使用到各类光阻物料，而光阻在使用时存在以下问题：未聚合的光阻会因光、温度、PH值在显影段产生Developer Sludge(显影剂污泥)，从而直接(短路)、间接(外观)影响成品良率及外观问题。

针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

发明内容

针对相关技术中的问题，本发明提出一种显影清洁剂及其制备方法，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。

为此，本发明采用的具体技术方案如下：

根据本发明的一个方面，提供了一种显影清洁剂，该显影清洁剂由以下重量份的原料组成：

纯水75-85份、表面活性剂10-20份、二乙二醇丁醚1-3份、消泡剂0.05-0.15份和丙烯酸钾1-3份。

根据本发明的另一个方面，提供了一种显影清洁剂的制备方法，该制备方法包括以下步骤：

S1、称取预设重量份的纯水、表面活性剂、二乙二醇丁醚、消泡剂和丙烯酸钾，备用；

S2、将备用的所述纯水加入预先备置的反应釜中并搅拌；

S3、向所述反应釜中依次加入表面活性剂、二乙二醇丁醚、消泡剂和丙烯酸钾，并不断搅拌；

S4、当搅拌时间达到预设阈值后，获取适量的混合溶液进行检测；

S5、当质量检测合格后，取出制备后的混合溶液，并进行包装得到所需的显影清洁剂。

进一步的，所述S2中纯水的制备包括以下步骤：

将预先备置的自来水首先通过石英砂进行初步过滤，然后高压通过反渗透膜进行再过滤，最后经过紫外杀菌得到所需的纯水。

进一步的，所述S3中向所述反应釜中依次加入表面活性剂、二乙二醇丁醚、消泡剂和丙烯酸钾，并不断搅拌具体包括以下步骤：

首先向所述反应釜中加入所述表面活性剂，并搅拌预设时间，随后向所述反应釜中继续加入所述二乙二醇丁醚并搅拌预设时间，接着向所述反应釜中继续加入所述消泡剂并搅拌预设时间，最后向所述反应釜中加入所述丙烯酸钾并搅拌预设时间。

进一步的，所述预设时间为7-15分钟，优选的，搅拌时间为10分钟。

进一步的，所述S4中预设阈值为60分钟。

进一步的，所述S5中对显影清洁剂进行包装时采用蓝桶黑盖进行包装，且每个包装桶的承载量为25千克。

其中，本发明所采用的原料组份阐述如下：

表面活性剂：是指是能使目标溶液表面张力显著下降的物质。具有固定的亲水亲油基团，在溶液的表面能定向排列。表面活性剂的分子结构具有两性：一端为亲水基团，另一端为疏水基团；亲水基团常为极性基团，如羧酸、磺酸、硫酸、氨基或胺基及其盐，羟基、酰胺基、醚键等也可作为极性亲水基团；而疏水基团常为非极性烃链，如8个碳原子以上烃链。表面活性剂分为离子型表面活性剂(包括阳离子表面活性剂与阴离子表面活性剂)、非离子型表面活性剂、两性表面活性剂、复配表面活性剂、其他表面活性剂等。

二乙二醇丁醚：是一种有机化合物，能与水以任何比例混溶、溶于乙醇、乙醚、油类和许多其他有机溶剂。常用作硝化棉、清漆、印刷墨、油类、树脂等的溶剂及合成塑料的中间体。

消泡剂：能降低水、溶液、悬浮液等的表面张力，防止泡沫形成，或使原有泡沫减少或消灭的物质。

丙烯酸钾：是一种有机阳离子高分子聚合物，无毒无腐蚀，不易产生粉尘，易溶于水，在钻井中包被、提粘，适用于各种泥浆体系，有较好的防塌作用。

有益效果为：本发明的显影清洁剂为改善干膜/湿膜和油墨反粘的药水，其可以有效抑制溶于显影液的光敏聚合物发生交联反应，避免单体进行交叉结合形成聚合物，从而使槽液中未聚合光阻不会在特定环境下继续发生二次聚合反应，从而降低残胶反粘造成的品质不良比例，此外，本发明的显影清洁剂还可以清洁槽体，使显影图形线边更加齐整光滑，提升品质。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据本发明实施例的一种显影清洁剂的制备方法的流程示意图。

具体实施方式

为进一步说明各实施例，本发明提供有附图，这些附图为本发明揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理，配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本发明的优点，图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。

根据本发明的实施例，提供了一种显影清洁剂。

根据本发明实施例的显影清洁剂，该显影清洁剂由以下重量份的原料组成：

纯水75-85份、表面活性剂10-20份、二乙二醇丁醚1-3份、消泡剂0.05-0.15份和丙烯酸钾1-3份。

为了更清楚的理解本发明的上述技术方案，以下通过具体实例对本发明的上述方案进行详细说明。

实施例一

一种显影清洁剂，该显影清洁剂由以下重量份的原料组成：

纯水75份、表面活性剂10份、二乙二醇丁醚1份、消泡剂0.05份和丙烯酸钾1份。

实施例二

一种显影清洁剂，该显影清洁剂由以下重量份的原料组成：

纯水81.90份、表面活性剂15.00份、二乙二醇丁醚2.00份、消泡剂0.10份和丙烯酸钾2.00份。

实施例三

一种显影清洁剂，该显影清洁剂由以下重量份的原料组成：

纯水85份、表面活性剂20份、二乙二醇丁醚3份、消泡剂0.15份和丙烯酸钾3份。

为了进一步的理解本发明的上述技术方案，现对显影清洁剂的产品优点及相应的原理进行详细说明。

本发明的显影清洁剂具有以下优点：

1)主要成分为抑制剂+抑泡剂，可阻隔显影后干膜/油墨中感光阻剂发生二次聚合，保持槽体清洁；

2)能抑制膜屑反粘到板面，提升产品良率；

3)长期使用，保持槽体无污物粘附，无需清槽剂清槽；

4)操作简单，不含氨氮、磷等，超低COD，安全环保。

本发明中抑制剂的反应机理如下：

1)干膜溶解反应

活性基团羧基(-COOH)与碳酸钠(钾)作用生成亲水基团COONa(COOK)。

2)抑制剂作用

作用于亲水基团COONa(COOK)加强其水溶性，达到抑制其反粘之效果。

本发明的显影清洁剂的制程应用特性如下：

主要用途：降低显影反沾造成的铜渣、短路以及金面漏铜(传动滚轮污染沾膜问题)；

制程应用：适用于各类光阻显影制程(内外层线路显影、防焊显影线)；

功用：对显影液中感光启始剂产生的自由基进行结合，避免单体进行交叉结合形成聚合物；

目的：降低铜渣、蚀刻不洁以及反沾造成的金面漏铜等不良。

根据本发明的实施例，如图1所示，还提供了一种显影清洁剂的制备方法，该制备方法包括以下步骤：

S1、称取预设重量份的纯水、表面活性剂、二乙二醇丁醚、消泡剂和丙烯酸钾，备用；

S2、将备用的所述纯水加入预先备置的反应釜中并搅拌；

其中，所述S2中纯水的制备包括以下步骤：

将预先备置的自来水首先通过石英砂进行初步过滤，然后高压通过反渗透膜进行再过滤，最后经过紫外杀菌得到所需的纯水。

S3、向所述反应釜中依次加入表面活性剂、二乙二醇丁醚、消泡剂和丙烯酸钾，并不断搅拌；

其中，所述S3中向所述反应釜中依次加入表面活性剂、二乙二醇丁醚、消泡剂和丙烯酸钾，并不断搅拌具体包括以下步骤：

首先向所述反应釜中加入所述表面活性剂，并搅拌预设时间，随后向所述反应釜中继续加入所述二乙二醇丁醚并搅拌预设时间，接着向所述反应釜中继续加入所述消泡剂并搅拌预设时间，最后向所述反应釜中加入所述丙烯酸钾并搅拌预设时间。具体的，所述预设时间为7-15分钟。

S4、当搅拌时间达到预设阈值后，获取适量的混合溶液进行检测；具体的，所述预设阈值为60分钟，当搅拌时间达到一个小时以上后便可进行取样检测。

S5、当质量检测合格后，取出制备后的混合溶液，并进行包装得到所需的显影清洁剂。

其中，所述S5中对显影清洁剂进行包装时采用蓝桶黑盖进行包装，且每个包装桶的承载量为25千克。

综上所述，借助于本发明的上述技术方案，本发明的显影清洁剂为改善干膜/湿膜和油墨反粘的药水，其可以有效抑制溶于显影液的光敏聚合物发生交联反应，避免单体进行交叉结合形成聚合物，从而使槽液中未聚合光阻不会在特定环境下继续发生二次聚合反应，从而降低残胶反粘造成的品质不良比例，此外，本发明的显影清洁剂还可以清洁槽体，使显影图形线边更加齐整光滑，提升品质。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。